CN111788160A - 用于壁炉***物的玻璃陶瓷板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及旨在用于装配壁炉***物、火炉、壁炉、锅炉、加热设备、炉膛或等效类型装置和/或涉及用作防火（或火焰）阻挡物的板，所述板由至少一个玻璃陶瓷基材形成，在玻璃陶瓷基材至少一个面上涂覆有以下层的叠层：1.第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，2.氧化铟锡层，厚度小于100 nm，3.第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。本发明还涉及用于获得所述板的方法，以及包含所述板的设备。

Description

用于壁炉***物的玻璃陶瓷板及其制备方法
本发明涉及玻璃陶瓷领域。更确切地说，本发明涉及一种用于高温设备的玻璃陶瓷板，特别地涉及用于装配壁炉***物(insert de chminée)、火炉(poêle)、壁炉(chminée)、锅炉(chaudière)、加热设备、炉膛(foyer)或等效物类型装置和/或用作防火（或火焰）阻挡物的板，所述板通常构成所述装置的前玻璃，如果需要，所述板可以是弧形的或弯曲的，并且如果需要，可以提供装饰性或功能性附件或其用途所需的其他元件。本发明还涉及用于制备所述板的方法。
玻璃陶瓷最初是玻璃，称为前体玻璃或母玻璃或生玻璃，其特定的化学组成使得可以通过适当的热处理实现受控的结晶，称为陶瓷化。这种特定的部分结晶的结构赋予了玻璃陶瓷独特的性能。
传统上，玻璃陶瓷板用作炉灶面，但它们也可用于其他应用，例如形成壁炉***物。
为了利用观察在***式装置内运行的壁炉的乐趣，它们通常配备有窗户或玻璃部件，尤其是在装置的前立面上，更通常安装在门上，以方便进入壁炉，该窗户可以特别地由玻璃或玻璃陶瓷制成，这些材料具有良好的耐热性和低的热膨胀系数。在开放式壁炉类型的装置中，由这些材料之一制成的火焰阻挡物也可以提供相同的视野和保护功能。
使用这些设备或***时，玻璃部件尤其可以达到高达600℃的温度。出于安全性和加热最佳化的原因，已知为这些玻璃部件提供反射热（即热/红外辐射）的涂层，例如基于金属氧化物的涂层，如果需要，可以对其进行掺杂，例如氧化锡涂层，特别是掺杂的氧化锡或氧化锡铟（或掺杂锡的氧化铟）等，这些涂层的厚度通常为几百纳米。
在所述玻璃部件上添加这种红外辐射-反射涂层具有多个优点，例如降低所述部件上和周围的可感知温度，提高用户舒适度和安全性，改善和优化燃烧，减少空气中细颗粒的数量，减少窗口受到热解作用的污染，等。
然而，除了有时高昂的成本外，大多数这些涂层的缺点在于，由于它们经受较大的温度变化这一事实，其性能会随着时间而变劣。当它们在高温下长时间加热时，通常会失去反射作用，例如壁炉***物的情况。特别地，在高于250℃的温度下使用约100小时后，即使被另一层作为阻挡层或保护层保护，它们也会失去其反射/低热辐射特性。
另外，当将所述玻璃陶瓷弯曲时，将这些涂层添加到玻璃陶瓷上会引起问题，例如，通常不可能在弯曲和陶瓷化之前添加这些涂层，因为这些涂层可能在陶瓷化过程中被破坏，并且在陶瓷化之后添加它们在获得均匀厚度方面存在后续问题。
因此，本发明寻求开发改进的玻璃陶瓷产品，特别地旨在用于高温设备或装置（装配壁炉***物(insert de chminée)、火炉(poêle)、壁炉(chminée)、锅炉(chaudière)、加热设备、炉膛(foyer)或等效物类型装置和/或用作防火阻挡物）中的新玻璃陶瓷板，这些板不会出现这些老化问题，并且在高温和长时间的使用下有效反射红外辐射（热辐射）而不会降低其低发射率特性，并且不损害所考虑的应用所需其他性能（对玻璃陶瓷板和/或获得它们的方法的修改或它们与具有不同特性的其他材料的结合，这实际上可能对所寻求的其他性能有害），例如在可见光范围内的波长具有足够的透射率（在设备内保留活动壁炉的吸引人的视觉外观），足够的机械强度（耐压力，抗冲击等），并且易于维护和清洁。
该目的已经通过根据本发明的板实现，该板旨在装配壁炉***物，火炉，壁炉，锅炉，加热设备、炉膛或等效物类型的装置和/或用作防火阻挡物，所述板由以下材料制成（或包括）：至少一个玻璃陶瓷基材，在其至少一个面上涂覆有以下层的叠层：
1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，包括端点，
2）氧化铟锡（ITO）层，厚度小于100 nm，
3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内，包括端点。
有利地，另外，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一层中的氧含量小于1重量％。该层中的氧含量通过微量分析来评估，特别是通过二次离子质谱法（SIMS），特别是使用IONTOF公司出售的TQF SIMS 5光谱仪来评估。
层的顺序有利地是引用的层的顺序，即1/2/3，该顺序即是从基材开始并向外移动的层的顺序（换句话说，在三层中，层1最接近基材）。
同样有利的是，层1与层2直接接触，并且层2与层3直接接触；换句话说，层3是直接（没有中间层）（沉积）在层2上，和层2本身直接（没有中间层）（沉积）在层1上。特别地，在层1和层2与层2和层3之间不存在氧化物层。
另外，上述层的叠层（或至少由所述叠层形成的涂层）优选地位于板的外表面上，即旨在面向将板集成到其中的设备的外部的表面，在设备运行期间，该面不与热源直接接触。有利地，玻璃陶瓷基材在整个所述面上被涂覆。
本发明还涉及一种用于制备所述板的方法，该板由至少一个玻璃陶瓷基材形成，并通过磁控阴极溅射（magnetron sputtering）在所述基材的至少一个面上按以下顺序依次沉积：
1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，
2）氧化铟锡层，厚度小于100 nm，
3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。
有利地，各个第一金属氮化物层的沉积和第二金属氮化物层的沉积在至多3.5μbar的压力下进行。
同样有利地，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层（在各个形成这些沉积物的腔室中）的各个沉积过程中的气氛（由等离子体气体（plasmagen gas）组成，如氩气和氮气）包含小于1体积％的氧气（其可能残留在腔室中或可能被供应），或者甚至没有氧气。优选地，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一个的沉积期间，氧气的流速为零。
本发明还涉及***物(insert de chminée)、火炉(poêle)、壁炉(chminée)、锅炉(chaudière)、加热设备、炉膛(foyer)或防火阻挡物或等效物类型装置（设备或器具），该装置包括至少一个根据本发明的板。该板优选位于装置的前部，例如集成到允许进入壁炉的门中或作为窗户集成到装置中，或者可能是可移动的，特别地板呈火焰阻挡物的形式连接至壁炉的情况。
发明人已经证明，具有根据本发明选择的上述叠层的基材在高温条件下有效地反射红外辐射，而不会随着时间的流逝而降低其低发射率特性。在其两个面上覆盖（enveloping），特别地在具有限定厚度的基于氧化铟锡的层（功能层）上，通过两个厚度受控的金属氮化物层（放置在ITO层的任一侧）进行直接覆盖（enveloping）（无中间层），其中有利地限制了氧含量，防止了所述ITO层的电导率的下降，该组件即使在经受明显的温度变化时也随时间保持了低发射率。
基于氧化铟锡的层优选基本上由（至少90重量％）或由（仅由）这种氧化物组成（除了存在的任何杂质之外）。Sn的原子百分比优选地在5至70％范围内，特别地在6至60％范围内，有利地在8至12％范围内。
ITO层的厚度优选地在10nm至小于100nm的范围内，特别地在30nm至80nm的范围内，特别是在40nm至70nm的范围内，尤其可以小于50nm。有利地且通常，上述叠层的厚度小于100nm的ITO层是存在于包括所述叠层（和一层或多层其他层，如果需要如下所示）的整个涂层或整个叠层中的唯一的ITO层，即在所述涂层/总叠层中没有其他ITO层。换句话说，在包括根据本发明的玻璃陶瓷基材上存在的所述层的整个叠层中仅存在一个ITO层（层2）。
在本发明中，术语“金属氮化物”表示类金属（如硅）的氮化物（nitrides ofmetalloids）和金属的氮化物。优选地，根据本发明，金属氮化物层基于硅或氮化铝（并且优选地由硅或氮化铝组成），并且特别优选地基于氮化硅Si3N4，特别地基本上由氮化硅Si3N4组成。术语“氮化硅”不预判除硅和氮以外的原子的存在，或该层的实际化学计量。实际上，氮化硅优选地包含少量的一个或多个原子，通常为铝或硼，作为掺杂剂添加到所使用的硅靶中，以增加其电子导电性并由此促进通过磁控阴极溅射的沉积，所使用的靶中一种或多种掺杂剂（例如铝）的水平，和优选该层中小于15重量％，所使用的硅靶例如有利地包含3至15重量％的铝。
优选地，第一金属氮化物层1）的厚度在5至50nm之间，特别是在10至45nm之间，并且层3）的厚度在10至100nm之间，特别是在15至90nm之间。
如上所述，ITO层在其一个面（主面）上与层1）（直接）接触，并且在其相对面上与层3）（直接）接触。尤其地，ITO层2）不与任何其他氧化物层接触，特别地不与任何氧化硅层（例如SiO2）接触，特别地并且例如在将这种氧化物层添加至根据本发明的前述叠层（1/2/3）中的情况。
优选地，根据本发明的前述叠层是以下叠层：Si3N4/ITO/Si3N4，具有根据本发明限定的层厚度。
如果需要，包括前述叠层的基材的涂层可以在前述叠层的任一侧和/或另一侧上包括其他层。
它可以例如在基材和前述叠层之间包括至少一层或一个多层叠层，例如影响如板的反射外观，或者可以用来阻止可能的离子迁移，或者可以用作粘结层等，例如具有在基材的折射率和ITO层的折射率之间的折射率的层（例如氧氮化硅层，折射率在1.6至2.1之间；或Al2O3或SnZnO或氮化硅层，其在较高压力下（5 µbar以上）沉积）或包括分别具有高折射率和低折射率的层的叠层（例如SiO2/Si3N4或SiO2/TiO2或SiO2/SnZnO），高折射率的层是最接近基材的层，或者是二氧化硅的粘结层，该层或这些层的厚度优选在1至20nm的范围内。而根据本发明的有利实施方案，包括前述叠层的基材的涂层在基材与前述叠层之间不包括任何其他层。
前述叠层也可以涂覆有一层或多层其他层（大气侧）。它可以特别地涂覆有基于氧化硅的层，有利地是二氧化硅层，例如以降低叠层的光反射率，如果需要，可以对二氧化硅进行掺杂（例如，以铝或硼原子进行掺杂以促进其通过阴极溅射工艺的沉积），基于氧化硅的层的厚度优选在1至50nm的范围内。
也可以在所述叠层的顶部上沉积基于氧化钛或TiZrOx或ZrO2的层，优选地为氧化钛层，该层的存在特别地使得可以降低叠层的刮擦敏感性，该层厚度优选小于10nm，特别地在1至5nm的范围内。
上述各种实施方案当然可以彼此组合。薄层叠层可以从根据本发明定义的单个叠层1/2/3的基材开始依次构成，或者可以从基材开始依次构成所述叠层和氧化钛TiOx（例如TiO2）层，或者可以从基材开始依次构成所述叠层1/2/3的高折射率层和然后构成低折射率层和氧化钛层，或者可以从基材开始依次构成根据本发明定义的叠层1/2/3的高折射率层和然后低折射率层，基于氧化硅的层和氧化钛层。
下面给出一些特别优选的涂层（由薄层叠层制成）的示例：
1.玻璃陶瓷/ Si3N4/ ITO / Si3N4
2.玻璃陶瓷/ Si3N4/ ITO / Si3N4 / SiO2 / TiO2。
给出的示例不会预判层的实际化学计量，也不会预判任何可能的掺杂。特别地，如上所述，通常用（例如铝）掺杂氮化硅和/或氧化硅。氧化物和氮化物可能不是化学计量的（但是它们可能是化学计量的），因为实际的化学计量和/或可能的掺杂可能在一层与另一层之间（例如在两个Si3N4层之间）不同。
涂层的总厚度（包括上述叠层1/2/3）优选在70至300nm之间。
优选地，根据本发明使用的涂层具有（在上述叠层1/2/3的情况下）或被选择为具有（在添加其他层的情况下）以下比色坐标（在涂层侧上的反射）：-7<a*<5, -25<b*<5, 25<L*<50，这些坐标在CIE比色***中定义，并使用已知的方式通过使用Minolta公司销售的带有积分球的使用CM-3700A分光光度计模型进行评估。
形成根据本发明的板并在其上沉积叠层的基材是通常几何形状的玻璃陶瓷板，特别地矩形，或甚至正方形，或甚至圆形或椭圆形等，并且通常具有一个（通常是光滑的）面在使用位置（或可见或外部面或外部表面（outer or external face））面向用户，在使用位置（或内部面）通常隐藏的另一个（通常是光滑的）面和边缘（或厚度）。最简单地，该基材通常是平坦的或平面的，但是根据所考虑的应用，该基材也可以是弯曲的或折叠的（例如，用作防火阻挡物或炉窗）。
该基材可以基于任何玻璃陶瓷，并且有利地具有零或接近零的CTE，于20至700℃之间特别地（绝对值）小于30·10−7K−1（特别地小于15·10−7K−1），或于20至700℃之间甚至小于 5·10−7K−1。
优选地，该基材是透明的（即，在可见区域中具有足够的透射率，使得可以透过其看到），特别地，其至少具有大于70％的光透射率TL（对于4mm的厚度），特别优选透光率TL大于80％或甚至大于90％，透光率TL是根据标准EN 410使用光源D65测得的，并且是总透光率（特别是在可见范围内积分并由人眼的灵敏度曲线加权），同时考虑到直接透射率和可能的漫透射率，如可以使用配备积分球的分光光度计（特别是Perkin Elmer公司出售的分光光度计，名称为Lambda 950）进行测量。任选地，可以在本体中着色，或例如用搪瓷装饰。也可以考虑使用所谓的半透明或甚至不透明的基材，尽管在这种情况下，可以减少活动中的火的可视性。
玻璃陶瓷基材的厚度通常为至少2mm，特别地至少2.5mm，并且有利地小于6mm，特别地约3至4.5mm。
优选地，在其外表面上涂覆有上述叠层（仅在必要时）；然而，不排除添加例如另一涂层例如搪瓷以形成装饰（尤其也在外表面上）或用另一叠层（或甚至相同的叠层）或涂层涂覆另一表面。
根据本发明的上述叠层添加至玻璃陶瓷基材，根据本发明的上述叠层包括在其两个相对面上涂覆的ITO层，该ITO层在外表面上具有金属氮化物层，使得可以向壁炉反射大量的红外辐射而没有在高温条件下随着时间的流逝劣化低发射率特性，与涂覆有虽然彼此接近但是不满足根据本发明选择标准的叠层的基材不同。另外，所获得的板没有任何维护，刮擦或磨损的问题，并保持了良好的抗冲击性能。
本发明还涉及一种用于制备如前所述的根据本发明的板的方法。涂层或叠层沉积在已经陶瓷化的基材上，并对组件进行热处理（退火）或激光处理，以使ITO层活化并起作用。
优选地，通过磁控阴极溅射（成功地）沉积叠层的每一层，通过磁控阴极溅射容易地以良好的效率和沉积速率来沉积ITO层和氮化硅层。
在这些沉积过程中，等离子体在高真空下在靶（或阴极）附近生成，该靶包含待沉积的化学元素或包含可以与等离子体中所含气体发生化学反应以形成所需层（所谓的“反应性”方法）。通过轰击靶，等离子体的活性物质撕下所述元素，所述元素沉积在形成所需薄层的基材上和/或与等离子体中包含的气体反应以形成所述层。该方法使得通过使基材连续地通过不同靶材下方而通常在包括多个真空室（或场（enclosures））的单个装置中使根据本发明的期望的层的叠层沉积在同一线上成为可能，每个装置均包括给定靶。取决于层的厚度和沉积速度，可能还需要使用多个连续的腔室来沉积一个相同的层。沉积优选在未加热的基材上进行。
取决于用于偏置阴极的发生器的类型，阴极溅射优选为AC（交流），DC（直流）或脉冲DC类型。靶可以是平面的，或者优选是管状的（呈旋转管的形式）。
每个金属氮化物层的沉积尤其是使用所讨论的金属靶在由等离子气体（通常为氩气）和氮气组成的气氛中进行。特别地，对于基于氮化硅或基本上由氮化硅组成的层，通常在由氩气和氮气组成的气氛中优选使用通常掺杂有铝或硼以提高其导电性的硅靶。
有利地，在进行这些沉积的每个腔室中的每个沉积过程中的气氛（由等离子体气体（plasmagen gas）组成）包含小于1体积％的氧气（其可以残留在腔室中或可能被供应），或者甚至是没有氧气。优选地，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一个的沉积期间氧气的流速为零。
每个金属氮化物层的沉积压力（或沉积期间的压力）至多为3.5μbar，优选地在2.4μbar至3μbar的范围内。 “沉积压力”是指进行该层沉积的腔室中的压力。在相关的一个或多个沉积室中施加选定的压力还有助于获得发射率在高温下长时间保持特别稳定的叠层。
在所述层的沉积期间，各层的沉积功率还优选地为0.5至4kW /延米的靶（kW/linear meter of target），并且在各种靶材下方的基材的运行速度优选地在0.5至3 m/min的范围内。
如上所述，在沉积上述叠层/涂层之后，有利地对涂覆的玻璃陶瓷基材进行热处理（退火）或激光处理，以活化ITO层（ITO结晶化以增加并改善其电性能），特别地在高于600℃的温度下进行几分钟到几十分钟（甚至长达几小时）的热处理，尤其地在约650℃至850℃的温度下进行5到10分钟的热处理，通过在玻璃陶瓷基材上退火来进行该活化（如果还存在搪瓷涂层，例如用于装饰目的，则可以与退火处理同时进行）而不会损坏ITO叠层或所述ITO层。
下列实施例说明但不限制本发明。
对比实施例1：
通过磁控阴极溅射将以下叠层沉积在厚度为4 mm的透明玻璃陶瓷基材（呈板形式）的一个面上，该基材由Eurokéra公司以Kéralite的名称销售：
玻璃陶瓷 / ITO (100)/ Si3N4 (45)。
括号中的数字（在此实施例和以下实施例中）对应于以纳米表示的厚度。
使用铝掺杂的硅靶在氩气等离子体下，在包含小于1体积％氧气的气氛中，在压力为2.4至3 µbar的条件下，在添加氮气和不添加氧气的情况下沉积氮化硅层。使用ITO靶（In/ Sn靶）沉积ITO层。
然后将涂覆的玻璃陶瓷在650℃下进行10分钟的热处理（退火），以激活ITO层。
对比实施例2：
如实施例1中所示，通过将叠层替换为以下叠层来执行此实施例：
玻璃陶瓷/ Si3N4 (20)/ ITO (100)。
对比实施例3：
如实施例1中所示，通过将叠层替换为以下叠层来执行此实施例：
玻璃陶瓷 / SiO2 (50)/ ITO (130)/ Si3N4 (45)。
对比实施例4：
如实施例1中所示，通过将叠层替换为以下叠层来执行此实施例：
玻璃陶瓷/ Si3N4 (18) / SiO2 (20)/ ITO (115)/ Si3N4 (15)/ SiO2 (20)/ TiO2(5)。
根据本发明的实施例：
如实施例1中所示，通过将叠层替换为以下叠层来执行此实施例：
玻璃陶瓷 / Si3N4 (20)/ ITO (50)/ Si3N4 (45)。
为了研究它们的抗老化性，将各种涂覆的基材在650℃的烤箱中放置100小时（相当于大约10年的使用时间）。
在650℃老化100小时之前和之后，测量涂覆的基材的以下性能：
-根据标准EN 410使用光源D65的透光率TL和反射率RL，该测量是使用具有积分球的分光光度计进行的，该分光光度计由Perkin Elmer公司出售，名称为Lambda 950。
-在CIE比色***中定义的色坐标L *，a *，b *，和在叠层的涂覆面上使用具有积分球的由Minolta销售的型号为CM-3700A的分光光度计（反射比色法）进行评估，
-使用Perkin Elmer市售的L950型光谱仪和Perkin Elmer市售的Spectrum 100 FTIR光谱仪，通过可见红外光谱在250 nm -10 µm光谱带上获得的光谱计算出的反射率（以％表示），通过分别在500℃（反射率RN500℃）或1200℃（反射率RN1200℃）的黑体发射光谱进行归一化，
-（叠层的）的平方电阻Rsq（以欧姆ohms表示）和（ITO层的）电阻率ρ（以μohm.cm表示），由测量平方电阻和（ITO）层厚度计算得到，使用纳吉Naguy公司销售的Dektak SRM-12型非接触式测量装置（轮廓仪）以已知方式测量叠层的平方电阻，发射率与平方电阻紧密相关（平方电阻比发射率更容易测量）。
下表中收集了不同实施例在650℃老化100小时之前（“初始”）和之后（“ 650℃”）获得的结果：
Figure 633999DEST_PATH_IMAGE001
所获得的结果清楚地表明，在高温和长时间的条件下，根据本发明涂覆的基材不会遭受其性能（特别地其低发射率性能）的任何显著降低（老化之后，特别地反射率有利地保持高且叠层的平方电阻和ITO层的电阻率有利地保持低），这与涂覆有虽然接近但不满足根据本发明的选择标准的叠层的基材不同，但是对于它们本身而言，这样的基材的性能会显著降低和还可能具有较少有利的初始特性（特别地低发射率）。
特别地，根据本发明的制品可以有利地用于制备新的一系列板，这些板旨在用于装配壁炉***物、火炉、壁炉、锅炉、加热设备、炉膛或等效物类型装置和/或用作防火阻挡物等。

Claims (14)

1.用于装配壁炉***物、火炉、壁炉、锅炉、加热设备、炉膛或等效物类型装置和/或用作防火阻挡物的板，所述板由以下材料形成：至少一个玻璃陶瓷基材，在玻璃陶瓷基材至少一个面上涂覆有以下层的叠层：
1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，
2）氧化铟锡层，厚度小于100 nm，
3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。
2.根据权利要求1所述的板，其特征在于，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一层中的氧含量小于1重量％。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的板，其特征在于，在层1）和2）以及层2）和3）之间不存在氧化物层，特别地层1）与层2）直接接触，并且层2）特别地与层3）直接接触，特别地层1）是三层中最靠近基材的层，所述层的叠层另外优选位于板的外部面。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的板，其特征在于，所述小于100nm厚度的氧化铟锡层构成存在于整个涂层或包括层1），2）和3）的所述叠层的总叠层中的唯一的氧化铟锡层。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的板，其特征在于，包括层1），2）和3）的所述叠层的基材的涂层在所述基材与层1），2）和3）的所述叠层之间不包括任何其他层。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的板，其特征在于，所述第一层1）的厚度在10至45nm之间，所述层2）的厚度在10至小于100nm之间，并且第二层3）的厚度在10至90nm之间。
7.根据权利要求1至5之一所述的板，其特征在于，所述金属氮化物层是氮化硅层。
8.根据权利要求1至7中的一项所述的板，其特征在于，所述第二金属氮化物层被基于氧化硅的层覆盖。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的板，其特征在于，包括所述叠层的涂层还包括厚度小于10nm的氧化钛层作为外层。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的板的制备方法，该板由至少一个玻璃陶瓷基材形成，其中，通过磁控阴极溅射在所述基材的至少一个面上按以下顺序依次沉积：
1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，
2）氧化铟锡层，厚度小于100 nm，
3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。
11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一金属氮化物层的沉积和所述第二金属氮化物层的沉积各自在至多3.5μbar的压力下，和优选在从2.4 µbar至3 µbar范围内的压力下进行。
12.根据权利要求10至11中任一项所述的方法，其特征在于，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一层的沉积过程中的气氛包含小于1体积％的氧气。
13.根据权利要求10至12之一所述的方法，其特征在于，对涂覆的玻璃陶瓷基材进行热处理或激光处理，特别地在高于600℃的温度下进行几分钟至几十分钟的热处理。
14.壁炉***物或火炉或壁炉或锅炉或加热设备或炉膛或防火阻挡物或等效物类型的设备，所述设备包括至少一个如权利要求1至9中任一项所述的板。
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