CN111722475A - 一种调节组件及微调装置 - Google Patents
一种调节组件及微调装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111722475A CN111722475A CN201910222057.9A CN201910222057A CN111722475A CN 111722475 A CN111722475 A CN 111722475A CN 201910222057 A CN201910222057 A CN 201910222057A CN 111722475 A CN111722475 A CN 111722475A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- adjustment
- adjusting
- fixing pin
- adjusting rod
- rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7046—Strategy, e.g. mark, sensor or wavelength selection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
本发明公开了一种调节组件及微调装置,属于精密机械加工及装配技术领域。该调节组件包括固定底板,其与待调整件固定连接;第一调节杆,其与所述固定底板连接,且所述第一调节杆上设置有驱动块,所述第一调节杆能带动所述驱动块在垂直于所述第一调节杆轴线方向致动;第二调节杆,其一端与所述驱动块抵接,另一端与固定基准抵接。该微调装置包括上述调节组件。本发明的调节组件设置第一调节杆、驱动块、第二调节杆以及与调整底座固定连接的固定底板,并借助固定基准的作用使得第二调节杆向驱动块施加反作用力,进而推动调整底座移动,该调节组件结构简单,安装方便,且无需设置腰型孔也可实现沿某一方向的位移。
Description
技术领域
本发明涉及精密机械加工及装配技术领域,尤其涉及一种调节组件及微调装置。
背景技术
在光刻机的掩模传输分***中,掩模版粗预对准完成后,由交换版手旋转180°后交接给掩模台,消除掩模版在交换版过程中产生的位置偏差,保证掩模版交接到交换版机械手前的上版精度,并确保掩模上版到掩模台的位置重复性。
具体地,探测器读取光源的覆盖情况,判断掩模版标记的位置,从而通过掩模台对掩膜版进行位置补偿。探测器在判断掩膜版的位置偏差时,必须要设定掩膜版的理论位置,则在上版之前,应调整探测器中四象限传感器中心位置与掩膜版理论位置重合,标记为探测器的零位。
目前,光刻机产品中的精细预对准探测器安装板直接通过机械加工保证精度,未直接建立探测器与掩膜版标记位置关系。为了直接建立探测器与掩膜版标记位置的关系,需实现探测器在X、Y和Rz三个方向解耦,且由此调整的探测器位置作为掩膜版标记的理论位置,并对探测器标零位。同时,X、Y两个方向调整分辨率需满足微米级,Rz方向的调整分辨率需满足毫弧度级。
在机械结构中,实现X、Y两个方向可调,一般通过设计腰型孔调节,且一组腰型孔只能单独实现X或Y方向调节。若要同时实现X、Y两个方向可调,一般需采用两层腰孔结构,且调节精度低,稳定性差。若还需调节Rz方向,需另外增加转动机构。同时实现X、Y和Rz三个方向手动可调,则需多层结构才能满足。
为此,亟需提供一种调节组件及微调装置以解决上述问题。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种调节组件,结构简单,无需设置腰型孔即可实现X向或Y向的调节。
本发明的另一目的在于提供一种微调装置,可以在同一层结构上设置调节组件,并实现X、Y和Rz三个方向手动可调。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种调节组件,其特征在于,包括:
固定底板,其与待调整件固定连接;
第一调节杆,其与所述固定底板连接,且所述第一调节杆上设置有驱动块,所述第一调节杆能带动所述驱动块在垂直于所述第一调节杆轴线方向致动;
第二调节杆,其一端与所述驱动块抵接,另一端与固定基准抵接。
作为可选,所述待调整件设置有转动销轴,所述第二调节杆的中间部分与所述转动销轴转动连接,所述驱动块配置为能驱动所述第二调节杆转动。
作为可选,所述调节组件包括弹性件,所述弹性件设置于所述第二调节杆与所述驱动块抵接的一端,所述弹性件的一端与所述第二调节杆连接,另一端与所述待调整件连接,所述弹性件能使所述第二调节杆与所述驱动块抵接。
作为可选,所述弹性件为压缩弹簧,所述第二调节杆位于所述压缩弹簧和所述驱动块之间,且所述压缩弹簧的一端与所述第二调节杆抵接,另一端与所述待调整件连接。
作为可选,所述第二调节杆的一端端面与所述驱动块抵接,另一端端面与所述固定基准抵接,所述驱动块配置为能驱动所述第二调节杆线性移动。
作为可选,所述调节组件包括拉伸弹簧,所述拉伸弹簧与所述第二调节杆的线性移动方向平行,所述拉伸弹簧的一端与第二调节杆连接,另一端与所述待调整件连接,所述拉伸弹簧能使所述第二调节杆与所述驱动块抵接。
作为可选,所述调节组件还包括:
第一固定销,与所述待调整件连接,所述拉伸弹簧的一端与所述第一固定销连接;
第二固定销,与所述第二调节杆固定连接,所述拉伸弹簧的另一端与所述第二固定销连接;
所述第一固定销位于所述驱动块和所述第二固定销之间,或所述驱动块位于所述第一固定销和所述第二固定销之间。
作为可选,所述第二调节杆设置有调节槽,所述第二固定销位于所述调节槽内,且所述第一固定销能伸入所述调节槽内,且所述第一固定销位于所述驱动块和所述第二固定销之间。
作为可选,所述第一固定销平行于所述第一调节杆,且所述第一固定销与所述第二固定销垂直设置。
作为可选,所述驱动块为楔形块,所述楔形块与所述第一调节杆螺纹连接,所述楔形块配置为沿所述第一调节杆轴向运动,且所述第二调节杆的一端与所述楔形块的斜面抵接。
作为可选,所述驱动块为偏心轮,所述第一调节杆与所述偏心轮固定连接,所述第二调节杆的一端与所述偏心轮的外周面抵接。
一种微调装置,包括调整底座及上述任意一种所述的调节组件,所述调节组件的固定底板与所述调整底座固定连接。
作为可选,所述调整底座包括垂直于第一方向的第一平面和垂直于第二方向的第二平面,所述第一平面所在侧设置有至少一个所述调节组件,所述第二平面所在侧设置有至少一个所述调节组件。
作为可选,所述第二平面所在侧设置有至少两个所述调节组件。
作为可选,所述调整底座还包括与所述第一平面相对的第三平面及与所述第二平面相对的第四平面,所述第三平面所在侧和所述第四平面所在侧均设置有与所述调节组件数量对应的两个弹簧柱塞。
作为可选,所述固定底板位于第一调节杆的一端,所述固定底板与所述调整底座的下表面固定连接,所述第一调节杆的另一端伸入所述调整底座上表面设置的通孔,且所述第一调节杆远离所述固定底板的一端的侧壁能与所述调整底座接触。
本发明的有益效果:
调节组件通过设置第一调节杆、驱动块、第二调节杆以及与调整底座固定连接的固定底板,并借助固定基准的作用使得第二调节杆向驱动块施加反作用力,进而推动调整底座移动,该调节组件结构简单,安装方便,且无需设置腰型孔也可实现沿某一方向的位移。
微调装置通过采用上述调节组件,可以实现在同一层结构设置多个调节组件。
附图说明
图1是本发明提供的一种微调装置的第一视角的结构示意图;
图2是本发明实施例一中的一种调节组件的结构示意图;
图3是本发明提供的一种微调装置的第二视角的结构示意图;
图4是本发明实施例二中的另一种调节组件的结构示意图;
图5是本发明实施例三中的又一种调节组件的结构示意图。
图中:
1、调整底座;11、第一平面;12、第二平面;
2、探测器;
31、第一调节杆;32、楔形块、33、固定底板;34、第二调节杆;35、转动销轴;36、压缩弹簧;37、第一固定销;38、拉伸弹簧;39、第二固定销;
32′、偏心轮;
4、弹簧柱塞;5、柱塞固定座。
具体实施方式
为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面将结合附图对本发明实施例的技术方案作进一步的详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例一
图1本发明提供的一种微调装置的第一视角的结构示意图。参照图1,该微调装置可用于光刻机中,其中微调装置包括调整底座1、设置于调整底座1上的探测器2、以及能够调节调整底座1位置进而能调整探测器2位置的调节组件。本实施例中一个探测器2位于调整底座1的某一侧面,另一个探测器2位于调整底座1的另一侧面,仅需通过调整调整底座1在XY平面上的移动或转动即可调整探测器2的位置。具体地,微调装置中包括能实现调整底座1在X、Y和Rz三个方向进行移动的多个调节组件,且由此调整的探测器2位置作为掩膜版标记的理论位置,并对探测器2标零位。同时,X、Y两个方向调整分辨率需满足微米级,Rz方向的调整分辨率需满足毫弧度级。
其中,图2为本实施例中一种调节组件的结构示意图。参见图2,调节组件包括设置有驱动块的第一调节杆31和固定底板33,其中固定底板33与第一调节杆31的一端连接,且配置为与待调整件固定连接,即与本实施例中的调整底座1固定连接,其中可以通过固定螺钉结构将固定底板33与调整底座1固定连接,也可以采用其他固定连接的方式。第一调节杆31沿Z方向延伸,第一调节杆31上设置有驱动块,驱动块能够在垂直于第一调节杆31轴线的方向上致动,如在Y方向上致动。调节组件还包括第二调节杆34,第二调节杆34可选沿X方向延伸,第二调节杆34的其中一端与驱动块在Y方向上抵接,以在驱动块在Y方向上致动时,驱动第二调节杆34的上述一端在Y方向上移动。第二调节杆34的另一端配置为能与Y方向上的固定基准抵接。其中,固定基准及驱动块均位于第二调节杆34的同一侧,且分布于第二调节杆34的两端。可选地,第二调节杆34与调整底座1间通过平行于第一调节杆31的转动销轴35转动连接。当调节组件中第一调节杆31转动时,驱动块驱动第二调节杆34的一端转动,并沿Y方向远离第一调节杆31,第二调节杆34绕转动销轴35转动,而固定基准限制第二调节杆34另一端的移动,在固定基准的反作用力下,第二调节杆34通过转动销轴35驱使驱动块及第一调节杆31移动,进而设置于第一调节杆31一端的固定底板33带动调整底座1移动。
上述调节组件通过设置第一调节杆31、驱动块、第二调节杆34以及与调整底座1固定连接的固定底板33,并借助固定基准的作用使得第二调节杆34向驱动块施加反作用力,进而推动调整底座1移动,该调节组件结构简单,安装方便,且无需设置腰型孔也可实现沿某一方向的位移。
可选地,在图2的实施例中,调节组件中第一调节杆31为调节螺栓,驱动块为楔形块32,楔形块32与第一调节杆31螺纹连接。楔形块32配置为随着第一调节杆31的转动而沿第一调节杆31轴向运动且不发生转动。第二调节杆34的一端与楔形块32的斜面抵接,其中第二调节杆34被嵌设于待调整件中,不能沿平行于第一调节杆31的轴线方向移动。
具体操作之前,第二调节杆34一端与驱动块抵接,另一端与固定基准抵接,此时转动第一调节杆31,使得楔形块32的斜面沿第一调节杆31轴线进行移动驱动第二调节杆34的一端沿Y方向移动。由于第二调节杆34的中间位置设置有转动销轴35,第二调节杆34相对转动销轴35有转动趋势,但是第二调节杆34另一端抵接的固定基准限制了第二调节杆34的转动,此时,固定基准给第二调节杆34一个反作用力,推动调整底座1移动,调节组件实现了对调整底座1的调节。
可选地,为了确保第二调节杆34始终与楔形块32斜面抵接,第二调节杆34与楔形块32抵接的一端在Y方向上设置有弹性件,弹性件的一端与第二调节杆34连接,另一端与调整基座连接,确保弹性件能使第二调节杆34与驱动块抵接。其中,弹性件可选拉伸弹簧38也可选压缩弹簧36。当弹性件为拉伸弹簧38时,拉伸弹簧38与调整基座连接的一端位于驱动块及拉伸弹簧38与第二调节杆34连接的一端之间,确保拉伸弹簧38始终将第二调节杆34拉向靠近楔形块32斜面的一侧。当弹性件为压缩弹簧36时,压缩弹簧36的一端与第二调节杆34远离驱动块的一侧抵接,另一端与调整底座1抵接,其中压缩弹簧36可以插设于调整底座1设置的盲孔中。
图2提供的一种调节组件安装于调整底座1时,可选设置在垂直于X方向的第一平面11所在侧,第一调节杆31沿Z向设置,第二调节杆34沿X向设置,楔形块32的斜面朝Y向设置,从而实现调整底座1带动探测器2在Y方向上的移动。并且,上述调节组件可选设置在垂直于Y方向的第二平面12所在侧,第一调节杆31沿Z向设置,第二调节杆34沿Y向设置,楔形块32的斜面朝X向设置,从而实现调整底座1带动探测器2在X方向上的移动。另外,第一平面11所在侧可设置两个调节组件,其中两个调节组件沿X向分布,当两个调节组件驱动调整底座1的位移量不同时,即可使得调整底座1带动探测器2实现绕Z向的转动。当然,当两个调节组件的位移量相同时,依然可以使得调整底座1带动探测器2实现沿Y向的移动。因此,无论是第一平面11还是第二平面12,均可设置多个调节组件。另外,可选地,为了保证在同一平面所在侧设置的调节组件可以均匀带动调整底座1移动,可参照图1将两个调节组件在同一平面所在侧进行对称布置。
微调装置通过采用上述调节组件,可以实现在同一层结构设置多个调节组件,进而实现X向、Y向的位移调节,同时可以在同一侧设置两个调节组件以实现绕Z轴的转动,即通过调节组件数量的增加即可将移动实现为转动,微调装置在无需增加调整底座1厚度的情况下实现了X、Y和Rz三个方向的调节,结构精妙,且调节精度高,可用于高精度微调设备。
进一步地,上述调节组件具体安装于调整底座1时,固定底板33位于第一调节杆31的一端,固定底板33与调整底座1的下表面固定连接,第一调节杆31的另一端伸入调整底座1上表面设置的通孔,且第一调节杆31远离固定底板33的一端的侧壁能与调整底座1接触。具体地,调整底座1的下表面可设置有能与固定底板33固定连接的螺纹孔,以及设置有用于放置调节组件的安装孔,其中安装孔需将第二调节杆34与固定基准抵接的一端露出,以及需要确保作为驱动块的楔形块32能在安装孔内沿第一调节杆31的轴向移动。这样设置使得调节组件不仅与调整底座1的下部分连接,还与调整底座1的上部分连接,当驱动调节组件带动调整底座1移动时,调整底座1上部分、下部分,即整体都能受到驱动进而移动。进一步,可选地,第一调节杆31为沉头螺栓,其可以嵌设于调整底座1中,避免第一调节杆31的凸设对调整底座1上表面其他物体造成影响,且用于调整调节组件的工具依然可以通过调整底座1上表面的通孔驱动第一调节杆31进行转动。
另外,如图4所示为本实施例提供的微调装置的另一视角的结构示意图。调整底座1还包括垂直于X方向的第三平面,垂直于X方向的第四平面,第三平面与第一平面11相对设置,第四平面与第二平面12相对设置,其中第三平面设置有一个弹簧柱塞4及柱塞固定座5,第四平面设置有两个弹簧柱塞4及两个柱塞固定座5,弹簧柱塞4可以与调整底座1抵接,主要用于防止调整底座1移动后复位。其中弹簧柱塞4及柱塞固定座5的设置数量与位置均可与调节组件的数量对应。当然,当第二平面12所在侧设置的调节组件数量多于两个时,第四平面设置的弹簧柱塞4及柱塞固定座5的数量也多于两个,且可选与调节组件的位置对应设置。
此外,关于微调装置的调整精度可以根据调整调节组件中第一调节杆31的螺距以及楔形块32斜面的倾斜角度来进行调整。
最后,在此需要声明的是,本实施例仅仅是对上述调节组件实现X向、Y向以及RZ三个方向运动时进行的解释说明,当调整调节组件的设置方向时,可以实现其他方向的运动。本实施例在此不再赘述。
实施例二
图3是本实施例提供的另一种调节组件的结构示意图。本实施例与实施例一中的调节组件基本相同,两者的不同之处在于,与第一调节杆31抵接的第二调节杆34在驱动块的作用下不进行转动,而是进行线性移动。
具体地,第一调节杆31沿Z方向延伸,第一调节杆31上设置的驱动块在垂直于轴线方向致动,如在X方向上致动。第二调节杆34可选沿X方向延伸,第二调节杆34的其中一端与驱动块在X方向上抵接,以在驱动块在X方向上致动时,驱动第二调节杆34的上述一端在X方向上线性移动。第二调节杆34的另一端配置为能与X方向上的固定基准抵接,所述驱动块配置为能驱动所述第二调节杆34线性移动。
本实施例的调节组件依然可以通过设置第一调节杆31、驱动块、第二调节杆34以及与调整底座1固定连接的固定底板33,并借助固定基准的作用使得第二调节杆34向驱动块施加反作用力,进而推动调整底座1移动,该调节组件结构简单,安装方便,且无需设置腰型孔也可实现沿某一方向的位移。
具体操作之前,第二调节杆34一端与驱动块抵接,另一端与固定基准抵接,此时转动第一调节杆31,使得作为驱动块的楔形块32沿第一调节杆31轴线进行移动,进而使得与第二调节杆34抵接的斜面沿Z向移动,即可驱动第二调节杆34沿X方向移动。由于第二调节杆34另一端与X方向的固定基准抵接,固定基准限制了第二调节杆34在X方向上的移动,此时,固定基准给第二调节杆34一个反作用力,推动调整底座1沿X方向移动,从而调节组件实现了对调整底座1的调节。
可选地,为了确保第二调节杆34始终与楔形块32斜面抵接,第二调节杆34与楔形块32抵接的一端在X方向上设置有弹性件,该弹性件可选为拉伸弹簧38,拉伸弹簧38与第二调节杆34的线性移动方向平行,即拉伸弹簧38沿X方向设置,其中一端与待调整件,即调整底座1连接,另一端与第二调节杆34连接,拉伸弹簧38能使第二调节杆34与所述驱动块抵接。具体地,调节组件还包括与调整底座1连接的第一固定销37,与第二调节杆34固定连接的第二固定销39,拉伸弹簧的一端与第一固定销37连接,另一端与第二固定销39连接,且第一固定销37位于楔形块32和第二固定销39之间,或驱动块位于第一固定销37和第二固定销39之间,不可出现第二固定销39位于驱动块和第一固定销37之间的情况。本实施例中设置为第一固定销37位于驱动块和第二固定销39之间,这样可以避免拉伸弹簧38需要绕过驱动块与第一固定销37连接进而导致零部件干涉的情况发生,同时可以在一定程度上减小拉伸弹簧38的设置长度。进一步,可选地,第二调节杆34设置有调节槽,第二固定销39位于调节槽内与第二调节杆34连接,第一固定销37能伸入调节槽内,拉伸弹簧38自然也位于调节槽内,这样可以减小调节组件的占用空间。进一步地,第一固定销37平行与第一调节杆31设置,本实施例中,第一固定销37沿Z向设置,第二固定销39沿Y向设置,拉伸弹簧38一端与第二固定销39连接,限定了拉伸弹簧38在Z向的高度,为了降低装配精度要求,第一固定销37沿Z向延伸,拉伸弹簧38的一端可在Z向上适应性调整,使拉伸弹簧38与第一固定销37连接的一端能与拉伸弹簧38与第二固定销39连接的一端保持在同一高度,以降低装配要求。
进一步,可选地,第二调节杆34与楔形块32斜面底面的一端设置有朝第一调节杆31轴向延伸的凸块,本实施例中凸块沿Z向延伸,其中凸块设置有能与楔形块32斜面贴合的接触斜面,以增大第二调节杆34与楔形块32的接触面积。其中凸块可以沿Z向正向和/或Z向反向延伸。
本实施例的调节组件同实施例一中的调节组件一样,可应用于微调装置的调整底座1中,通过调整调节组件在调整底座1中的安装位置以及安装数量即可实现微调装置带动探测器2在X向、Y向和RZ三个方向的运动,当然也可以实现其他方向的运动。
可选地,本实施例中的调节组件和实施例一中的调节组件实现的作用相同,调整底座1中设置的调节组件可以均为实施例一中的调节组件,也可以均为实施例二中的调节组件。当然也可以将实施例一中的调节组件和实施例二中的调节均设置与调整底座1上。
具体地,如图1所示的微调装置,其在调整底座1上设置了实施例一中的调节组件和实施例二中的调节组件。实施例一中设置转动销轴35的调节组件占用平面面积较大,本实施例中调节组件占用平面面积较小。针对调整底座1第一平面11面积较小,第二平面12面积较大的特点,微调装置在第一平面11所在侧设置了本实施例中占用平面面积较小的调节组件,在第二平面12所在侧设置了实施例一中占用面积较大的调节组件,并且在第二平面12所在侧设置了两个调节组件,用于实现微调装置绕Z轴的转动。
实施例三
如图5所示为本实施例提供的又一种调节组件的结构示意图,本实施例中的调节组件与实施例二基本相同,两者的区别仅在于与第一调节杆31连接的驱动块为偏心轮32′,偏心轮32′与第一调节杆31固定连接,不沿第一调节杆31的轴线移动,随着第一调节杆31的转动而转动。另外,调整底座1中用于安装调节组件的安装孔不需要设置使驱动块沿第一调节杆31轴向移动的移动通道,需设置能供偏心轮32′绕第一调节杆31转动的转动通道。相应的,用于与驱动块抵接的第二调节杆34的一端可选为与偏心轮32′侧面接触的圆弧面,第二调节杆34的其他结构均可不发生变化。
类似的,实施例一的调节组件中的驱动块也可采用偏心轮32′。本实施例不再此赘述。
此外,关于微调装置的调整精度可以根据调整调节组件中第一调节杆31的螺距以及偏心轮32′的偏心距来进行调整。
当然,微调装置中安装的调节组件可以是本实施例中的调节组件与实施例一种调节组件的结合,也可以均是本实施例中的调节组件,本领域技术人员结合实施例一和实施例二的设置方式可以将本实施例中的调节组件应用于调整底座1上,本实施例在此不再赘述。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
Claims (16)
1.一种调节组件,其特征在于,包括:
固定底板(33),其与待调整件固定连接;
第一调节杆(31),其与所述固定底板(33)连接,且所述第一调节杆(31)上设置有驱动块,所述第一调节杆(31)能带动所述驱动块在垂直于所述第一调节杆(31)轴线方向致动;
第二调节杆(34),其一端与所述驱动块抵接,另一端与固定基准抵接。
2.根据权利要求1所述的调节组件,其特征在于,所述待调整件设置有转动销轴(35),所述第二调节杆(34)的中间部分与所述转动销轴(35)转动连接,所述驱动块配置为能驱动所述第二调节杆(34)转动。
3.根据权利要求2所述的调节组件,其特征在于,所述调节组件包括弹性件,所述弹性件设置于所述第二调节杆(34)与所述驱动块抵接的一端,所述弹性件的一端与所述第二调节杆(34)连接,另一端与所述待调整件连接,所述弹性件能使所述第二调节杆(34)与所述驱动块抵接。
4.根据权利要求3所述的调节组件,其特征在于,所述弹性件为压缩弹簧(36),所述第二调节杆(34)位于所述压缩弹簧(36)和所述驱动块之间,且所述压缩弹簧(36)的一端与所述第二调节杆(34)抵接,另一端与所述待调整件连接。
5.根据权利要求1所述的调节组件,其特征在于,所述第二调节杆(34)的一端端面与所述驱动块抵接,另一端端面与所述固定基准抵接,所述驱动块配置为能驱动所述第二调节杆(34)线性移动。
6.根据权利要求5所述的调节组件,其特征在于,所述调节组件包括拉伸弹簧(38),所述拉伸弹簧(38)与所述第二调节杆(34)的线性移动方向平行,所述拉伸弹簧(38)的一端与第二调节杆(34)连接,另一端与所述待调整件连接,所述拉伸弹簧(38)能使所述第二调节杆(34)与所述驱动块抵接。
7.根据权利要求6所述的调节组件,其特征在于,所述调节组件还包括:
第一固定销(37),与所述待调整件连接,所述拉伸弹簧(38)的一端与所述第一固定销(37)连接;
第二固定销(39),与所述第二调节杆(34)固定连接,所述拉伸弹簧(38)的另一端与所述第二固定销(39)连接;
所述第一固定销(37)位于所述驱动块和所述第二固定销(39)之间,或所述驱动块位于所述第一固定销(37)和所述第二固定销(39)之间。
8.根据权利要求7所述的调节组件,其特征在于,所述第二调节杆(34)设置有调节槽,所述第二固定销(39)位于所述调节槽内,且所述第一固定销(37)能伸入所述调节槽内,且所述第一固定销(37)位于所述驱动块和所述第二固定销(39)之间。
9.根据权利要求8所述的调节组件,其特征在于,所述第一固定销(37)平行于所述第一调节杆(31),且所述第一固定销(37)与所述第二固定销(39)垂直设置。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的调节组件,其特征在于,所述驱动块为楔形块(32),所述楔形块(32)与所述第一调节杆(31)螺纹连接,所述楔形块(32)配置为沿所述第一调节杆(31)轴向运动,且所述第二调节杆(34)的一端与所述楔形块(32)的斜面抵接。
11.根据权利要求1-9任意一项所述的调节组件,其特征在于,所述驱动块为偏心轮(32′),所述第一调节杆(31)与所述偏心轮(32′)固定连接,所述第二调节杆(34)的一端与所述偏心轮(32′)的外周面抵接。
12.一种微调装置,其特征在于,包括调整底座(1)及权利要求1-11任意一项所述的调节组件,所述调节组件的固定底板(33)与所述调整底座(1)固定连接。
13.根据权利要求12所述的微调装置,其特征在于,所述调整底座(1)包括垂直于第一方向的第一平面(11)和垂直于第二方向的第二平面(12),所述第一平面(11)所在侧设置有至少一个所述调节组件,所述第二平面(12)所在侧设置有至少一个所述调节组件。
14.根据权利要求13所述的微调装置,其特征在于,所述第二平面(12)所在侧设置有至少两个所述调节组件。
15.根据权利要求13所述的微调装置,其特征在于,所述调整底座(1)还包括与所述第一平面(11)相对的第三平面及与所述第二平面(12)相对的第四平面,所述第三平面所在侧和所述第四平面所在侧均设置有与所述调节组件数量对应的两个弹簧柱塞(4)。
16.根据权利要求12所述的微调装置,其特征在于,所述固定底板(33)位于第一调节杆(31)的一端,所述固定底板(33)与所述调整底座(1)的下表面固定连接,所述第一调节杆(31)的另一端伸入所述调整底座(1)上表面设置的通孔,且所述第一调节杆(31)远离所述固定底板(33)的一端的侧壁能与所述调整底座(1)接触。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910222057.9A CN111722475B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种调节组件及微调装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910222057.9A CN111722475B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种调节组件及微调装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111722475A true CN111722475A (zh) | 2020-09-29 |
CN111722475B CN111722475B (zh) | 2021-11-23 |
Family
ID=72562774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910222057.9A Active CN111722475B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种调节组件及微调装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111722475B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6480036A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Toshiba Machine Co Ltd | Device for fixing material to be treated |
CN101303532A (zh) * | 2008-06-10 | 2008-11-12 | 上海微电子装备有限公司 | 可切换工位的六自由度精密定位台 |
CN103901576A (zh) * | 2012-12-28 | 2014-07-02 | 上海微电子装备有限公司 | 可动镜片微调机构 |
CN205787593U (zh) * | 2016-05-31 | 2016-12-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种六自由度调整装置 |
-
2019
- 2019-03-22 CN CN201910222057.9A patent/CN111722475B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6480036A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Toshiba Machine Co Ltd | Device for fixing material to be treated |
CN101303532A (zh) * | 2008-06-10 | 2008-11-12 | 上海微电子装备有限公司 | 可切换工位的六自由度精密定位台 |
CN103901576A (zh) * | 2012-12-28 | 2014-07-02 | 上海微电子装备有限公司 | 可动镜片微调机构 |
CN205787593U (zh) * | 2016-05-31 | 2016-12-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种六自由度调整装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111722475B (zh) | 2021-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60032568T2 (de) | Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat | |
US6191898B1 (en) | Optical imaging device, particularly an objective, with at least one optical element | |
CN102565983B (zh) | 一种动镜轴向微调装置 | |
EP0017144A1 (en) | An apparatus for precisely moving a table | |
WO2005101131A1 (en) | Support device for positioning an optical element | |
KR101234346B1 (ko) | 초정밀 고니오 스테이지 | |
WO2015093046A1 (ja) | XYθテーブル装置 | |
CN111722475B (zh) | 一种调节组件及微调装置 | |
CN104062854B (zh) | 用于光刻设备的调平调焦装置 | |
JPH029550A (ja) | 6自由度微動ステージの駆動装置 | |
CN112162450B (zh) | 基于柔性导轨的空间相机偏心轴调焦机构 | |
DE19853588B4 (de) | Halteeinrichtung für ein Substrat | |
CN210119623U (zh) | 用于大口径光学元件的镜架调整结构 | |
CN205507195U (zh) | 一种平面镜调整装置 | |
JP3342584B2 (ja) | X−yステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置 | |
CN110361828B (zh) | 一种大口径光学元件精密调整镜架 | |
KR20190029386A (ko) | 정밀 회전 스테이지 장치 | |
CN221329311U (zh) | 楔块调节机构 | |
CN115087209B (zh) | 一种具有自动寻径结构的线路板制作用基线穿引装置 | |
CN102789144B (zh) | 光刻对准***参考板的调整机构及调整方法 | |
CN112666671A (zh) | 柱面透镜支架及柱面透镜的调节方法 | |
CN220709543U (zh) | 一种多自由度反射镜调整装置 | |
CN111185748B (zh) | 一种方位调整机构 | |
CN117202569A (zh) | 楔块调节机构 | |
CN113009665A (zh) | 多向调节滑台 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |