CN111758053A - 氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法 - Google Patents

氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111758053A
CN111758053A CN201980016039.3A CN201980016039A CN111758053A CN 111758053 A CN111758053 A CN 111758053A CN 201980016039 A CN201980016039 A CN 201980016039A CN 111758053 A CN111758053 A CN 111758053A
Authority
CN
China
Prior art keywords
zinc oxide
oxide film
organometallic compound
less
metal element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201980016039.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111758053B (zh
Inventor
竹元裕仁
二子石师
青木雅裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Fine Chemical Co ltd
Original Assignee
Tosoh Fine Chemical Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Fine Chemical Co ltd filed Critical Tosoh Fine Chemical Co ltd
Publication of CN111758053A publication Critical patent/CN111758053A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111758053B publication Critical patent/CN111758053B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B05D5/06—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain multicolour or other optical effects
    • B05D5/061—Special surface effect
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G9/00—Compounds of zinc
    • C01G9/02—Oxides; Hydroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/32—Radiation-absorbing paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/20—Diluents or solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1279—Process of deposition of the inorganic material performed under reactive atmosphere, e.g. oxidising or reducing atmospheres
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50—Solid solutions
    • C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
    • C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/216—ZnO
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying

Abstract

本发明涉及用于在小于200℃的基材温度通过液滴涂布法形成氧化锌膜的组合物，其含有下述通式(1)所示的有机锌化合物和有机金属化合物，前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。本发明涉及氧化锌膜的制造方法，其包括将该组合物在小于200℃的基材温度进行液滴涂布，形成氧化锌膜。R1‑Zn‑R1(1)式中，R1是碳数1~7的直链或支链的烷基。根据本发明，通过成膜时的基材温度小于200℃的喷雾涂布法等液滴涂布法，可提供具有紫外线吸收能力、可见光透过性也优异、且膜厚为1μm以下的氧化锌薄膜。

Description

氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法
技术领域
本发明涉及能够制造紫外线吸收性能提高了的氧化锌薄膜的、在比较低的温度下进行的液滴涂布法用的组合物、以及使用其的紫外线吸收性能提高了的氧化锌薄膜的制造方法。
相关申请的相互参考
本申请主张2018年2月28日申请的日本特愿2018-35780号的优先权，其全部记载在此特别作为公开而援引。
背景技术
在可见光区域具有高透过率的紫外线吸收膜广泛用于半导体、显示器、照明、汽车、窗玻璃、家具、包装容器等。
作为在可见光区域具有高透过率、且具有紫外线吸收能力、用作紫外线屏蔽膜的物质已知氧化锌膜(例如专利文献1)。专利文献1中，氧化锌膜通过CVD法或真空蒸镀法形成。
对于以紫外线吸收为目的的透明氧化锌膜，在各种用途中，从加工性、轻质等的角度，作为基材研究了在塑料、薄板玻璃等在高温下不能加热的基材、进而各种形状的基材中的应用。因此，为了在形成氧化锌膜时这些基材不变形或破损，需要在耐热温度或通过热休克不破损的比较低的温度下实施。
专利文献2中，记载了使用将有机锌化合物例如二乙基锌溶解于供电子性溶剂中得到的溶液，在喷雾涂布的同时将基板加热至300℃以下，而形成氧化锌薄膜的方法。实施例中有基板温度60℃下的成膜例和没有基板加热的成膜例的记载。
专利文献1：日本特开2008-105313号公报
专利文献2：日本特许第5288464号公报
专利文献3：日本特开平07-182939号公报。
发明内容
发明要解决的课题
专利文献2公开了目的在于提供形成在可见光区域光透过性优异的氧化锌薄膜的方法的发明，没有提及所形成的氧化锌薄膜的紫外线吸收性。要说明的是，通过专利文献2记载的方法进行1次喷雾涂布形成的氧化锌薄膜的膜厚为几百nm，是极薄的膜。
本发明人研究了通过专利文献2中记载的方法制造的氧化锌薄膜能否用作紫外线屏蔽膜。结果发现，如果成膜时的基材温度低于200℃，则所形成的薄膜的紫外线吸收能力大大降低。
另一方面，本发明人认为：在与基材的耐热性的关系上，基材温度越低越优选，例如如果在160℃以下得到可用作紫外线屏蔽膜，且可见光透过性也优异的膜厚为几百nm左右的氧化锌薄膜，则利用价值高。
本发明是鉴于上述课题而进行的。即，本发明的目的在于通过成膜时的基材温度小于200℃的喷雾涂布法等液滴涂布法，提供具有紫外线、特别是315nm~380nm的UV-A区域的吸收能力、可见光透过性也优异、且膜厚为1μm以下的氧化锌薄膜、并且提供其手段。
解决课题的手段
本发明人为了解决前述课题进行了深入研究，结果发现，通过在含有有机锌化合物的涂布液中添加含有氧化物的带隙比氧化锌小的金属元素的有机化合物，能够通过基材温度小于200℃的液滴涂布法，形成与使用不含有上述金属元素的涂布液的情况相比，紫外线吸收性能提高了的氧化锌薄膜，从而完成了本发明。
本发明如下所述。
[1]
用于在小于200℃的基材温度通过液滴涂布法形成氧化锌膜的组合物，其含有下述通式(1)所示的有机锌化合物和有机金属化合物，前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。
Figure 699658DEST_PATH_IMAGE001
(式中，R1是碳数1~7的直链或支链的烷基)。
[2]
[1]记载的组合物，其中，前述有机金属化合物的金属元素为钛、铁、铜或钒。
[3]
[1]或[2]记载的组合物，其中，前述有机金属化合物含有烷氧基或氨基作为配体。
[4]
[1]~[3]中任一项所述的组合物，其中，关于前述有机金属化合物的含量，相对于前述有机锌化合物中含有的锌和有机金属化合物中含有的金属元素的合计，有机金属化合物中含有的金属元素的百分率(at%)为0.01~10的范围。
[5]
[1]~[4]中任一项所述的组合物，其中，前述有机锌化合物为二乙基锌。
[6]
[1]~[5]中任一项所述的组合物，其还含有有机溶剂。
[7]
[6]中记载的组合物，其中，前述有机溶剂为烃系溶剂或供电子性有机溶剂。
[8]
提高氧化锌膜的UV-A屏蔽率的方法，所述氧化锌膜通过将含有下述通式(1)所示的有机锌化合物的涂布液在小于200℃的基材温度下进行液滴涂布而形成，其中，使前述涂布液中含有有机金属化合物，且前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。
Figure 616798DEST_PATH_IMAGE002
(式中，R1是碳数1~7的直链或支链的烷基)。
[9]
[8]所述的方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率增大至104以上。
[10]
[8]或[9]所述的方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为80以上。
[11]
氧化锌膜的制造方法，其包括将[1]~[7]中任一项所述的组合物在小于200℃的基材温度进行液滴涂布，形成氧化锌膜。
[12]
[11]中所述的制造方法，其中，前述液滴涂布在水存在的气氛中进行。
[13]
[11]或[12]所述的制造方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，得到UV-A屏蔽率为104以上的氧化锌膜。
[14]
[11]~[13]中任一项所述的制造方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，得到可见光区域透过率为80以上的氧化锌膜。
[15]
[11]~[14]中任一项所述的制造方法，其中，所形成的氧化锌膜的膜厚为1μm以下。
发明效果
根据本发明，通过基材温度小于200℃的液滴涂布法，能够形成与使用不含有上述金属元素的涂布液的情况相比，紫外线吸收性能提高了的氧化锌薄膜。
由此，可以作为基材在塑料、薄板玻璃等不能在200℃以上加热的基材上，在小于200℃的基材温度提供在可见光区域380nm~780nm具有高透过率、与使用不含有上述金属元素的涂布液的情况相比315nm~380nm的UV-A区域的屏蔽率高的紫外线吸收膜。
附图说明
图1 图1为喷雾成膜装置的示意图。
具体实施方式
以下进一步详细地说明本发明。
(氧化锌薄膜制造用组合物)
本发明的氧化锌薄膜制造用组合物为用于在小于200℃的基材温度通过液滴涂布法形成氧化锌膜的组合物，其含有下述通式(1)所示的有机锌化合物和有机金属化合物，前述有机金属化合物中含有的金属元素为氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。
Figure 396535DEST_PATH_IMAGE003
(式中，R1为碳数1~7的直链或支链的烷基)。
作为通式(1)表示的化合物中的R1的烷基的具体例子，可列举甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、异己基、仲己基、叔己基、2-己基和庚基，优选甲基、乙基、丙基，进一步优选乙基。
氧化锌的带隙为3.2eV。本发明的组合物中含有的有机金属化合物中含有的金属元素为氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。氧化物的带隙例如可以为1.5eV以上、且小于3.2ev。氧化物的带隙比氧化锌的带隙3.2eV小的金属元素可列举例如钛、钨、铁、铜、钒、铟等。氧化钛为3.0ev，氧化钨为2.7eV、氧化铁为2.2eV、氧化铜为1.7eV、氧化钒为2.3eV、氧化铟为2.5eV。
金属元素优选为钛。
含有氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素的化合物例如可列举作为配体具有烷氧基或氨基的化合物。如果是具有这些配体的化合物，则对通式(1)表示有机锌化合物和后述的有机溶剂具有良好的溶解性，容易制成溶液。
具有烷氧基的有机金属化合物例如可为下述通式(2)所示的化合物。
Figure 729428DEST_PATH_IMAGE004
(式中，R2为碳数1~8的直链或支链的烷基，M为氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素，X是由M决定的1~8的范围的整数)。
R2为直链或支链的烷基。作为烷基的具体例，可列举甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、异己基、仲己基、叔己基、2-己基、2-乙基己基和庚基，优选乙基、丙基、异丙基、2-乙基己基。
具有氨基的有机金属化合物例如可为下述通式(3)所示的化合物。
Figure 543800DEST_PATH_IMAGE005
(式中，R3为碳数1~4的直链或支链的烷基，M为氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素，X为由M决定的1~8的范围的整数)。
R3的烷基的具体例子与R2的烷基的具体例子相同。
有机金属化合物的具体例子如下所示。
[表1]
Figure 366262DEST_PATH_IMAGE007
对于含有氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素的化合物的添加量，相对于通式(1)所示的有机锌化合物的锌元素和有机金属化合物中含有的金属元素的合计，有机金属化合物中含有的金属元素的百分率(at%)为0.01~10的范围从得到本发明的效果角度考虑优选。该百分率(at%)优选为0.1~8的范围。
如果添加有机金属化合物使上述百分率超过10at%，则膜形成后的膜中锌元素以外的元素量增加，氧化锌的结晶性恶化，由此UV-A区域的屏蔽率有减小的趋势。
本发明的组合物还可含有有机溶剂。作为有机溶剂，为对通式(1)表示的有机锌化合物和有机金属化合物具有溶解性的有机溶剂即可。例如可列举供电子性有机溶剂、烃化合物。作为供电子性有机溶剂，可列举例如N-甲基-2-吡咯烷酮、或1,3-二甲基-咪唑啉酮、1,3-二甲基-3,4,5,6-四氢-2(1H)-嘧啶酮等的环状酰胺、二乙基醚、四氢呋喃、二异丙基醚、二噁烷、二正丁基醚、二烷基乙二醇、二烷基二乙二醇、二烷基三乙二醇等的醚、乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、三乙二醇二甲醚系溶剂等。
另外，作为烃化合物，可列举正己烷、辛烷、正癸烷等的脂肪族烃；环戊烷、环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷等的脂环式烃；苯、甲苯、二甲苯、枯烯等的芳香族烃；矿油精(mineral spirit)、溶剂石脑油(Solvent naphtha)、煤油、石油醚等的烃系溶剂。
有机溶剂可为供电子性溶剂、烃化合物或它们的混合物。
(提高氧化锌膜的UV-A屏蔽率的方法)
本发明包含：提高将含有前述通式(1)所示的有机锌化合物的涂布液在小于200℃的基材温度下进行液滴涂布所形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率的方法。该方法中，使前述涂布液中含有有机金属化合物，且前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素。
本发明的方法中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率可增大至105以上。所形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率的增大率因所使用的基材温度和所添加的有机金属化合物的种类和量等而变动。通过调整这些条件，可将所形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率增大至110以上。
进一步本发明的方法中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，可使使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为80以上。即，可形成可见光区域透过率高的氧化锌膜。所形成的氧化锌膜的可见光区域透过率越接近100越优选。
(氧化锌薄膜的制造方法)
本发明包含氧化锌膜的制造方法。本发明的制造方法包括将前述本发明的组合物在小于200℃的基材温度下进行液滴涂布而形成氧化锌膜。
作为在基材上涂布氧化锌膜形成用组合物的方法，是可以在基材上形成一定的膜厚的氧化锌膜的方法即可，例如优选作为可在大气压下进行气相生长的涂布方法的液滴涂布法，作为液滴涂布法，例如优选喷雾涂布法、Mist-CVD法。喷雾涂布法是由喷嘴喷涂布液的方法，例如可列举专利文献2中记载的方法。Mist-CVD法是将涂布液通过超声波雾发生装置等雾化，将该雾供给到基材表面的方法，例如可列举专利文献3中记载的方法。
在基材上涂布本发明的组合物时，基材的温度如果小于200℃则没有特别限定。另外，基材可以不加热，为室温。但是，基材的温度高时，所得到的氧化锌的结晶性高，密度也高，紫外线吸收能力也高，因此，例如使其为80℃以上且小于200℃的范围。但是从考虑耐热性的同时也提高紫外线吸收能力的角度考虑，优选为90~160℃的范围。
进行液滴涂布的气氛温度从顺利生成氧化锌膜的角度考虑，优选为10~30℃的范围。
在基材上涂布氧化锌膜形成用组合物时，气氛没有特别限定，可在大气压、加压下或减压下进行。但是，优选在氧化锌膜的氧源，即水存在的气氛中进行。加压下是压力为例如101.3~202.6kPa的范围的情况。要说明的是，本发明的方法中的液滴涂布也能够在减压下实施，但在减压下实施没有优点，在大气压下实施在装置上简便，优选。
向基材表面的涂布优选在“水存在的气氛”中进行，“水存在的气氛”是指例如含有相对湿度10~90%的水的空气的气氛。代替在空气气氛中进行，在氮气和水混合而成的混合气体气氛中进行也可以。相对湿度从顺利生成氧化锌薄膜的角度考虑，更优选为30~70%。
本发明的制造方法中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，优选得到UV-A屏蔽率为105以上的氧化锌膜，更优选得到UV-A屏蔽率为110以上的氧化锌膜。
进一步地，通过本发明的制造方法形成的氧化锌膜优选紫外线区域UV-A的屏蔽率为70%以上的氧化锌膜。紫外线区域UV-A的屏蔽率如下定义和测定。紫外线区域UV-A的屏蔽率是如JIS-7079所记载的，是由100减去315nm~380nm的范围的光线的透过率的平均得到的数值，通过紫外可见光光度计测定。
本发明的制造方法中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，优选得到可见光区域透过率为80以上的氧化锌膜，更优选得到可见光区域透过率为80以上的氧化锌膜。氧化锌膜的可见光透过率可通过基材温度、涂布液中含有的有机金属化合物、种类和量等适当调整。
通过本发明的制造方法形成的氧化锌薄膜优选对可见光线具有80%以上的平均透过率，更优选对可见光线具有85%以上的平均透过率。要说明的是，“对可见光线的平均透过率”如下定义和测定。对可见光线的平均透过率如JIS-7079所记载的，是380~780nm的范围的光线的透过率的平均，通过紫外可见分光光度计测定。
本发明中，用于形成氧化锌膜的基材的材质、形状、尺寸等没有特别限定，可列举例如玻璃、金属、陶瓷等无机物、塑料等树脂性基材、纸、木材等有机物以及这些的复合物。
通过本发明的制造方法形成的氧化锌膜的膜厚优选为1μm以下，膜厚可通过涂布液的组成和基材单位面积的涂布量等调整。
实施例
以下，基于实施例、合成例、参考例和比较例更具体地说明本发明，但本发明不限于以下的实施例。
实施例、比较例和参考例中的氧化锌膜的形成采用图1所示的喷雾成膜装置。图中，1表示填充了涂布液的喷雾瓶，2表示基板支架，3表示喷雾喷嘴，4表示压缩机，5表示基板。喷雾涂布是将基板设置于基板支架2，根据需要使用加热器加热至规定的温度，然后，在大气中(大气压下、空气中)由配置在基板上方的喷雾喷嘴3同时供给压缩的不活性气体和涂布液，将涂布液雾化、喷雾，由此在基板上形成氧化锌薄膜。氧化锌薄膜通过喷雾涂布不进行追加的加热等而形成。
实施例、比较例和参考例中的氧化锌膜的结构通过X射线衍射测定(XRD)、膜厚测定和可见光透过测定进行鉴定。
X射线衍射测定(XRD)采用PANalytical公司制造的X’pert PRO MRD。X射线源使用1.8kW的CuKα射线源(8048eV)。通过X射线Mirror使X射线平行化，以约1°的角度入射至样品，进行操作2θ轴的斜入射X射线衍射测定。来自样品的衍射X射线通过准直器进行平行化，通过比例计数器检测。
可见光透过测定使用SHIMADZU公司制造的UV-2450V。测定方法采用积分球单元进行透过率测定。另外，测定在波长200nm~波长800nm的范围进行。
使用取得的积分球透射谱算出吸收系数，由算出的吸收系数求得吸收能量(带隙)。将吸收能量转换为波长，由此算出吸收端波长。
使用取得的积分球谱取得可见光区域(580nm)的透过率。使用积分球谱求出紫外区域UV-A(315nm~380nm)的屏蔽率。屏蔽率的计算使用下式。。
紫外线区域UV-A屏蔽率=100-紫外区域UV-A的平均透过率
膜厚使用Bruker公司制造的Dektak探针式表面轮廓仪。在金刚石探针下在精密的基准表面上直线移动样品台，由此测定样品表面的高低差，从而测定膜厚。
(实施例1)
溶液的制备在氮气气氛中进行，溶剂全部脱水和脱气使用。在二甲苯80.01g中加入二乙基锌4.22g，然后，添加异丙氧基钛(IV)0.25g，使相对于二乙基锌的锌元素和有机金属化合物中含有的钛元素的合计，有机金属化合物中含有的钛元素为3at%。进行充分搅拌，得到涂布液。
将上述得到的涂布液填充到图1的喷雾成膜装置的喷雾瓶中。将5cm×5cm的CORNING公司制的EAGLE XG设置在基板支架上，加热到100℃后，在大气压下、25℃、相对湿度50%和水存在的空气中，通过喷雾喷嘴将涂布液设定为1ml/min、将载气的氮气设定为8L/min，喷雾8分钟。喷雾喷嘴使用ATOMAX公司制的ATOMAX NOZZLE AM6型。使通过喷雾喷嘴喷出的液滴的大小为3~20μm的范围，且喷雾喷嘴与基板的距离为20cm而进行，取得氧化锌膜。膜厚为136nm。
测定所取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表2。
(实施例2)
将异丙氧基钛(IV)的添加量变更为0.43g(相对于二乙基锌的锌元素和有机金属化合物中含有的钛元素的合计，有机金属化合物中含有的钛元素为4at%)，除此以外与实施例1同样地取得氧化锌膜。膜厚为153nm。测定所取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表2~3。 通过XRD测定进行膜结构的鉴定，仅能确认氧化锌的衍射峰，未确认到源自钛的衍射峰。
(实施例3)
将异丙氧基钛(IV)的添加量变更为0.67g(相对于二乙基锌的锌元素和有机金属化合物中含有的钛元素的合计，有机金属化合物中含有的钛元素为6at%)，除此以外与实施例1同样地取得氧化锌膜。膜厚为119nm。测定所取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表2。
(实施例4)
除了将异丙氧基钛(IV)变更为乙氧基钛(IV)以外，与实施例2同样地取得氧化锌膜。膜厚为128nm。测定所取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表3。
(实施例5)
除了将异丙氧基钛(IV)变更为四(2-乙基己氧基)钛(IV)以外，与实施例2同样地取得氧化锌膜。测定取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表3。
(实施例6)
除了将异丙氧基钛(IV)变更为四(二甲基氨基)钛(IV)以外，与实施例2同样地取得氧化锌膜。膜厚为90nm。
测定取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表2~4。通过XRD测定进行膜结构的鉴定，仅能确认氧化锌的衍射峰，未确认到源自钛的衍射峰。
(实施例7)
将异丙氧基钛(IV)变更为四(二甲基氨基)钛(IV)，使基板的加热温度为150℃，除此以外，与实施例2同样地取得氧化锌膜。膜厚为74nm。测定取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表4。
(比较例1)
溶液的制备在氮气气氛中进行，溶剂全部脱水和脱气使用。在二甲苯162.52g中加入二乙基锌8.76g。进行充分搅拌，得到涂布液。
将上述得到的涂布液填充到图1的喷雾成膜装置的喷雾瓶中。将5cm×5cm的CORNING公司制造的EAGLE XG设置在基板支架上，加热至100℃后，在大气压下、25℃、相对湿度50%和水存在的空气中，通过喷雾喷嘴将涂布液设定为1ml/min、将载气的氮气设定为8L/min，喷雾8分钟。喷雾喷嘴使用ATOMAX公司制造的ATOMAX NOZZLE AM6型。通过喷雾喷嘴喷出的液滴的大小为3~20μm的范围，且使喷雾喷嘴与基板的距离为20cm而进行，取得氧化锌膜。膜厚为170nm。
测定取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表2~4。
(比较例2)
将基板的加热温度变更为150℃，除此以外与比较例1同样地取得氧化锌膜。膜厚为199nm。测定取得的氧化锌膜的透射谱，进行可见光区域的平均透过率和吸收端的测定。可见光区域(580nm)的透过率、UV-A屏蔽率的测定结果示于表4。
[表2]
Figure 69514DEST_PATH_IMAGE008
[表3]
Figure 268414DEST_PATH_IMAGE009
[表4]
Figure 937293DEST_PATH_IMAGE010
产业实用性
本发明在作为紫外线吸收膜等有用的氧化锌薄膜的制造领域中有用。

Claims (15)

1.用于在小于200℃的基材温度通过液滴涂布法形成氧化锌膜的组合物，其含有下述通式(1)所示的有机锌化合物和有机金属化合物，前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素，
Figure 362942DEST_PATH_IMAGE001
式中，R1是碳数1~7的直链或支链的烷基。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中，前述有机金属化合物的金属元素为钛、铁、铜或钒。
3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，前述有机金属化合物含有烷氧基或氨基作为配体。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的组合物，其中，关于前述有机金属化合物的含量，相对于前述有机锌化合物中含有的锌和有机金属化合物中含有的金属元素的合计，有机金属化合物中含有的金属元素的百分率(at%)为0.01~10的范围。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的组合物，其中，前述有机锌化合物为二乙基锌。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的组合物，其还含有有机溶剂。
7.根据权利要求6所述的组合物，其中，前述有机溶剂为烃系溶剂或供电子性有机溶剂。
8.提高氧化锌膜的UV-A屏蔽率的方法，所述氧化锌膜通过将含有下述通式(1)所示的有机锌化合物的涂布液在小于200℃的基材温度进行液滴涂布而形成，其中，使前述涂布液中含有有机金属化合物，且前述有机金属化合物中含有的金属元素是氧化物的带隙小于3.2eV的金属元素，
Figure 280082DEST_PATH_IMAGE002
式中，R1是碳数1~7的直链或支链的烷基。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率增大至104以上。
10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，使用含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为80以上。
11.氧化锌膜的制造方法，其包括将权利要求1~7中任一项所述的组合物在小于200℃的基材温度进行液滴涂布，形成氧化锌膜。
12.根据权利要求11所述的制造方法，其中，前述液滴涂布在水存在的气氛中进行。
13.根据权利要求11或12所述的制造方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的UV-A屏蔽率为100时，得到UV-A屏蔽率为104以上的氧化锌膜。
14.根据权利要求11~13中任一项所述的制造方法，其中，以在相同基材温度形成的使用不含有有机金属化合物的涂布液形成的氧化锌膜的可见光区域透过率为100时，得到可见光区域透过率为80以上的氧化锌膜。
15.根据权利要求11~14中任一项所述的制造方法，其中，所形成的氧化锌膜的膜厚为1μm以下。
CN201980016039.3A 2018-02-28 2019-02-15 氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法 Active CN111758053B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018035780A JP7060406B2 (ja) 2018-02-28 2018-02-28 酸化亜鉛薄膜形成用組成物及び酸化亜鉛薄膜の製造方法
JP2018-035780 2018-02-28
PCT/JP2019/005552 WO2019167669A1 (ja) 2018-02-28 2019-02-15 酸化亜鉛薄膜形成用組成物及び酸化亜鉛薄膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111758053A true CN111758053A (zh) 2020-10-09
CN111758053B CN111758053B (zh) 2022-06-07

Family

ID=67806094

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980016039.3A Active CN111758053B (zh) 2018-02-28 2019-02-15 氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20210086227A1 (zh)
EP (1) EP3761083B1 (zh)
JP (1) JP7060406B2 (zh)
KR (1) KR102601447B1 (zh)
CN (1) CN111758053B (zh)
WO (1) WO2019167669A1 (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1327437A (zh) * 1999-10-25 2001-12-19 日本板硝子株式会社 光吸收图案覆膜制品的制造方法和光吸收图案覆膜制品
WO2010131621A1 (ja) * 2009-05-12 2010-11-18 国立大学法人 宮崎大学 ドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物、酸化亜鉛薄膜の製造方法、帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜
WO2011114998A1 (ja) * 2010-03-19 2011-09-22 独立行政法人産業技術総合研究所 大孔径ナノ空間を有する遷移金属酸化物の透明薄膜、その製造方法及び色素増感型デバイス電極
CN103415576A (zh) * 2011-03-09 2013-11-27 株式会社艾迪科 氧化锌系膜形成用组合物、氧化锌系膜的制造方法及锌化合物
CN104254495A (zh) * 2012-04-25 2014-12-31 东曹精细化工株式会社 复合氧化物薄膜制造用组合物和使用该组合物的薄膜的制造方法、以及复合氧化物薄膜
WO2015098992A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 堺化学工業株式会社 酸化亜鉛粒子、それらの製造方法、紫外線遮蔽剤及び化粧料

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5854176B2 (ja) * 1977-02-23 1983-12-03 住友金属工業株式会社 焼結原燃料の粒度偏析防止方法
JPH07182939A (ja) 1993-12-22 1995-07-21 Mitsubishi Materials Corp 透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜形成方法
US8197914B2 (en) * 2005-11-21 2012-06-12 Air Products And Chemicals, Inc. Method for depositing zinc oxide at low temperatures and products formed thereby
JP2008105313A (ja) 2006-10-26 2008-05-08 Stanley Electric Co Ltd ハードコート構造を備えた透明体、およびハードコート構造
JP5288464B2 (ja) 2008-11-27 2013-09-11 東ソー・ファインケム株式会社 酸化亜鉛薄膜の製造方法
WO2012053542A1 (ja) 2010-10-20 2012-04-26 東ソー・ファインケム株式会社 酸化物薄膜製造用組成物およびこの組成物を用いる酸化物薄膜の製造方法
JP6514568B2 (ja) 2015-05-19 2019-05-15 東ソー・ファインケム株式会社 ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液及びこの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1327437A (zh) * 1999-10-25 2001-12-19 日本板硝子株式会社 光吸收图案覆膜制品的制造方法和光吸收图案覆膜制品
WO2010131621A1 (ja) * 2009-05-12 2010-11-18 国立大学法人 宮崎大学 ドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物、酸化亜鉛薄膜の製造方法、帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜
WO2011114998A1 (ja) * 2010-03-19 2011-09-22 独立行政法人産業技術総合研究所 大孔径ナノ空間を有する遷移金属酸化物の透明薄膜、その製造方法及び色素増感型デバイス電極
CN103415576A (zh) * 2011-03-09 2013-11-27 株式会社艾迪科 氧化锌系膜形成用组合物、氧化锌系膜的制造方法及锌化合物
CN104254495A (zh) * 2012-04-25 2014-12-31 东曹精细化工株式会社 复合氧化物薄膜制造用组合物和使用该组合物的薄膜的制造方法、以及复合氧化物薄膜
WO2015098992A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 堺化学工業株式会社 酸化亜鉛粒子、それらの製造方法、紫外線遮蔽剤及び化粧料

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
TAKAHISA OMATA等: "Wurtzite CuGaO2: A New Direct and Narrow Band Gap Oxide Semiconductor Applicable as a Solar Cell Absorber", 《JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY》, 5 March 2014 (2014-03-05) *

Also Published As

Publication number Publication date
EP3761083B1 (en) 2024-05-01
CN111758053B (zh) 2022-06-07
WO2019167669A1 (ja) 2019-09-06
JP2019152702A (ja) 2019-09-12
US20210086227A1 (en) 2021-03-25
KR102601447B1 (ko) 2023-11-13
EP3761083A1 (en) 2021-01-06
EP3761083A4 (en) 2021-11-24
JP7060406B2 (ja) 2022-04-26
KR20200105693A (ko) 2020-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102472173B1 (ko) 화학적으로 안정한 알킬 알루미늄 용액, 알킬 알루미늄 가수분해 조성물 용액, 알루미늄 산화물막 도포형성용 조성물, 알루미늄 산화물막을 구비하는 물품, 그의 제조 방법, 산화알루미늄 박막의 제조 방법, 부동태막의 제조 방법, 부동태막, 그리고 그것을 이용한 태양 전지 소자
JP5288464B2 (ja) 酸化亜鉛薄膜の製造方法
JP6117799B2 (ja) 大気圧化学蒸着法によるケイ素酸化物の蒸着
KR101980413B1 (ko) 복합 산화물 박막 제조용 조성물 및 이 조성물을 이용한 박막의 제조 방법, 및 복합 산화물 박막
CN103153865B (zh) 氧化物薄膜制备用组合物及使用该组合物的氧化物薄膜的制备方法
US11820871B2 (en) Aluminum oxide-forming composition and method for producing same
CN111758053B (zh) 氧化锌薄膜形成用组合物和氧化锌薄膜的制造方法
KR102499194B1 (ko) 다이알킬아연 부분가수분해물 함유 용액 및 이 용액을 이용하는 산화아연 박막의 제조방법
JP5822449B2 (ja) 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物
WO2010131621A1 (ja) ドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物、酸化亜鉛薄膜の製造方法、帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜
CN107108255B (zh) 含有第iia族元素的氧化锌薄膜制备用组合物及其制备方法
JP5515144B2 (ja) ドープ酸化亜鉛薄膜形成用組成物及びドープ酸化亜鉛薄膜の製造方法
JP2024047971A (ja) コーティング組成物および酸化亜鉛含有被膜を有する物品の製造方法
KR102454816B1 (ko) 다이알킬아연 및 다이알킬아연 부분가수분해물 함유 용액, 그리고 이러한 용액을 이용하는 산화아연 박막의 제조방법
JP5756273B2 (ja) 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜
JP5892641B2 (ja) 酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜
CN117625020A (zh) 一种亲水涂层、制备方法及器件

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant