CN111710706A - 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。本发明实施例中显示面板包括阵列基板；像素限定层，设置于所述阵列基板，所述像素限定层包括本体部和阵列分布的多个像素开口，所述本体部包括氧化还原反应剂；第一载流子层，设置于所述像素限定层背离所述阵列基板的一侧，所述第一载流子层包括导流部和截流部，所述导流部设置于所述像素开口内，所述截流部位于所述本体部背离所述阵列基板的一侧。所述截流部电导率低于所述导流部的电导率。避免显示面板像素间电流串扰的问题，提高显示精确度及显示面板的显示效果。

Description

显示面板、显示面板的制备方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

背景技术

液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)面板、有机发光二极管显示(OrganicLight Emitting Display，OLED)面板以及利用发光二极管(Light Emitting Diode，LED)器件的显示面板等平面显示面板因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

显示面板尤其是有机发光二极管显示面板中，第一载流子层中包含电子或空穴载流子因此通常具有较高的迁移率、电导率以及良好的导电特性。制备第一载流子层的浆料通常是经过通用掩膜版(common mask)进行蒸镀，蒸镀后第一载流子层覆盖在像素限定层的本体部上，其也同时覆盖像素开口上。由于第一载流子层的电导率高，具有良好的导电特性容易造成显示面板通电工作时像素间出现电流导通继而造成串扰的现象。

因此，亟需一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

发明内容

本发明提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，旨在解决显示面板像素间串扰的问题，提高显示面板的显示效果。

本发明实施例提供一种显示面板，包括：包括：阵列基板；像素限定层，设置于阵列基板，像素限定层包括本体部和阵列分布的多个像素开口，本体部包括氧化还原反应剂；第一载流子层，设置于像素限定层背离阵列基板的一侧，第一载流子层包括导流部和截流部，导流部设置于像素开口内，截流部位于本体部背离阵列基板的一侧。

根据本发明的一个方面，第一载流子层包括P型或N型掺杂材料，P型或N型掺杂材料与氧化还原反应剂发生氧化还原反应的部分的电导率小于导流部的电导率。

根据本发明的一个方面，第一载流子层包括P型掺杂材料，P型掺杂材料包括氟基和/或氰基中的一种或多种基团，氧化还原反应剂为还原剂，使基团被还原剂还原；

优选的，第一载流子层包括空穴注入层，空穴注入层与本体部接触的部分为截流部。

根据本发明的一个方面，本体部还包括至少一种光引发剂，基团在光照下被具有还原性的光引发剂还原；

优选的，氧化还原反应剂或氧化还原反应剂和光引发剂在本体部重量百分比是0.1wt％～10wt％。

根据本发明的一个方面，光引发剂为自由基型光引发剂；

优选的，自由基型光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、二苯基乙酮、α-羟烷基苯酮、双苯甲酰基苯基氧化膦中的一种或多种。

根据本发明的一个方面，还原剂包括硫代硫酸盐、亚硫酸盐、亚磷酸酯类及金属碘化物中的一种或多种。

本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括：

在阵列基板上涂布像素限定层预制剂，预制剂包括成膜树脂、感光树脂、有机溶剂及氧化还原反应剂，曝光及显影处理后得到图案化的像素限定层；

蒸镀混合浆料在本体部表面及像素开口上，形成载流子膜；

载流子膜覆盖于本体部表面的部分与本体部发生氧化还原反应，形成第一载流子层。

根据本发明的一个方面，还包括制备预制剂的步骤：

将氧化还原反应剂添加入有机溶剂中进行溶解，

氧化还原反应剂溶解完全后在有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂后获得预制剂.

根据本发明的一个方面，还包括制备预制剂的步骤：将光引发剂以及氧化还原反应剂添加入有机溶剂中进行溶解，

氧化还原反应剂和光引发剂溶解完全后在有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂后获得预制剂。

又一方面，本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。

在本发明实施例的显示面板中，显示面板包括阵列基板；阵列基板；像素限定层，设置于阵列基板，像素限定层包括本体部和阵列分布的多个像素开口，本体部包括氧化还原反应剂；第一载流子层，设置于像素限定层背离阵列基板的一侧，第一载流子层包括导流部和截流部，导流部设置于像素开口内，截流部位于本体部背离阵列基板的一侧。截流部为第一载流子层的构成材料与本体部的构成材料发生氧化还原反应形成者，截流部的电导率小于导流部的电导率。其中截流部的电导率小于导流部的电导率，截流部导电性变差或不具备导电性，从而阻断了导流部以及截流部间电流的导通，像素间的串扰问题，提高了显示的精确度以及显示效果。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征。

图1是现有技术中显示面板的部分层结构示意图；

图2是现有技术中显示面板的第一载流子层的俯视图；

图3是本发明实施例提供的一种显示面板的部分层结构示意图；

图4是本发明实施例提供的第一载流子层的俯视图；

图5是本发明又一实施例提供的一种显示面板的部分层结构示意图；

图6是本发明又一实施例提供的第一载流子层的俯视图；

图7是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图；

图8是本发明又一实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图；

图9a至图9j是本发明具体实施例的实验结果示意图。

附图标记说明：

10、阵列基板；11、第一电极层；111、第一电极；

20、像素限定层；21、本体部；22、像素开口；

30、第一载流子层；31、导流部；311、像素限定层在改进前的导流部；32、截流部；321、像素限定层在改进前的截流部；

40、还原剂；

50、光引发剂；

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本发明造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本发明的实施例的具体结构进行限定。在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

为了更好地理解本发明，下面结合图1至6对本发明的实施例的显示面板、显示面板的制备方法及显示装置进行详细描述。

请参见图1以及图2，其中图1现有技术中显示面板的部分层结构示意图，图2是现有技术中显示面板的第一载流子层的俯视图。如图1、图2所示，现有技术中显示面板尤其是有机发光二极管显示面板中包括阵列基板10，阵列基板10上形成第一电极层11，第一电极层11中包括多个阵列设置的第一电极。在多个第一电极111上形成像素限定层20，像素限定层20设置于阵列基板10，像素限定层20包括本体部21和阵列分布的多个像素开口22，上述每一个第一电极111对应一像素开口22设置。其中第一电极层11可以是作为阳极的第一电极层11，阳极材料可以采用氧化铟锡、氧化铟锌等。显示面板中还包括第一载流子层30，第一载流子层30设置于像素限定层20背离阵列基板10的一侧。第一载流子层30包括像素限定层在改进前的导流部311和像素限定层在改进前的截流部321，第一载流子层30覆盖本体部21及像素开口22，像素限定层在改进前的导流部311设置于像素开口22内，像素限定层在改进前的截流部321位于本体部21背离阵列基板10的一侧。

其中第一电极层11可以是作为阳极的第一电极层11，阳极材料可以采用氧化铟锡、氧化铟锌等。在阵列基板10上顺序形成第一电极层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和第二电极层，则每一像素开口22中形成一个像素点。

当第一电极层11作为阳极时，第一载流子层30中流经的载流子为空穴，第一载流子层30包含空穴注入层和/或空穴传输层，当第一载流子层中均包含有空穴注入层和空穴传输层时，空穴注入层覆盖本体部21及像素开口22，空穴传输层层叠设置在空穴注入层背向像素限定层的一侧。第一载流子层30包含空穴注入层和空穴传输层时，上述两者尤其是在空穴注入层中包含P型掺杂材料，用以增强空穴的注入和传输能力，P型掺杂材料使得第一载流子层30尤其是空穴注入层的具有良好的导电特性。根据图1以及图2可知，现有技术中第一载流子层30覆盖本体部21及像素开口22时，因为第一载流子层30其中包含P型掺杂材料，且像素限定层在改进前的导流部311和像素限定层在改进前的截流部321中P型掺杂材料含量相同，两者间不存在电导率的差异均具有良好的导电特性，从而显示面板像素间容易产生串扰问题，影响显示面板显示效果。在此基础上，由于不同颜色发光元件之间的启亮电压不同，如蓝色发光元件的启亮电压大于绿色发光元件的启亮电压大于红色发光元件的启亮电压，故在启亮蓝色发光元件发光时，极易启动其他颜色发光元件发光，因此造成串色现象。

另外，如图1所示，像素限定层在改进前的导流部311为暴露出第一电极111的部分正投影到第一载流子层时，所对应的第一载流子层30的区域，像素限定层在改进前的截流部321为第一载流层30覆盖本体部21的区域。

同样的，当第一电极层作为阴极时，第一载流子层30中流经的载流子为电子，第一载流子层30包含电子注入层和/或电子传输层，当第一载流子层中均包含有电子注入层和电子传输层时，电子注入层先覆盖本体部21及像素开口22，电子传输层层叠设置在电子注入层背向像素限定层的一侧。第一电极层11作为阴极时，第一载流子层30包含电子注入层和电子传输层时，上述两者尤其是电子注入层中包含N型掺杂材料，用以增强电子的注入和传输能力，N型掺杂材料使得第一载流子层30具有良好的导电特性。根据图1以及图2可知，现有技术中第一载流子层30覆盖本体部21及像素开口22时，因为第一载流子层30其中包含N型掺杂材料且像素限定层在改进前的导流部311和像素限定层在改进前的截流部321中N型掺杂材料含量相同，两者间不存在电导率的差异均具有良好的导电特性，从而显示面板像素间容易产生串扰问题，影响显示面板显示效果。

因此为了解决上述因为第一载流子层所导致的像素间串扰的问题，如图3至图6所示，本发明实施例提供一种显示面板，其包括：阵列基板10；阵列基板10上形成第一电极层11，第一电极层11中包括多个阵列设置的第一电极111。在多个第一电极111上形成像素限定层20，像素限定层20设置于阵列基板10，像素限定层20包括本体部21和阵列分布的多个像素开口22，本体部21包括氧化还原反应剂；显示面板10中还包括第一载流子层30，第一载流子层30设置于像素限定层20背离阵列基板10的一侧，第一载流子层30包括导流部31和截流部32，导流部31设置于像素开口22内，所述截流部32位于本体部21背离所述阵列基板的一侧。参照图3以及图5，具体的，导流部31为第一电极111暴露出像素开口22的部分正投影到第一载流子层时，所对应的第一载流子层30中的区域。

截流部32为第一载流层30覆盖本体部21的区域，截流部32为第一载流子层30的构成材料与本体部21的构成材料发生氧化还原反应形成者，截流部32的电导率小于导流部31的电导率。具体的，第一载流子层包括P型或N型掺杂材料，P型或N型掺杂材料与本体部21的氧化还原反应剂发生氧化还原反应的部分的电导率小于所述导流部的电导率。尤其是截流部32与本体部21接触的部分的电导率小于导流部的电导率，具体的，截流部32与本体部21接触的部分不应仅理解为接触面，接触的部分应理解为在竖直方向上具有层厚的接触部分。截流部32与本体部21接触的部分的电导率小于导流部的电导率，因此从整体上截流部32的电导率小于导流部的电导率。

其中在一些可选的实施例中，如图3、图4所示，当第一载流子层30中流经的载流子为电子时，其包括N型掺杂材料，其流经的载流子为电子时，氧化还原反应剂为氧化剂。可选的，氧化还原反应剂包含一种或多种氧化剂。当制备第一载流子层30的混合浆料通过蒸镀工艺制备第一载流子层30时，沉积在本体部21背离阵列基板10的一侧的制备第一载流子层30的混合浆料中的N型掺杂材料被本体部21中的氧化剂氧化，本体部21中的氧化剂破坏N型掺杂材料中利于电子传输的基团，从而降低第一载流子层30中截流部22的电导率使其不再具有良好的电导性。而沉积像素开口22内的制备第一载流子层30的混合浆料，形成第一载流子层30的导流部31；所示导流部31不与本体部21发生氧化还原反应。具体的，导流部31形成在像素开口22内且形成在第一电极111朝向像素开口22的一侧。由此截流部32的电导率小于导流部31的电导率，截流部32电导率的降低其导电性变差，使截流部32在显示面板使用过程中不会构成像素间的漏电通道反而阻碍了像素间通过第一载流子层漏电，避免显示面板像素间串扰的问题。

在这些实施例中，优选的，第一载流子层30包括电子注入层，电子注入层与本体部21接触的部分为截流部32。

在另一些可选的实施例中，当第一载流子层30中流经的载流子为空穴时，其包括P型掺杂材料，其流经的载流子为空穴时，氧化还原反应剂为还原剂。可选的，氧化还原反应剂包含一种或多种还原剂。当制备第一载流子层30的混合浆料通过蒸镀工艺制备第一载流子层30时，沉积在本体部21背离阵列基板10的一侧的制备第一载流子层30的混合浆料中的P型掺杂材料被本体部21中的还原剂还原，本体部21中的还原剂破坏P型掺杂材料中利于空穴传输的基团，从而降低第一载流子层30中截流部的电导率使其不再具有良好的电导性。而沉积像素开口22内的制备第一载流子层30的混合浆料形成第一载流子层30的导流部31，所示导流部31不与本体部21发生氧化还原反应。具体的，导流部31形成在像素开口22内且形成在第一电极111朝向像素开口22的一侧。由此截流部32的电导率小于导流部31的电导率，截流部32电导率的降低导电性变差，使截流部在显示面板使用过程中不会构成像素间的漏电通道反而阻碍了像素间通过第一载流子层漏电，避免显示面板像素间串扰的问题。

在这些实施例中，优选的，第一载流子层30包括空穴注入层，空穴注入层与本体部21接触的部分为截流部32。

在本发明又一实施例中，如图5、图6所示，当第一载流子层30中流经的载流子为空穴时，第一载流子层包括P型掺杂材料。显示面板中本体部21还包括至少一种光引发剂，在光照下光引发剂使第一载流子层30的截流部32与本体部21发生还原反应。优选的，氧化还原反应剂或氧化还原反应剂和所述光引发剂在本体部的重量百分比是0.1wt％～10wt％。其中光照条件包括可见光光照以及紫外光光照条件，本发明可选的实施例中不对光照条件做具体的限定，只要能使光引发剂产生可以还原P型掺杂材料的活性碎片即可，活性碎片可以是自由基、阳离子等。

在这些实施例中，第一载流子层包括的P型掺杂材料包括氟基(-F)和/或氰基(-CN)中的一种或多种基团，氟基(-F)和/或氰基(-CN)基团被还原剂和/或光引发剂还原，使截流部的电导率小于导流部的电导率。其中氟基(-F)和/或氰基(-CN)中的一种或多种基团具有较强的电负性利于P型掺杂材料中空穴传输。

在一些可选的实施例中，还原剂包括硫代硫酸盐、亚硫酸盐、亚磷酸酯类及金属碘化物中的一种或多种。其中硫代硫酸盐具有较强的还原能力，用于还原P型掺杂材料的硫代硫酸盐可以选取硫代硫酸钠。硫代硫酸钠的合成方法较多，有亚硫酸钠法、硫化碱法等。亚硫酸钠法由纯碱溶液与二氧化硫气体反应，加入烧碱中和，加硫化碱除去杂质，过滤，再将硫磺粉溶解在热亚硫酸钠溶液中进行反应，经过滤、除杂质、再过滤、加烧碱进行碱处理，经浓缩、过滤、结晶、离心脱水、筛选，制得硫代硫酸钠成品。硫化碱法利用硫化碱蒸发残渣、硫化钡废水(含有碳酸钠和硫化钠)配制成的原料液与二氧化硫反应，澄清后加入硫磺粉进行加热反应，经蒸发、冷却结晶、洗涤、分离、筛选，制得硫代硫酸钠成品。本体部21中的硫代硫酸盐可由实验室制得也可以购买商用的产品。

亚硫酸盐因其具有还原性强的亚硫酸根而具有很强的还原能力，亚硫酸盐中，硫的氧化数为+4，所以亚硫酸盐既有氧化性，又有还原性，但它们的还原性是主要的。亚硫酸钠是亚硫酸盐存在的最常见的形式，是优良的还原剂。本体部21中的亚硫酸盐可以是亚硫酸钾、亚硫酸钠、亚硫酸镁等。

亚磷酸酯类具有良好的还原能力，从三价磷化合物的基本性能出发，根据磷元素的原子结构理论，d轨道可以参与杂化过程，它与其他原子的P轨道重叠后往往形成稳定的p-dπ键。三价磷氧化产物的P＝O键能高达502～712kJ/mol，亚磷酸酯的氧化产物的P＝O键能也高达611kJ/mol，由此亚磷酸酯类化合物具有较强的还原能力。进一步的，磷是第Ⅴ主族元素，其三价化合物中具有一对未成键的电子，因此在有机反应中常常变现亲核能力较强。同时，磷原子的体积较大，受电子离域作用的影响，有机亚磷酸酯化合物中的磷原子有被亲核试剂作用的可能。本发明实施例中优选的，可以选用亚磷酸三甲酯，亚磷酸三乙酯作为还原剂。

在一些可选的实施例中，光引发剂为自由基型引发剂。大多数的自由基型光引发剂在紫外和可见光区域都有一定的感光度，自由基型光引发剂在光照条件下会产生大量的自由基，自由基具有较强的还原能力可作为还原剂使氟基(-F)和/或氰基(-CN)基团发生还原反应。其中自由基型光引发剂可分为裂解型自由基光引发剂和夺氢型光引发剂，通常裂解型自由基光引发剂在吸收光能后形成两对具有反应活性自由基的碳碳双键。而夺氢型光引发剂吸收光能后再激发态与助引发剂发生双分子作用，通过夺氢反应或电子/质子转移形成活性自由基，此类型的光引发剂需要基于双分子作用，引发速率低于裂解型光引发剂。所以在本发明实施例中优先选用裂解型自由基光引发剂。其中裂解型自由基光引发剂一般包括安息香醚类、苯偶酰缩酮类、苯乙酮类以及酰基磷氧化物。因此优选的，该自由基型光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、二苯基乙酮、α-羟烷基苯酮、双苯甲酰基苯基氧化膦中的一种或多种。

请参阅图7在本发明实施例中还提供一种显示面板的制备方法，包括：

步骤S01：在形成有第一电极层11的阵列基板上涂布像素限定层20预制剂，像素限定层20预制剂包括成膜树脂、感光树脂、有机溶剂及氧化还原反应剂，曝光剂显影处理后得到图案化的像素限定层，图案化的像素限定层包括本体部21和阵列分布的多个像素开口22；

在一些实施例中，像素限定层20预制剂的制备步骤包括：

将氧化还原反应剂加入有机溶剂中进行溶解；

在氧化还原反应剂溶解完全后再在有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂获得像素限定层20预制剂；优选的，在氧化还原反应剂溶解完全后再有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂过程中进行充分均匀混合，对充分混合均匀的方式不做限定，可以是磁力搅拌，机械搅拌等方式；

步骤S02：蒸镀混合浆料在本体部21背离所述阵列基板的一侧及阵列分布的多个像素开口22，形成载流子膜，载流子膜覆盖于本体部21背离所述阵列基板的一侧的部分与本体部发生氧化还原反应，形成第一载流子层30；

具体的，在蒸镀的过程中包含有掺杂有P型掺杂材料或N型掺杂材料的混合浆料在沉积于本体部21背离所述阵列基板的一侧的过程中就开始发生氧化还原反应，使得混合浆料中的P型掺杂材料或N型掺杂材料失效继而蒸镀结束后形成第一载流子层30。

至此，第一载流子层30，覆盖像素限定层20设置，其导流部31设置于像素开口22内，截流部32位于本体部21背离阵列基板10的一侧，截流部为第一载流子层30的构成材料与本体部21的构成材料发生氧化还原反应形成者，则与所示阻断部发生反应的截流部32的电导率小于导流部31的电导率。

步骤S03：在第一载流子层上形成发光层。

步骤S04：在发光层上蒸镀第二载流子层。

步骤S05：在第二载流子层上形成第二电极层，第二电极层与第一电极层相对，如第一电极层为阳极层那么第二电极层就为阴极层。

本发明实施例中还提供一种显示装置，包括上述步骤制备得到的显示面板。

请参阅图8在本发明又一实施例中还提供一种显示面板的制备方法，包括：

步骤S01’：在包含有第一电极层11的阵列基板上涂布像素限定层20预制剂，像素限定层20预制剂包括成膜树脂、感光树脂、有机溶剂及氧化还原反应剂，曝光剂显影处理后得到图案化的像素限定层，图案化的像素限定层包括本体部21和阵列分布的多个像素开口22。

在一些实施例中，像素限定层20预制剂的制备步骤包括：

将氧化还原反应剂以及光引发剂加入有机溶剂中进行溶解；

在氧化还原反应剂以及光引发剂溶解完全后再在有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂获得像素限定层20预制剂；优选的，在氧化还原反应剂溶解以及光引发剂完全溶解后再在有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂的过程中进行充分均匀混合，对充分混合均匀的方式不做限定，可以是磁力搅拌，机械搅拌等方式；

步骤S02’：蒸镀混合浆料在本体部21背离所述阵列基板的一侧及阵列分布的多个像素开口22，形成载流子膜，载流子膜覆盖于本体部21背离所述阵列基板的一侧的部分与本体部发生氧化还原反应，形成第一载流子层30；

具体的，在蒸镀过程中同时提供光照条件使光引发剂产生具有还原性的自由基，在蒸镀的过程中包含有掺杂有P型掺杂材料的混合浆料在沉积于本体部21背离所述阵列基板的一侧的过程中就开始与本体部21中的还原剂以及光引发剂产生的自由基发生氧化还原反应，使得混合浆料中的P型掺杂材料失效继而蒸镀结束后形成第一载流子层30。由于光引发剂在光照下可以产生具有还原性的活性碎片如自由基，因此当第一载流子层中掺杂P型掺杂材料时，上述的氧化还原反应剂为还原剂，在还原剂中加入光引发剂可以进一步提升本体部21的还原能力。

至此，第一载流子层30，覆盖像素限定层20设置，其导流部31设置于像素开口22内，截流部32位于本体部21背离阵列基板10的一侧，截流部为第一载流子层30的构成材料与本体部21的构成材料发生氧化还原反应形成者，则截流部32的电导率小于导流部31的电导率。

步骤S03’：在第一载流子层上形成发光层。

步骤S04’：在发光层上蒸镀第二载流子层。

步骤S05’：在第二载流子层上形成第二电极层，第二电极层与第一电极层相对，如第一电极层为阳极层那么第二电极层就为阴极层。

本发明实施例中还提供一种显示装置，包括上述步骤制备得到的显示面板。

【具体实施例】

下述实施例更具体地描述了本发明实施例公开的内容，这些实施例仅仅用于阐述性说明，因为在本发明公开内容的范围内进行各种修改和变化对本领域技术人员来说是明显的。除非另有声明，一下实施例中所报道的所有份、百分比、和比值都是基于重量计，而且实施例中使用的所有试剂都是可以商购获得或是按照常规方法进行合成获得，并且可直接使用而无需进一步处理，以及实施例中使用的仪器均可商购获得。

实施例1至9以及对比例1中的显示面板的制备均按照以下方法进行制备：

步骤一：像素限定层预制剂的制备过程：将改性添加剂加入到有机溶剂中进行溶解，改性添加剂在有机溶剂中溶解完全后加入感光树脂和成膜树脂，将上述组合物进行均匀混合使得改性添加剂、感光树脂以及成膜树脂在有机溶剂中混合均匀，完成像素限定层预制剂的制备。

其中成膜树脂具有羟基，可以是酚醛树脂、环氧树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂等。成膜树脂为4～10份。

感光树脂为萘醌系重氮型感光树脂，通式如下：

其中R¹为2,1-重氮萘醌-5-磺酰酯基，R²为2,1-重氮萘醌-4-磺酰酯基，m，n为0至3的整数，且m+n≤3；x,y为0至3的整数，且x+y≤3。感光树脂10～15份。

改性添加剂为氧化还原反应剂或氧化还原反应剂和光引发剂。改性添加剂为1至10份。

有机溶剂为乙二醇单甲醚、乙二醇单***、丙二醇单***、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃等。有机溶剂为200～300份。

优选的，像素限定层预制剂的配比为：

成膜树脂：酚醛树脂8份；

感光树脂：萘醌系重氮型感光树脂，通式中m＝n＝1,x＝y＝1,15份；

有机溶剂：乙二醇单***，260份；

改性添加剂：添加量如表1所示。

将像素限定层预制剂涂布在阵列基板上，通过曝光以及显影得到像素限定层，具体实施例中像素限定层的材料为包含改性添加剂的聚酰亚胺高分子材料，其中阵列基板上形成有第一电极层11，第一电极层11为阳极层。

步骤二：蒸镀混合浆料到像素限定层背离所述阵列基板的一侧，形成载流子膜，载流子膜覆盖于本体部21背离所述阵列基板的一侧的部分与本体部发生氧化还原反应，形成第一载流子层30；在本具体实施例中第一载流子层30包含空穴注入层和空穴传输层，空穴注入层中包含的P型掺杂材料与本体部中的改性添加剂(还原剂，或还原剂和光引发剂)发生氧化还原反应从而形成电导率较导流部电导率低的截流部。

步骤三：在第一载流子层上形成发光层。

步骤四：在发光层上蒸镀第二载流子层，在本具体实施例中第二载流层包括电子注入层和电子传输层。

步骤五：在第二载流子层上形成第二电极层，第二电极层为阴极层。

本发明实施例中还提供一种显示装置，其包括上述步骤制备得到的显示面板。

将制备得到的显示面板做如下测试：控制显示面板显示单色蓝光(3灰阶)，同时测试显示面板中红光像素光谱的相对于蓝光光谱的相对强度。测试设备为柯尼卡美能达分光辐射亮度计，型号为CS2000A。

对比例中改性添加剂的组分种类、各组分的份数以及实验结果如表1所示：

表1

图9a至图9j中光波长460nm代表的是蓝光特征波长，光波长526nm代表的是绿光特征波长，光波长627nm代表的是红光特征波长。具体的计算公式：

相对强度＝绿光波长范围内的峰值(526nm)或红光波长范围内的峰值(627nm)/蓝光波长范围段的峰值×100％

由表1以及图9a至图9j可知，在像素限定层预制剂中未加入改性添加剂时如对比例1以及图9a所示，显示面板出现较为严重的像素间串扰的问题，具体的体现在单一蓝光显示(3灰阶)，红光像素光谱相对强度为6.6％，绿光像素光谱相对强度为2.8％。在硫代硫酸钠加入份数为两份时，绿光和蓝光的相对强度都有所下降，说明像素串扰的问题有所改善，但是因为改性添加剂的加入量较少仍然存在像素串扰的问题。

如图9b至图9d所示，硫代硫酸钠的添加量越多，像素串扰的现象越不明显，具体体现为绿光像素光谱的相对强度下降至零，同时红光像素光谱的相对强度也逐渐下降。

如图9d至图9f所示，相比图9a的结果，硫代硫酸钠、亚硫酸钠、亚磷酸三甲酯以及碘化钾添加入像素限定层预制剂中均能使第一载流子层的截流部的电导率低于导流部的电导率，均可解决像素间串扰的问题。在相同份数的添加情况下，对第一载流子层中的P型掺杂材料的还原效果要从优到较优的排序为：硫代硫酸钠优于亚硫酸钠，亚硫酸钠优于碘化钾，碘化钾优于亚磷酸三甲酯。

如图9a、图9e以及图9h至9j所示，光引发剂的加入和还原剂硫代硫酸钠具有协同作用，均可使第一载流子层的截流部的电导率低于导流部的电导率避免了显示面板像素间串扰的问题，其中在对显示面板显示效果的提升以及串扰问题的解决方面像素限定层预制剂单纯加入还原剂硫代硫酸钠要优于同份数的还原剂硫代硫酸钠与光引发剂共同添加入像素限定层预制剂的情形。

综上，从对比例1以及实施例1至9可以看出，当第一载流子层中包含P型掺杂材料用于加强空穴的传输和注入时，在像素限定层预制剂中无论是单纯加入还原剂还是还原剂和光引发剂都可解决像素串扰的问题，提高显面板的显示效果。

本发明可以以其他的具体形式实现，而不脱离其精神和本质特征。例如，特定实施例中所描述的算法可以被修改，而***体系结构并不脱离本发明的基本精神。因此，当前的实施例在所有方面都被看作是示例性的而非限定性的，本发明的范围由所附权利要求而非上述描述定义，并且，落入权利要求的含义和等同物的范围内的全部改变从而都被包括在本发明的范围之中。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板；

像素限定层，设置于所述阵列基板，所述像素限定层包括本体部和阵列分布的多个像素开口，所述本体部包括氧化还原反应剂；

第一载流子层，设置于所述像素限定层背离所述阵列基板的一侧，所述第一载流子层包括导流部和截流部，所述导流部设置于所述像素开口内，所述截流部位于所述本体部背离所述阵列基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一载流子层包括P型或N型掺杂材料，所述P型或N型掺杂材料与所述氧化还原反应剂发生氧化还原反应的部分的电导率小于所述导流部的电导率。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一载流子层包括P型掺杂材料，所述P型掺杂材料包括氟基和/或氰基中的一种或多种基团，所述氧化还原反应剂为还原剂，使所述基团被所述还原剂还原；

优选的，所述第一载流子层包括空穴注入层，所述空穴注入层与所述本体部接触的部分为所述截流部。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述本体部还包括至少一种光引发剂，所述基团在光照下被具有还原性的所述光引发剂还原；

优选的，所述氧化还原反应剂或所述氧化还原反应剂和所述光引发剂在本体部重量百分比是0.1wt％～10wt％。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述光引发剂为自由基型光引发剂；

优选的，所述自由基型光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、二苯基乙酮、α-羟烷基苯酮、双苯甲酰基苯基氧化膦中的一种或多种。

6.根据权利要求3至5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述还原剂包括硫代硫酸盐、亚硫酸盐、亚磷酸酯类及金属碘化物中的一种或多种。

7.一种权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在阵列基板上涂布像素限定层预制剂，所述预制剂包括成膜树脂、感光树脂、有机溶剂及氧化还原反应剂，曝光及显影处理后得到图案化的像素限定层；

蒸镀混合浆料在所述本体部表面及所述像素开口上，形成载流子膜；

所述载流子膜覆盖于所述本体部表面的部分与所述本体部发生氧化还原反应，形成所述第一载流子层。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括制备所述预制剂的步骤：

将所述氧化还原反应剂添加入所述有机溶剂中进行溶解，

所述氧化还原反应剂溶解完全后在所述有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂后获得所述预制剂。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括制备所述预制剂的步骤：将光引发剂以及所述氧化还原反应剂添加入所述有机溶剂中进行溶解，

所述氧化还原反应剂和所述光引发剂溶解完全后在所述有机溶剂中加入感光树脂和成膜树脂后获得所述预制剂。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置具有如权利要求1-6任一项所述的显示面板。

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