CN111830788B - 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法 - Google Patents

抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111830788B
CN111830788B CN201910309629.7A CN201910309629A CN111830788B CN 111830788 B CN111830788 B CN 111830788B CN 201910309629 A CN201910309629 A CN 201910309629A CN 111830788 B CN111830788 B CN 111830788B
Authority
CN
China
Prior art keywords
air outlet
fixed frame
gap
pumping
moving frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910309629.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111830788A (zh
Inventor
丛国栋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN201910309629.7A priority Critical patent/CN111830788B/zh
Publication of CN111830788A publication Critical patent/CN111830788A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111830788B publication Critical patent/CN111830788B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明涉及一种抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法，所述抽排间隙调整装置包括运动框架、固定框架以及调整单元，运动框架相对于固定框架作往复运动，调整单元设置于运动框架与固定框架之间，以调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度。本发明可将运动框架与固定框架之间的间隙进行动态密封，有利于将运动框架与固定框架之间的间隙调整到所需要的最小程度，甚至可以实现完全密封，从而极大地提升热量的抽排效率。

Description

抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法
技术领域
本发明涉及光刻设备技术领域，尤其涉及一种抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法。
背景技术
在光刻设备中，曝光台的下方设置平衡质量体，平衡质量体由气浮垫支撑在固定框架的上方，曝光台运动时产生的热量由固定框架内设置的风扇抽排到外界。平衡质量体与固定框架之间的间隙大小，会直接影响到热量的抽排效果，间隙越小，被抽排的热量越多，抽排效果越好。然而，曝光台在实际使用中，很难保证平衡质量体与固定框架之间的间隙为较小值，实际能达到的标准通常为几毫米，以至于影响了抽排效果。
因此需要设计特定的结构以减小平衡质量体与固定框架之间的间隙，从而改善热量抽排效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抽排间隙调整装置，有利于减小平衡质量体与固定框架之间的间隙。
为了达到上述目的，本发明提供了一种抽排间隙调整装置，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度。
可选的，所述运动框架包括顶板、侧板及底板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。
可选的，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述防护板设置于所述固定框架上并位于所述第一出风口与所述第二出风口之间，所述密封圈设置于所述底板上，且所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上。
可选的，所述底板靠近所述固定框架的一侧环绕所述第一出风口设置有卡槽，所述密封圈卡设于所述卡槽内。
可选的，所述防护板的中心设置有通风孔，所述通风孔对准所述第一出风口及所述第二出风口。
可选的，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，所述密封件设置于所述底板上，多个所述调整螺钉设置于所述密封件上，旋转所述调整螺钉使所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。
可选的，所述密封件包括第一部、第二部及连接所述第一部与所述第二部的连接部，所述连接部设置于所述第一出风口中，所述第一部位于所述抽排腔中且架设于所述底板上，所述第二部位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。
可选的，所述调整单元还包括多个锁紧螺钉，所述密封件的第一部上周向设置有多个通孔，多个所述锁紧螺钉穿过多个所述通孔并旋入所述底板中，以固定所述密封件的位置。
可选的，所述调整单元还包括多个导向柱，所述密封件的第一部上周向设置有多个导向孔，多个所述导向柱对应设置于多个所述导向孔中并与所述底板连接，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。
可选的，所述第一出风口的内壁与所述连接部的外壁之间的距离小于0.5mm，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。
本发明还提供了一种光刻设备，包括曝光台及如上所述的抽排间隙调整装置，所述抽排间隙调整装置调整所述运动框架与所述固定框架之间的间隙的密封程度，以提升对所述曝光台在运动时产生的热量进行抽排的效率。
本发明还提供了一种抽排间隙调整方法，采用如上所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度。
可选的，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上，通过所述密封圈对所述运动框架与所述固定框架之间进行密封。
可选的，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，通过旋转所述调整螺钉使所述密封件沿第一出风口的轴向方向运动，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的密封程度。
本发明通过在所述运动框架与所述固定框架之间设置调整单元，可将运动框架与固定框架之间的间隙进行动态密封，有利于将运动框架与固定框架之间的间隙调整到所需要的最小程度，甚至可以减为零，从而提升热量的抽排效率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种抽排间隙调整装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种抽排间隙调整装置的结构示意图；
图3为图2中密封件的A-A向视图；
图4为本发明实施例提供的又一种抽排间隙调整装置的结构示意图；
图5为图4中密封件的B-B向视图；
图中：
10-运动框架；11-顶板；111-抽排孔；12-侧板；13-底板；131-第一出风口；14-抽排腔；
20-固定框架；21-第二出风口；
30-调整单元；31-防护板；311-通风孔；32-密封圈；33-密封件；331-第一部；332-连接部；333-第二部；34-调整螺钉；35-导向柱；36-锁紧螺钉；
40-风扇。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
图1为本发明实施例提供的一种抽排间隙调整装置的结构示意图。如图1所示，一种抽排间隙调整装置，包括运动框架10、固定框架20以及调整单元30，所述运动框架10能够相对于所述固定框架20作往复运动，即所述固定框架20固定，所述运动框架10沿着所述固定框架20的长度方向(图1中垂直于纸面的方向)往复运动，所述调整单元30设置于所述运动框架10与所述固定框架20之间，以调整所述运动框架10与所述固定框架20之间的密封程度。
继续参考图1，所述运动框架10包括顶板11、侧板12及底板13，所述侧板12与所述底板13形成一抽排腔14，所述底板13上设置有第一出风口131，所述第一出风口131与所述抽排腔14连通，所述固定框架20上设置有第二出风口21，所述第二出风口21与所述第一出风口131连通。
具体的，所述顶板11上设置有若干抽排孔111，所述抽排孔111与所述抽排腔14连通，固定框架20中设置有风扇40，通过风扇40将所述运动框架10的顶板11处的热量依次通过所述抽排孔111、抽排腔14、第一出风口131及第二出风口21，被抽排到外界。因此，所述运动框架10与所述固定框架20之间的密封程度，直接影响到所述第一出风口131与所述第二出风口21之间的间隙密封程度。所述第一出风口131与所述第二出风口21均呈圆形，且所述第一出风口131与所述第二出风口21的直径不同(可以是第一出风口131的直径大于第二出风口21，也可以是第二出风口21的直径大于第一出风口131)，且直径较大的出风口的端面面积覆盖直径较小的出风口的端面面积。
如图1所示，所述调整单元30包括密封圈32和防护板31，所述防护板31设置于所述固定框架20上并位于所述第一出风口131与所述第二出风口21之间，所述密封圈32设置于所述底板13上，且所述密封圈32被所述运动框架10压紧于所述防护板31上。所述防护板31的形状不作特别限定，其可以为矩形、圆形等，并且所述防护板31优选由低摩擦、自润滑且耐磨性好的材料制成，例如特氟龙(聚四氟乙烯)、尼龙、PEEK(聚醚醚酮)、POM(聚甲醛)等。所述运动框架10相对于所述固定框架20运动时，使所述密封圈32在防护板31上运动，不会对密封圈32造成损伤，且所述密封圈32受到所述运动框架10的重力，压于所述防护板31上，从而使所述密封圈32与所述防护板31形成密封腔室。
所述底板13靠近所述固定框架20的一侧设置有卡槽，所述卡槽呈圆弧形，且环绕所述第一出风口131设置，所述密封圈32卡设于所述卡槽内。这样，所述密封圈32与所述固定框架20连接，当所述运动框架10相对于所述固定框架20运动时，实现所述运动框架10与所述固定框架20的动态密封，从而使运动框架10的第一出风口131与固定框架20的第二出风口21之间的气体间隙减小到零，实现完全密封。
所述防护板31的中心设置有通风孔311，所述通风孔311对准所述第一出风口131及所述第二出风口21，具体的，所述通风孔311用于使所述第一出风口131抽排的热量气体穿过所述防护板31，并进入所述第二出风口21，且在优选方案中，所述通风孔311呈圆形，所述通风孔311的直径大于所述第一出风口131及所述第二出风口21的直径，以避免降低出风时的通过面积而影响抽排效率。
图2为本发明实施例提供的另一种抽排间隙调整装置的结构示意图。如图2所示，所述调整单元30包括密封件33和多个调整螺钉34，所述密封件33设置于所述第一出风口131内，多个所述调整螺钉34设置于所述密封件33上，旋转所述调整螺钉34可使所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向运动。
具体的，所述密封件33周向上设置有多个第一螺孔，用于安装多个所述调整螺钉34，本实施例中，间隔设置有3个调整螺钉34，所述调整螺钉34顶住所述底板13，旋转所述调整螺钉34可以使所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向运动，从而调整密封件33与所述固定框架20之间的距离。
所述密封件33包括第一部331、第二部333及连接所述第一部331与所述第二部333的连接部332，所述连接部332呈柱形并具有一空腔，所述连接部332设置于所述第一出风口131中，所述第一部331位于所述抽排腔14中且架设于所述底板13上，所述第二部333位于所述第一出风口131与所述第二出风口21之间，本实施例中，所述第一部331及所述第二部333均呈圆环形。通过改变密封件33的连接部332的移动位置，能够调整所述第一出风口131与所述第二出风口21之间的密封间隙大小，只需通过旋转调整螺钉34以调整所述密封件33的第二部333相对于所述固定框架20的距离，即可调整所述第一出风口131与所述第二出风口21之间的密封程度；若需要将所述第一出风口131与所述第二出风口21之间的气体间隙调整为零，即实现完全密封，只需调节所述调整螺钉34，直至所述密封件33的第二部333与所述固定框架20完全接触即可。
图3为图2中密封件的A-A向视图。结合图2和图3所示，所述调整单元30还包括多个锁紧螺钉36，所述密封件33的第一部331上周向设置有多个通孔，多个所述锁紧螺钉36穿过多个所述通孔并旋入所述底板13中，以限定所述密封件33的位置。具体的，所述运动框架10的底板13上沿所述第一出风口131的周向设置有多个第二螺孔，用于安装多个所述锁紧螺钉36。本实施例中，如图3所示，在所述第一部331上对称设置有2个锁紧螺钉36，且这2个锁紧螺钉36穿过所述密封件33上的通孔并旋入所述底板13的第二螺孔中。当所述调整螺钉34调整所述密封件33的位置后，通过所述锁紧螺钉36将所述密封件33与所述底板13固定。
继续参考图3所示，所述调整单元30还包括多个导向柱35，所述密封件33的第一部331上周向设置有多个导向孔，多个所述导向柱35对应设置于多个所述导向孔中并与所述底板13连接，以限定所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向运动。本实施例中，所述第一部331上沿周向均布设置3个导向孔，相应地，3个导向柱35对应设置于3个导向孔中，所述导向柱35与所述导向孔间隙配合，对所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向的运动起到导向作用。
较佳的，所述第一出风口131的内壁与所述连接部332的外壁之间的距离小于0.5mm，以限定所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向运动。
图4为本发明实施例提供的又一种抽排间隙调整装置的结构示意图，图5为图4中密封件的B-B向视图，与图2所示不同，在该抽排间隙调整装置中，去除所述导向柱35，在所述密封件33上仅设置调整螺钉34及锁紧螺钉36，通过使第一出风口131的内壁与所述连接部332的外壁之间的小间隙配合(小于0.5mm)，实现对所述密封件33沿所述第一出风口131的轴向方向的运动起到导向作用。
发明人采用仿真软件进行仿真对比，发现当所述间隙从8mm降到3mm时，所述第一出风口131与所述第二出风口21内的真空度都有显著提升，对热空气的抽排效果更佳。
本发明实施例还提供了一种光刻设备，包括曝光台及如上所述的抽排间隙调整装置，所述抽排间隙调整装置调整所述运动框架与所述固定框架之间的间隙的密封程度，以提升对所述曝光台在运动时产生的热量进行抽排的效率。
其中，所述运动框架设置于所述曝光台的下方，且所述运动框架由一气浮垫支撑在固定框架的上方，并且，所述运动框架随所述曝光台一起相对于所述固定框架作往复运动，曝光台运动时产生的热量由所述固定框架内设置的风扇抽排到外界。
本发明实施例还提供了一种抽排间隙调整方法，采用如上所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度。一种方案中，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上，通过所述密封圈对所述运动框架与所述固定框架之间进行密封。另一种方案中，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，通过旋转所述调整螺钉使所述密封件沿第一出风口的轴向方向运动，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的密封程度。
综上，在本发明实施例提供的抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法中，通过在所述运动框架与所述固定框架之间设置调整单元，可将运动框架与固定框架之间的间隙进行动态密封，有利于将运动框架与固定框架之间的间隙调整到所需要的最小程度，甚至可以减为零，从而提升热量的抽排效率。
需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种抽排间隙调整装置，其特征在于，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度；所述运动框架包括底板，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述防护板设置于所述固定框架上，所述密封圈设置于所述底板上，且所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上。
2.如权利要求1所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述运动框架包括顶板及侧板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。
3.如权利要求2所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述防护板位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。
4.如权利要求3所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述底板靠近所述固定框架的一侧环绕所述第一出风口设置有卡槽，所述密封圈卡设于所述卡槽内。
5.如权利要求3所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述防护板的中心设置有通风孔，所述通风孔对准所述第一出风口及所述第二出风口。
6.一种抽排间隙调整装置，其特征在于，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度；所述运动框架包括底板，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，所述密封件设置于所述底板上，多个所述调整螺钉设置于所述密封件上，旋转所述调整螺钉使所述密封件沿轴向方向运动。
7.如权利要求6所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述运动框架包括顶板及侧板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。
8.如权利要求7所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述密封件包括第一部、第二部及连接所述第一部与所述第二部的连接部，所述连接部设置于所述第一出风口中，所述第一部位于所述抽排腔中且架设于所述底板上，所述第二部位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。
9.如权利要求8所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述调整单元还包括多个锁紧螺钉，所述密封件的第一部上周向设置有多个通孔，多个所述锁紧螺钉穿过多个所述通孔并旋入所述底板中，以固定所述密封件的位置。
10.如权利要求9所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述调整单元还包括多个导向柱，所述密封件的第一部上周向设置有多个导向孔，多个所述导向柱对应设置于多个所述导向孔中并与所述底板连接，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。
11.如权利要求9所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述第一出风口的内壁与所述连接部的外壁之间的距离小于0.5mm，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。
12.一种光刻设备，其特征在于，包括曝光台及如权利要求1-11中任一项所述的抽排间隙调整装置，所述抽排间隙调整装置调整所述运动框架与所述固定框架之间的间隙的密封程度，以提升对所述曝光台在运动时产生的热量进行抽排的效率。
13.一种抽排间隙调整方法，其特征在于，采用如权利要求1-5中任一项所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度，通过所述密封圈对所述运动框架与所述固定框架之间进行密封。
14.一种抽排间隙调整方法，其特征在于，采用如权利要求6-11中任一项所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度，通过旋转所述调整螺钉使所述密封件沿轴向方向运动，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的密封程度。
CN201910309629.7A 2019-04-17 2019-04-17 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法 Active CN111830788B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910309629.7A CN111830788B (zh) 2019-04-17 2019-04-17 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910309629.7A CN111830788B (zh) 2019-04-17 2019-04-17 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111830788A CN111830788A (zh) 2020-10-27
CN111830788B true CN111830788B (zh) 2021-11-12

Family

ID=72914863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910309629.7A Active CN111830788B (zh) 2019-04-17 2019-04-17 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111830788B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007017632A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
CN104020643A (zh) * 2013-03-01 2014-09-03 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置
CN104238277A (zh) * 2013-06-19 2014-12-24 上海微电子装备有限公司 一种浸没式光刻机及其流场维持方法
CN104793466A (zh) * 2014-01-20 2015-07-22 上海微电子装备有限公司 一种用于浸没式光刻机的流体限制机构

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8253922B2 (en) * 2006-11-03 2012-08-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Immersion lithography system using a sealed wafer bath

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007017632A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
CN104020643A (zh) * 2013-03-01 2014-09-03 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置
CN104238277A (zh) * 2013-06-19 2014-12-24 上海微电子装备有限公司 一种浸没式光刻机及其流场维持方法
CN104793466A (zh) * 2014-01-20 2015-07-22 上海微电子装备有限公司 一种用于浸没式光刻机的流体限制机构

Also Published As

Publication number Publication date
CN111830788A (zh) 2020-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111830788B (zh) 抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法
AU2011256835B2 (en) Low ice pneumatic motor exhaust muffler
JP5859041B2 (ja) 真空ポンプ
KR940020484A (ko) 이시알 장비
KR102519969B1 (ko) 어댑터 및 진공 펌프
CN112144037B (zh) 半导体设备
US20100122603A1 (en) Aerostatically Guided Table System for Vacuum Application
CN112810862A (zh) 一种全自动压盖机的压盖机构
EP3643926B1 (en) Fan device
TW493053B (en) Lateral stress relief mechanism for vacuum bellows
CN116351833A (zh) 晶圆分析***及使用方法、晶圆分析用的喷嘴
CN209181555U (zh) 一种凝汽器抽真空装置
WO2014164433A1 (en) Floating high vacuum seal cartridge
CN108581917B (zh) 圆柱形橡胶保护套装配装置及装配方法
CN209340199U (zh) 具有环形进气腔的轴承座装配结构及压缩机
CN209672529U (zh) 一种厂房通风装置
CN211102145U (zh) 一种激光加工设备的新型抽风机构
KR101289718B1 (ko) 진공터보펌프용 로터
CN203548265U (zh) 一种叶片非均匀分布的外转子轴流风机
US10670047B2 (en) Centrifugal fan
RU2515937C1 (ru) Высоковакуумный пост для откачки электровакуумных приборов
CN219163341U (zh) 真空吸料组件及分选机
JP4085815B2 (ja) 接着剤硬化防止方法および装置
CN219549171U (zh) 微风扇双环出风结构
CN209800348U (zh) 一种离心泵叶轮安装固定装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant