CN111983889B - 掩膜板装置、显示器、曝光机 - Google Patents
掩膜板装置、显示器、曝光机 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111983889B CN111983889B CN202010805000.4A CN202010805000A CN111983889B CN 111983889 B CN111983889 B CN 111983889B CN 202010805000 A CN202010805000 A CN 202010805000A CN 111983889 B CN111983889 B CN 111983889B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mask plate
- exposure
- baffle
- mark
- metal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
- G03F1/42—Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
本申请公开了一种掩膜板装置、显示器、曝光机。掩膜板装置包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带；刻度尺设于相邻两个曝光区域之间，用于确认首次曝光时挡板遮挡掩膜板的位置；遮光带呈矩形长条，设于掩膜板上且位于刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置。本申请通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带，其不必保留遮光带要保护的图形，即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置，从而提高识别精度，减少识别误差，并能提高生产效率。
Description
技术领域
本申请涉及显示面板制作技术领域，尤其涉及掩膜板装置、显示器、曝光机。
背景技术
使用掩膜板(mask)在玻璃基板上制作图形时，由于每一次曝光不需要用到掩膜板所有区域，因此要使用挡板对掩膜板上下左右的非曝光区域进行遮挡。在产线实际生产时，会在四方挡板设定位置分别摆放挡板位置监控标志(Mask blade accuracy verniermark，MB mark)，来监控挡板位置精度。
图1为目前业内使用的挡板位置监控标志的平面结构示意图，如图1所示，挡板位置监控标志90为带有刻度条状的标识，包括间隔设置的第一金属层标识91、第二金属层标识92、过孔标识93、氧化铟锡层标识94，用于分别形成阵列基板上的栅极、源漏极、走线过孔、阳极等结构。其使用方式是通过拍照，人眼读取照片中挡板所在位置的刻度，但是人眼识别精度低，识别误差高。
发明内容
本申请实施例提供一种掩膜板装置、显示器、曝光机，可以解决现有挡板位置监控标志需要全程人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，而人眼识别精度低、识别误差高的技术问题。
本申请实施例提供一种掩膜板装置，包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带；所述掩膜板内设置有若干曝光区域；所述挡板环绕所述掩膜板设置，并用于遮挡所述掩膜板的非曝光区域；所述刻度尺设于相邻两个所述曝光区域之间，用于确认首次曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；所述遮光带呈矩形长条，设于所述掩膜板上且位于所述刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。其中所述遮光带为在所述掩膜板上只保留矩形长条的遮光带，而不保留原有图形。
在使用时，机台用于根据所述遮光带端部与第一次曝光后曝光区的边缘位置识别非曝光区域内未被曝光的区域长度值，从而根据所述遮光带端部与该边缘位置距离自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。
进一步地，相邻两个所述曝光区域之间相互重叠形成一重叠曝光区，所述遮光带位于所述重叠曝光区内。在连续两次对所述重叠曝光区曝光过程中，遮光带保护一次光阻，挡板挡光部分保护一次光阻，则最终玻璃基板上挡板外图形在后续蚀刻时被洗掉，而挡板下方图形留存，然后机台自动读取留存的图形尺寸，即是挡板的位置精度。
进一步地，所述遮光带设置于所述曝光区域的四角位置。
进一步地，所述遮光带的材质包括不透光金属，所述不透光金属包括铬。
进一步地，所述遮光带包括间隔设置的第一金属层标识、第二金属层标识、过孔标识以及氧化铟锡层标识。
进一步地，所述第一金属层标识、所述第二金属层标识、所述过孔标识以及所述氧化铟锡层标识之间等距离间隔设置，间隔的距离为50um-100um。
进一步地，所述第一金属层标识、所述第二金属层标识、所述过孔标识以及所述氧化铟锡层标识的长度相同，其长度均为5000um-10000um；所述第一金属层标识的宽度范围为30um-60um；所述第二金属层标识的宽度范围为70um-90um；所述过孔标识的宽度范围为110um-130um；所述氧化铟锡层标识的宽度范围为140um-160um。
进一步地，所述刻度尺的中心设置为零点，向两端延伸均匀设置有相同的刻度值；所述刻度尺的刻度值为毫米级或微米级。所述刻度尺的长度大于所述曝光区域边长的长度。
本申请还提供一种使用前文所述掩膜板装置的显示器，所述显示器设有相对设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板的图形通过前文所述掩膜板装置曝光形成。
本申请还提供一种曝光机，其包括前文所述的掩膜版装置。
本申请的有益效果在于，本申请提供一种掩膜板装置、显示器、曝光机，通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带，其不必保留遮光带要保护的图形，即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置，而不需要全程人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，从而提高识别精度，减少识别误差，并能提高生产效率。在进行曝光制程时，遮光带和挡板各保护一次光阻，使得仅挡板下方有图形留存，通过监控留在玻璃基板上的实作图形尺寸，便可在线监控挡板位置。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为目前业内使用的挡板位置监控标志的平面结构示意图。
图2为本申请实施例中所述遮光带的平面结构示意图。
图1中的标识如下：
90、挡板位置监控标志，91、第一金属层标识，
92、第二金属层标识，93、过孔标识，94、氧化铟锡层标识；
图2中的标识如下：
10、遮光带，1、第一金属层标识，2、第二金属层标识，
3、过孔标识，4、氧化铟锡层标识。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
具体的，本申请实施例提供一种掩膜板装置，包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带；所述掩膜板内设置有若干曝光区域；所述挡板环绕所述掩膜板设置，并用于遮挡所述掩膜板的非曝光区域；所述刻度尺设于相邻两个所述曝光区域之间，用于确认首次曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；所述遮光带呈矩形长条，设于所述掩膜板上且位于所述刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。
若只设置挡板，则会在实际曝光时，所述挡板会伸到相邻曝光区域里面去，曝光机入射光经过挡板边缘，会发生衍射效应而产生灰区，灰区衍射光就会与灰区的光阻发生反应。而这部分光阻此时不应该被反应掉，因此需要使用遮光带对其进行保护。
其中所述遮光带为在所述掩膜板上只保留矩形长条的遮光带，而不保留原有图形。在使用人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度情况下，是既有遮光带，又有遮光带要保护的图形。本申请在此基础上新增至少一呈矩形长条的遮光带，只保留其遮光带外形，不保留遮光带要保护的原有图形，就是把新增遮光带的原有图形先画好，然后生成所述遮光带后把原有图形删了。在首次曝光时，采用人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，故需要刻度尺进行位置识别；在第二次及第二次以后曝光时，则机台可根据首次曝光的区域进行自动识别。
在使用时，机台用于根据所述遮光带端部与第一次曝光后曝光区的边缘位置识别非曝光区域内未被曝光的区域长度值，从而根据所述遮光带端部与该边缘位置距离自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。
本申请实施例中，相邻两个所述曝光区域之间相互重叠形成一重叠曝光区，所述遮光带位于所述重叠曝光区内。在连续两次对所述重叠曝光区曝光过程中，遮光带保护一次光阻，挡板挡光部分保护一次光阻，则最终玻璃基板上挡板外图形在后续蚀刻时被洗掉，而挡板下方图形留存，然后机台自动读取留存的图形尺寸，即是挡板的位置精度。
本申请实施例中，所述遮光带设置于所述曝光区域的四角位置，这样可节省空间。可理解的，所述刻度尺也设置于所述曝光区域的四角位置。优选地，所述刻度尺及所述遮光带均设置在重叠曝光区内。
本申请实施例中，所述遮光带的材质包括不透光金属，所述不透光金属包括铬，起到不透光的遮光效果。
如图2所示，本申请实施例中，所述遮光带10包括间隔设置的第一金属层标识1、第二金属层标识2、过孔标识3以及氧化铟锡层标识4。
如图2所示，本申请实施例中，所述第一金属层标识1、所述第二金属层标识2、所述过孔标识3以及所述氧化铟锡层标识4之间等距离间隔设置，间隔的距离为50um-100um。
如图2所示，本申请实施例中，所述第一金属层标识1、所述第二金属层标识2、所述过孔标识3以及所述氧化铟锡层标识4的长度相同，所述第一金属层标识1、所述第二金属层标识2、所述过孔标识3以及所述氧化铟锡层标识4的长度均为5000um-10000um，优选为6000um；所述第一金属层标识1的宽度范围为30um-60um，优选为50um；所述第二金属层标识2的宽度范围为70um-90um，优选为80um；所述过孔标识3的宽度范围为110um-130um，优选为120um；所述氧化铟锡层标识4的宽度范围为140um-160um，优选为150um。
本申请实施例中，请参考图1，所述刻度尺的中心设置为零点，向两端延伸均匀设置有相同的刻度值；所述刻度尺的刻度值为毫米级或微米级。所述刻度尺的长度大于所述曝光区域边长的长度。
本申请所述掩膜板装置通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带，其不必保留遮光带要保护的图形，即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置，而不需要全程人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，从而提高识别精度，减少识别误差，并能提高生产效率。在进行曝光制程时，遮光带和挡板各保护一次光阻，使得仅挡板下方有图形留存，通过监控留在玻璃基板上的实作图形尺寸，便可在线监控挡板位置。
本申请还提供一种使用前文所述掩膜板装置的显示器，所述显示器设有相对设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板的图形通过前文所述掩膜板装置曝光形成。
所述显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框，导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述实施例，重复之处不再赘述。
其中，所述彩膜基板和/或阵列基板的图形在曝光时均需设置光阻进行遮挡下方的膜层，在连续两次对所述重叠曝光区曝光过程中，遮光带保护一次光阻，挡板挡光部分保护一次光阻，则最终玻璃基板上挡板外图形在后续蚀刻时被洗掉，而挡板下方图形留存，然后机台自动读取留存的图形尺寸，即是挡板的位置精度。在进行曝光制程时，遮光带和挡板各保护一次光阻，使得仅挡板下方有图形留存，通过监控留在玻璃基板上的实作图形尺寸，便可在线监控挡板位置。
本申请还提供一种曝光机，其包括前文所述的掩膜版装置。可理解的是，所述曝光机还包括光源、掩膜板支撑架等结构。
本申请的有益效果在于，本申请提供一种掩膜板装置、显示器、曝光机，通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带，其不必保留遮光带要保护的图形，即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置，而不需要全程人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，从而提高识别精度，减少识别误差，并能提高生产效率。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种掩膜板装置、显示器、曝光机进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (9)
1.一种掩膜板装置，其特征在于，包括：
掩膜板，其内设置有若干曝光区域；
挡板，环绕所述掩膜板设置，并用于遮挡所述掩膜板的非曝光区域；
至少一刻度尺，设于相邻两个所述曝光区域之间，用于确认首次曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；
至少一遮光带，呈矩形长条，设于所述掩膜板上且位于所述刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；
其中，所述遮光带包括间隔设置的第一金属层标识、第二金属层标识、过孔标识以及氧化铟锡层标识。
2.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，相邻两个所述曝光区域之间相互重叠形成一重叠曝光区，所述遮光带位于所述重叠曝光区内。
3.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述遮光带设置于所述曝光区域的四角位置。
4.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述遮光带的材质包括不透光金属，所述不透光金属包括铬。
5.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述第一金属层标识、所述第二金属层标识、所述过孔标识以及所述氧化铟锡层标识之间等距离间隔设置，间隔的距离为50μm-100μm 。
6.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述第一金属层标识、所述第二金属层标识、所述过孔标识以及所述氧化铟锡层标识的长度相同，其长度均为5000μm -10000μm；所述第一金属层标识的宽度范围为30μm -60μm ；所述第二金属层标识的宽度范围为70μm-90μm ；所述过孔标识的宽度范围为110μm -130μm ；所述氧化铟锡层标识的宽度范围为140μm -160μm 。
7.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述刻度尺的中心设置为零点，向两端延伸均匀设置有相同的刻度值；所述刻度尺的刻度值为毫米级或微米级。
8.一种使用权利要求1-7任一项所述掩膜板装置的显示器，其特征在于，所述显示器设有相对设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板的图形通过权利要求1-7任一项所述掩膜板装置曝光形成。
9.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1－7任一项所述的掩膜版装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010805000.4A CN111983889B (zh) | 2020-08-12 | 2020-08-12 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010805000.4A CN111983889B (zh) | 2020-08-12 | 2020-08-12 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111983889A CN111983889A (zh) | 2020-11-24 |
| CN111983889B true CN111983889B (zh) | 2023-02-03 |
Family
ID=73435257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010805000.4A Active CN111983889B (zh) | 2020-08-12 | 2020-08-12 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111983889B (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW201001062A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-01 | Au Optronics Corp | Alignment mark on the mask and method for identifying the position of shielding elements via alignment mark |
| CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
| CN103345117A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-10-09 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜版及液晶显示器制造方法 |
| CN104199251A (zh) * | 2014-09-26 | 2014-12-10 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜板装置及使用该掩膜板的液晶显示器 |
| CN107748479A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-03-02 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4439690B2 (ja) * | 2000-07-19 | 2010-03-24 | Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 | 実効σ計測用レチクル及び実効σのバラツキの算出方法 |
| JP2004047687A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Renesas Technology Corp | 露光方法 |
-
2020
- 2020-08-12 CN CN202010805000.4A patent/CN111983889B/zh active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW201001062A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-01 | Au Optronics Corp | Alignment mark on the mask and method for identifying the position of shielding elements via alignment mark |
| CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
| CN103345117A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-10-09 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜版及液晶显示器制造方法 |
| CN104199251A (zh) * | 2014-09-26 | 2014-12-10 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜板装置及使用该掩膜板的液晶显示器 |
| CN107748479A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-03-02 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111983889A (zh) | 2020-11-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110416272B (zh) | 显示面板及显示装置 | |
| US8921013B2 (en) | System and method for test pattern for lithography process | |
| US11315882B2 (en) | Alignment mark, substrate and manufacturing method therefor, and exposure alignment method | |
| CN108321088B (zh) | 触控基板的制造方法、触控基板及显示装置 | |
| CN112071861A (zh) | 一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板 | |
| CN111652196B (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
| CN111983889B (zh) | 掩膜板装置、显示器、曝光机 | |
| US20070148565A1 (en) | Method for manufacturing a color filter | |
| CN110579901B (zh) | 彩膜基板及其制造方法、显示装置 | |
| US5237393A (en) | Reticle for a reduced projection exposure apparatus | |
| CN110703489A (zh) | 掩膜版和显示面板及其制备方法 | |
| JP2003066589A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法 | |
| KR20230120090A (ko) | Fpd용의 포토마스크, fpd용의 포토마스크에 있어서의 위치 계측용 마크의 형성 방법 및 fpd용의 포토마스크의 제조 방법 | |
| US8822104B2 (en) | Photomask | |
| CN114256209A (zh) | 一种大尺寸芯片设计版图结构 | |
| CN101231459A (zh) | 光刻工艺监测标记用光掩模图案及其应用 | |
| CN107065428B (zh) | 用于形成色阻层、黑矩阵的拼接单元光罩 | |
| JP2005084492A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法 | |
| KR100392071B1 (ko) | 피치가 최소패턴폭보다 좁고 패턴인식이 최소폭보다 넓은 식별패턴을 갖는 레티클 | |
| CN217333104U (zh) | 掩膜板、彩膜基板、显示面板和显示装置 | |
| CN110764376B (zh) | 显示面板及其制作方法 | |
| KR102193506B1 (ko) | 포토마스크, 포토마스크 블랭크, 포토마스크의 제조 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
| JP2002162730A (ja) | レティクル、該レティクルを用いた露光方法、及び該露光方法を用いて作製した半導体装置 | |
| JPH0812416B2 (ja) | マスク | |
| CN109491219B (zh) | 一种掩膜版 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |