CN111452537A - 显示方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示方法及装置，包括：在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。本发明所述显示方法在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。

Description

显示方法及装置

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及了一种显示方法及显示装置、书写装置及热成像。

背景技术

目前，在完全无光的情况下，人员之间的交流有时需要用书写来传达信息，以避免暴露自身。一般的显示装置通过人眼直接观察，必须依赖于可见光，需要自身发光或依赖照明。自身发光的显示方式如液晶屏不能在上述场合使用，而本身不发光的显示方式如电子墨水或传统的纸笔在无光条件下无法看见。由于近红外光能被硅基图像传感器探测到，利用近红外光来照明或显示的方法也会暴露自身目标，因此也不可行。

因此，需要设计一种可以在无光环境下，自身并不发出可见光或近红外光的显示方法及装置。

发明内容

本发明提供了一种显示方法，能够在无光环境下显示信息，并且自身并不发出可见光或近红外光。

本发明提供了一种显示方法，所述方法包括：在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。

本发明所述显示方法的有益效果在于：在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。

进一步，所述表面被书写部分热辐射高于未被书写部分；或者，所述表面被书写部分热辐射低于未被书写部分。

进一步，在所述表面被书写部分与未被书写部分形成的热辐射差异存在设定的时间后，消除该热辐射差异；或者热辐射差异自行消失。热辐射差异消失后，书写的信息被擦除。

本发明还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括至少一个显示表面；进行所述书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。

优选的，在进行所述书写时，有液体留存在所述显示表面被书写的区域，当液体挥发时，所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。

优选的，所述显示表面包括多孔材料和/或液体吸附材料，使得所述液体留存在所述显示表面设定的时间。

优选的，所述显示表面被加热装置加热，所述液体被加热挥发完，所述显示表面恢复至同一温度，消除热辐射差异。

优选的，每个显示单元包括正负电极和电阻，进行所述书写时，被书写部分正负电极导通，使得对应电阻升温，所述被书写部分电阻与未被书写部分存在热辐射差异。例如，可以通过导电的书写工具将正负电极导通，或通过产生变形使得正负电极发生物理接触。

优选的，使电阻断电，消除所述热辐射差异，即使正负电极已断开。

优选的，所述电阻位于绝热材料中，所述绝热材料可以是空气或陶瓷等。

优选的，所述正负电极导通后，所述电阻一直保持在导通状态。

优选的，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、光耦器件U1、光耦器件U2、电阻；当书写时，被书写部分正负电极SW1导通，光耦器件U1导通，驱动光耦器件U2内部的发光二极管；光耦器件U2管脚导通，从而实现光耦器件U2的自驱动；即使开关SW2断开，电阻一直处于通电状态而发热；当开关SW1短接，打破光耦器件U2的平衡，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

优选的，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、比较器U1、电阻；当书写时，书写工具使得开关SW1短接，比较器U1的正反相端有电压差，比较器输出高电平，驱动电阻持续发热；即使开关SW1断开，电阻一直处于通电状态而发热；当开关SW2短接，比较器U1的正反相端的压差为0伏，比较器输出低电平，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

优选的，每一个显示单元包括：PMOSQP1、三极管QP2、开关SW1、电阻；当书写时，书写根据使得开关SW1短接，使得三极管QP2导通，三极管QP2集电极电压拉底，PMOSQP1导通，提供三极管QP2基极的电压，让三极管QP2和PMOSQP1一直处于导通状态，从而驱动电阻持续发热；当开关SW1再次短接时，三极管QP2基极向集电极放电，三极管QP2变成截止状态，PMOSQP1不通电，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除；所述PMOSQP1为P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。

本发明还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括背景辐射源；所述背景辐射源上方设置有用于遮挡背景辐射源热辐射的书写层。

优选的，所述书写层与背景辐射源之间具有设定的距离；书写时，所述书写层被书写部分与背景辐射源之间的距离发生改变，被书写部分书写层温度与背景辐射源温度之间的差值发生改变；所述被书写部分书写层与所述书写层未被书写部分存在热辐射差异。

优选的，恢复所述书写层与背景辐射源之间的距离，消除所述热辐射差异。

优选的，所述书写层为可部分被擦除或涂覆的结构；所述背景辐射源与书写层之间设置有热辐射可透过的支撑层，用于支撑书写层；书写时，所述书写层的被书写部分被擦除或涂覆，被擦除或涂覆部分的背景辐射源的热辐射被暴露或遮挡；热辐射暴露部分的背景辐射源与被遮挡部分的书写层之间存在热辐射差异。

优选的，在擦除或涂覆所述部分书写层后，经过设定的时间，重新涂覆或擦除所述书写层，所述书写层重新遮挡或暴露所述背景辐射源的热辐射，消除所述热辐射差异。

本发明还提供一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有一定温度的背景辐射源；所述背景辐射源表面被书写部分涂覆有书写层，所述书写层与所述背景辐射源的热辐射发射率不同。

优选的，所述背景辐射源和书写层的热辐射发射率差异大于0.2。

优选的，所述背景辐射源被加热或冷却。

优选的，所述背景辐射源和书写层其中之一由金属制成。

优选的，擦除或重新涂覆所述书写层，消除所述热辐射差异。

本发明还提供了一种书写装置，应用于前述的显示方法；所述书写装置具有设定温度；所述书写装置的温度与被书写表面温度不同；书写时，所述书写装置与被书写表面进行热传导，改变被书写部分的温度，被书写部分与未被书写部分存在所述热辐射差异；或者所述热辐射差异存在一定时间后自行消失。

本发明还提供了一种热成像装置，应用于前述的显示方法；所述热成像装置读取该热辐射差异形成的热图像。

优选的，所述热成像装置通过显示装置贴住人眼显示图像。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例三所述装置的示意图；

图2为本发明实施例三所述装置每一个显示单元的第一种电路图；

图3为本发明实施例三所述装置每一个显示单元的第二种电路图；

图4为本发明实施例三所述装置每一个显示单元的第三种电路图

图5为本发明实施例三所述装置正负电极各自按线列排列的示意图；

图6为本发明实施例四所述装置的示意图；

图7为本发明实施例五所述装置的示意图；

图8为本发明实施例六所述装置的示意图。

图中各附图标记说明：

1、书写装置或手指，2、电阻，3、电极，4、显示单元电路，5、书写层，6、滑动拉条，7、背景辐射源，8、支撑层。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

本发明说明书、权利要求书和附图中出现的术语“第一”、“第二”和“第三”等是用于区别不同的对象，并非用于描述特定的顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、***、产品或设备没有限定于己列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

实施例一、

本发明提供了一种显示方法，所述方法包括：在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在表面形成存在热辐射差异的热图像；通过热成像装置，读取该热辐射差异形成的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。本发明所述显示方法在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。本发明所述红外热像仪通过探测物体本身发出的热辐射来成像，通常用于夜视或温度场分析。热图像的观察可以采用头戴式装置直接贴住人眼，其微显示装置发出的光就不会被旁人观测到。

所述产生热辐射差异主要有两个方向：一种是所述表面被书写部分温度高于未被书写部分；另一种是所述表面被书写部分温度低于未被书写部分。只要具有热辐射差异即可，当在显示平面上进行书写时，被写过的部分与未被书写的部分产生热辐射差异，就可以被热成像装置捕捉到书写的内容。

进一步，在所述表面被书写部分与未被书写部分形成的热辐射差异存在设定的时间后，消除该热辐射差异；或者热辐射差异自行消失。在显示平面上书写过文字之后，该热辐射差异产生的文字需要存在一段时间，以便用户有时间可以看到并记住该内容。在用户记住该文字内容后，可以将表面的温度重置，恢复到同一温度的状态，擦除原文字，进行下一屏书写。

实施例二、

本发明还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括至少一个显示表面；所述显示表面存在背景温度；当所述显示表面被书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。所述的显示表面可以是物体的表面，在进行所述书写时，有液体留存在所述显示表面被书写的区域，所述液体可以为水，当液体挥发时，挥发带走被书写位置的热量，使得所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。

使用时，可以使用水笔或用手蘸水，甚至直接用手指(人体因为出汗，手指上会有一定量的水)在物体表面上书写，当水挥发时，挥发带走被书写位置的热量，使得所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。

所述显示装置可以是专用的书写板，所述书写板表面包括多孔材料和/或液体吸附材料，来延缓液体挥发的速度，使得所述液体留存在所述显示表面设定的时间，在这段时间里，用户可以看清并记录书写的内容。所述显示表面可以被加热装置加热，所述液体被加热挥发完后，所述显示表面恢复至同一温度，消除热辐射差异，擦除原文字，进行下一屏书写。当然也可以等待显示表面上的液体自然挥发完毕。

本发明所述的显示装置需要与热成像装置配合使用。

实施例三、

如图1所示，本发明还提供了另一种思路的显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括至少一个显示表面；所述显示表面存在背景温度；当所述显示表面被书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。

所述显示表面包括电极3阵列，所述电极3阵列由若干正负电极3对组成；每一对正负电极3够成一个基本的热点，进行所述书写时，被书写部分正负电极3导通，使得被书写部分升温，所述电极3顶端设置电阻2，使得正负电极3导通时，电流流过相应的部分温度显著增高。可以通过电路4设计，使得书写工具离开显示面后，导通的正负电极3仍处于导通状态。所述被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异，由于正负电极3不断的提供电源发热，因此这个方案可以一直维持被书写部分的温度高于其他部分的温度。本实施例所述的显示装置可以连接电源，不停的为导通的正负电极3对提供电源，所述正负电极3导通后一直保持在导通状态。所述电极3阵列位于绝热材料中，这样可以缓解热的扩散，使得被书写的部分明显局别与未被书写部分，所述绝热材料可以是陶瓷或空气等。在正负电极3导通一段时间后，当需要消除书写内容时，控制正负电极3断开，消除所述热辐射差异，擦除原文字，进行下一屏书写。

如图2所示，每一个显示单元可以包括：开关SW1、开关SW2、光耦器件U1、光耦器件U2、电阻2；当书写时，被书写部分正负电极3SW1导通，光耦器件U1导通，驱动光耦器件U2内部的发光二极管；光耦器件U2管脚导通，从而实现光耦器件U2的自驱动；即使开关SW2断开，电阻2一直处于通电状态而发热；当开关SW1短接，打破光耦器件U2的平衡，电阻2断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

如图3所示，每一个显示单元可以包括：开关SW1、开关SW2、比较器U1、电阻2；当书写时，书写工具使得开关SW1短接，比较器U1的正反相端有电压差，比较器输出高电平，驱动电阻2持续发热；即使开关SW1断开，电阻2一直处于通电状态而发热；当开关SW2短接，比较器U1的正反相端的压差为0伏，比较器输出低电平，电阻2断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

如图4所示，每一个显示单元可以包括：PMOSQP1、三极管QP2、开关SW1、电阻2；当书写时，书写根据使得开关SW1短接，使得三极管QP2导通，三极管QP2集电极3电压拉底，PMOSQP1导通，提供三极管QP2基极的电压，让三极管QP2和PMOSQP1一直处于导通状态，从而驱动电阻2持续发热；当开关SW1再次短接时，三极管QP2基极向集电极3放电，三极管QP2变成截止状态，PMOSQP1不通电，电阻2断电，消除所述热辐射差异，实现擦除；所述PMOSQP1为P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。

如图5所示，也可以安排正负电极3各自按线列排列，正电极3线列和负电极3线列形成一个角度，正负电极3各自所处的平面直接形成一个距离。当书写工具按压时，被按压处的正负电极3导通，电流流过一定电阻2时产生热量，被按压的部分温度发生变化，区别于未被按下的位置的温度，产生热辐射差异。

本发明所述书写工具可以是专用工具或手。

当然，显示单元也可只包含正负电极和电阻，在正负电极导通时电阻被加热，在断开时温度逐渐恢复，当温差自然消失时内容消除。所述电阻可以是电极自身所带的电阻。

实施例四、

如图6所示，本发明还提供了另一种思路的显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有设定温度的基板；所述基板表面设置有与基板温度不同的书写层5。所述书写层5与基板之间具有设定的距离，所述的书写层5可以为为柔性材料制成；书写时，所述书写层5的一部分与基板接触，被书写部分书写层5温度接近基板温度；所述被书写部分书写层5与所述书写层5其他部分存在热辐射差异。在被书写的书写层5部分与基板接触设定的时间后，当需要消除书写内容时，恢复所述书写层5与基板之间的距离，消除所述热辐射差异，擦除原文字，进行下一屏书写。可以使用滑动拉条6来恢复所述书写层5与基板之间的距离。

当书写工具按压时，书写层5被按下，与具有一定温度的基板相接触，被按压的部分温度发生变化，区别于未被按下的位置的温度，产生热辐射差异。

相似的，所述书写层5与背景辐射源7之间具有设定的距离，例如紧贴在一起；书写时，所述书写层5被书写部分与背景辐射源7之间的距离增大，被书写部分书写层5温度与背景辐射源7温度产生差异；所述被书写部分书写层5与所述书写层5未被书写部分存在热辐射差异。

实施例五、

如图7所示，本发明还提供了另一种思路的显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有设定温度的基板；所述基板表面设置有与基板温度不同的书写层5。所述书写层5为可部分被擦除的结构；所述书写层5可以放在一个热辐射可透过的支撑层8上。所述书写层5可以为粉状或油脂状隔热材料。书写时，所述书写层5的被书写部分被擦除，被擦除部分书写层5下方的基板的热辐射被暴露，或透过热辐射可透过的支撑层8暴露；热辐射暴露部分的基板与未被擦除部分的书写层5之间存在热辐射差异。在擦除所述部分书写层5后，在需要擦除书写内容时，重新涂覆所述书写层5，所述书写层5重新遮挡所述基板的热辐射，消除所述热辐射差异，擦除原文字，进行下一屏书写。

当书写工具按压时，粉状或油脂状书写层5被擦除，具有一定温度的基板的热辐射暴露出来，或透过热辐射可透过的支撑层8暴露，区别于未被擦除的位置的温度，产生热辐射差异。

此时，所述基板的作用是提供热辐射的背景，作为背景辐射源，可以是人手或其他人体部位，也可以是车辆或其他发热体，或周围环境，或地面，也可以是天空，位置可以是近处也可以是远处。

例如，背景辐射源可以为人手或其他人体部位，也可以是车辆或其他发热体，或周围环境，或地面，也可以是天空，位置可以是近处也可以是远处，温度可以高于也可以低于书写材料，在热辐射可透过的支撑层8上涂覆有书写层，擦除部分书写层，使得未被擦除部分和背景辐射源之间产生热辐射差异，就可以被热成像装置捕捉到书写的内容。

实施例六、

如图8所示，本发明还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有设定温度的基板；所述基板表面设置有与基板温度不同的书写层5，所述书写层5为可涂覆的结构；所述书写层5可以为粉状或液体材料。书写时，所述书写层5被部分涂覆于基板上，或热辐射可透过的支撑层8上。基板的热辐射在被涂覆部分与未被涂覆部分被遮挡或暴露，产生热辐射差异。在书写时产生热辐射差异的，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。

在基板的热辐射一部分被书写层5遮挡后，可擦除所述书写层5，消除所述热辐射差异，擦除原文字，进行下一屏书写。

实施例四、五、六所述的基板可以是连接电源的电热板，当然也可以是制冷板。所述背景辐射源7可以被加热或冷却。恢复所述书写层5的初始状态，即可消除所述热辐射差异。

此时，所述基板的作用是提供热辐射的背景，可以是人手或其他人体部位，也可以是车辆或其他发热体，或周围环境，或地面，也可以是天空，位置可以是近处也可以是远处。

例如，背景辐射源可以为人手或其他人体部位，也可以是车辆或其他发热体，或周围环境，或地面，也可以是天空，位置可以是近处也可以是远处，在热辐射可透过的支撑层8上部分涂覆书写层，使得被书写部分和背景辐射源之间产生热辐射差异，就可以被热成像装置捕捉到书写的内容。

实施例七、

本发明还提供了一种书写装置1，应用于前述的显示方法；所述书写装置1具有设定温度；所述书写装置1的温度与被书写表面温度不同；书写时，所述书写装置1与被书写表面进行热传导，改变被书写部分的温度，被书写部分与未被书写部分存在所述热辐射差异。所述的书写装置1可以是电热笔，也可以是电制冷笔，在一平面上进行书写，使得被书写部分的温度区别于未被书写部分，在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。

实施例八、

本发明还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有设定温度的基板；所述基板的温度和环境温度不同，可以被加热或冷却；书写层直接位于基板上；书写层材料的热辐射发射率和基板不同，因此，即使两者温度相同，热辐射强度也不同；优选的，两者发射率之差大于0.2；优选的，所述基板材料和书写层材料其中之一是金属。书写时将书写材料涂覆于暴露的基板上，或将事先涂覆的书写层材料部分擦除，都使得被书写的部分热辐射强度与未被书写的部分热辐射强度不同。

将书写层材料擦除从而使基板重新暴露，或用书写层材料将基板全部覆盖，都可达到擦除所写内容的目的。

实施例九、

本发明还提供了一种热成像装置，应用于前所述的显示方法；所述热成像装置读取该热辐射差异形成的热图像。

该热成像装置可以是头戴式热成像仪，也可以是手持式热成像仪，或者与移动终端相连接的热成像模块，只要能够根据表面热辐射差异，获得书写的热图像即可。

本发明所述热成像检测物体热辐射的红外线特定波段信号，将该信号转换成可供人类视觉分辨的图像和图形，并可以进一步计算出温度值。红外热成像技术使人类超越了视觉障碍，由此人们可以看到物体表面的温度分布状况。物体表面温度如果超过绝对零度即会辐射出电磁波，随着温度变化，电磁波的辐射强度与波长分布特性也随之改变，波长介于0.75μm到1000μm间的电磁波称为“红外线”，而人类视觉可见的“可见光”介于0.4μm到0.75μm。其中波长为0.78～2.0微米的部分称为近红外，波长为2.0～1000微米的部分称为热红外线。红外热成像检测是以测量物体表面的红外线辐射能量为主。本发明说指的“光”特指波长小于2微米以下可被人眼或一般光电探测器探测到的电磁波，热辐射特指波长7至15微米可被热成像仪探测到的电磁波。

本发明所述发射率(emissivity/emittance)指物体的辐射能力与相同温度下黑体的辐射能力之比称为该物体的发射率，也称为辐射率，比辐射率。实际物体的发射率与物体的材料构成和表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度以及表面氧化层、表面杂质或涂层的存在)有关。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置，可通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个***，或一些特征可以忽略，或不执行。在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。

本发明并不限于上文讨论的实施方式。以上对具体实施方式的描述旨在于为了描述和说明本发明涉及的技术方案。基于本发明启示的显而易见的变换或替代也应当被认为落入本发明的保护范围。以上的具体实施方式用来揭示本发明的最佳实施方法，以使得本领域的普通技术人员能够应用本发明的多种实施方式以及多种替代方式来达到本发明的目的。

Claims (27)

1.一种显示方法，其特征在于，所述方法包括：

在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；

通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。

2.根据权利要求1所的显示方法，其特征在于，

所述表面被书写部分热辐射高于未被书写部分；

或者，所述表面被书写部分热辐射低于未被书写部分。

3.根据权利要求2所述的显示方法，其特征在于，在所述表面被书写部分与未被书写部分形成的热辐射差异存在设定的时间后，消除该热辐射差异；

或者热辐射差异自行消失。

4.一种显示装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；

所述显示装置包括至少一个显示表面；

进行所述书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，

在进行所述书写时，有液体留存在所述显示表面被书写的区域，当液体挥发时，所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示表面包括多孔材料和/或液体吸附材料，使得所述液体留存在所述显示表面设定的时间。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示表面被加热装置加热，所述液体被加热挥发完，所述显示表面恢复至同一温度，消除热辐射差异。

8.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，每个显示单元包括正负电极和电阻，

进行所述书写时，被书写部分正负电极导通，使得对应电阻升温，所述被书写部分电阻与未被书写部分存在热辐射差异。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，使电阻断电，消除所述热辐射差异。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述电阻位于绝热材料中。

11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述正负电极导通后，所述电阻一直保持在导通状态。

12.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、光耦器件U1、光耦器件U2、电阻；

当书写时，被书写部分正负电极SW1导通，光耦器件U1导通，驱动光耦器件U2内部的发光二极管；光耦器件U2管脚导通，从而实现光耦器件U2的自驱动；

即使开关SW2断开，电阻一直处于通电状态而发热；

当开关SW1短接，打破光耦器件U2的平衡，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

13.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、比较器U1、电阻；

当书写时，书写工具使得开关SW1短接，比较器U1的正反相端有电压差，比较器输出高电平，驱动电阻持续发热；

即使开关SW1断开，电阻一直处于通电状态而发热；

当开关SW2短接，比较器U1的正反相端的压差为0伏，比较器输出低电平，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。

14.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：PMOSQP1、三极管QP2、开关SW1、电阻；

当书写时，书写根据使得开关SW1短接，使得三极管QP2导通，三极管QP2集电极电压拉底，PMOSQP1导通，提供三极管QP2基极的电压，让三极管QP2和PMOSQP1一直处于导通状态，从而驱动电阻持续发热；

当开关SW1再次短接时，三极管QP2基极向集电极放电，三极管QP2变成截止状态，PMOSQP1不通电，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除；

所述PMOSQP1为P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。

15.一种显示装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；所述显示装置包括背景辐射源；

所述背景辐射源上方设置有用于遮挡背景辐射源热辐射的书写层。

16.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述书写层与背景辐射源之间具有设定的距离；

书写时，所述书写层被书写部分与背景辐射源之间的距离发生改变，被书写部分书写层温度与背景辐射源温度之间的差值发生改变；

所述被书写部分书写层与所述书写层未被书写部分存在热辐射差异。

17.根据权利要求16所述的显示装置，其特征在于，恢复所述书写层与背景辐射源之间的距离，消除所述热辐射差异。

18.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述书写层为可部分被擦除或涂覆的结构；

所述背景辐射源与书写层之间设置有热辐射可透过的支撑层，用于支撑书写层；

书写时，所述书写层的被书写部分被擦除或涂覆，被擦除或涂覆部分的背景辐射源的热辐射被暴露或遮挡；

热辐射暴露部分的背景辐射源与被遮挡部分的书写层之间存在热辐射差异。

19.根据权利要求18所述的显示装置，其特征在于，在擦除或涂覆所述部分书写层后，经过设定的时间，重新涂覆或擦除所述书写层，所述书写层重新遮挡或暴露所述背景辐射源的热辐射，消除所述热辐射差异。

20.一种显示装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；所述显示装置包括具有一定温度的背景辐射源；

所述背景辐射源表面被书写部分涂覆有书写层，所述书写层与所述背景辐射源的热辐射发射率不同。

21.根据权利要求20所述的显示装置，其特征在于，所述背景辐射源和书写层的热辐射发射率差异大于0.2。

22.根据权利要求21所述的显示装置，所述背景辐射源被加热或冷却。

23.根据权利要求22所述的显示装置，其特征在于，擦除或重新涂覆所述书写层，消除所述热辐射差异。

24.根据权利要求23所述的显示装置，其特征在于，所述背景辐射源和书写层其中之一由金属制成。

25.一种书写装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；所述书写装置具有设定温度；

所述书写装置的温度与被书写表面温度不同；

书写时，所述书写装置与被书写表面进行热传导，改变被书写部分的温度，被书写部分与未被书写部分存在所述热辐射差异；

或者所述热辐射差异存在一定时间后自行消失。

26.一种热成像装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；

所述热成像装置读取该热辐射差异形成的热图像。

27.根据权利要求26所述的热成像装置，其特征在于，所述热成像装置通过显示装置贴住人眼显示图像。

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