CN111084044B - 大樱桃两品种双层结果种植方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种大樱桃两品种双层结果种植方法，包括以下步骤：选择吉塞拉6号做砧木，选择已具有双层枝条的结果美早品种作为中间砧，选取明珠树体上带花芽的健壮枝条，采用劈接嫁接技术，在中间砧的下层枝条上进行嫁接；使用50%荣芽100倍液树体喷雾；满花期，同一株树上明珠、美早两个品种异花授粉，嫁接当年接穗即可挂果，明珠成熟采收后，美早成熟。本发明的大樱桃两品种双层结果种植方法通过利用吉塞拉6号砧木的早产性和固地性，再利用旺势中熟的美早品种在底层做中间砧，与易结果早熟品种明珠相结合，一棵树分两次成熟期，缓解对树体养分争夺，维持树势健壮，能实现连年丰产，提高结果率，经济效益较高，适合温室设施栽培。
Description
技术领域
本发明涉及大樱桃种植技术领域，具体来说，涉及一种大樱桃两品种双层结果种植方法。
背景技术
大樱桃是一种蔷薇科、李属植物，大樱桃主要以嫁接繁育为主，砧木选择与其生长发育习性、早果性、丰产性、果实大小、果实品质、抗逆性和树体寿命等有直接影响。
现有的大樱桃种植中单一品种成熟期一致，对树体养分争夺严重，容易损伤树势，造成大小年现象；生产中人工调控树势费工费力且技术要求较高，套种授粉品种及人工授粉增加生产成本。
发明内容
针对相关技术中的上述技术问题，本发明提出一种大樱桃两品种双层结果种植方法，能够克服现有技术的上述不足。
为实现上述技术目的，本发明的技术方案是这样实现的：
一种大樱桃两品种双层结果种植方法，包括以下步骤：
（1）起垄种植：垄宽2.2米，垄高40厘米，沟宽80厘米，株距为3米，行距为2.5米；
（2）品种选择：选择吉塞拉6号做底砧，选择已具有双层结果枝条的美早品种作为中间砧；
（3）水肥管理：水肥一体化管理，采用薄肥勤施原则，前期使用平衡肥，硬核后转色前使用高钾肥，硬核期后叶面喷施高钙肥；
（4）枝条管理：接穗枝条延长枝缓放，其余枝条摘心；
（5）嫁接：选取明珠树体上带花芽的健壮枝条，采用劈接嫁接技术，在中间砧的下层枝条上进行嫁接；
（6）点芽：在日光温室内，使用50%荣芽100倍液树体喷雾，点芽后至萌芽前白天温度控制在23℃，湿度控制在80%；
（7）花期管理：满花期，同一株树上明珠、美早两个品种异花授粉，花期温度白天控制在18-20℃，湿度控制在60%；
（8）硬核期管理：硬核期白天温度控制在20-23℃，晚间温度控制在8-10℃，湿度控制在50%；
（9）成熟期管理：嫁接当年接穗即可挂果，明珠成熟采收后，美早成熟，成熟期白天温度控制在23-25℃；
（10）树形修剪：营养枝缓放1-2年成花后适当回缩，将结果枝采用抹芽、刻芽、短截及长放技术维持树形。
优选地，步骤（1）中按土、生物菌肥、稻壳质量比为5:1:1的比例进行土壤改良。
优选地，步骤（3）中所述平衡肥7天使用一次，共3-4次。
优选地，所述平衡肥每次用量为2.5kg/亩。
优选地，步骤（3）中所述高钾肥7天使用一次。
优选地，所述高钾肥每次用量为2.5kg/亩。
本发明的有益效果：通过利用吉塞拉6号砧木的早产性和固地性，再利用旺势中熟的美早品种在底层做中间砧，与易结果早熟品种明珠相结合，一棵树分两次成熟期，缓解对树体养分争夺，维持树势健壮，能实现连年丰产，树体不易衰弱，实现自封顶无需人工控旺，一棵树上实现异花授粉，提高结果率，经济效益较高，适合温室设施栽培。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
在宿迁地区大跨度无柱式单栋大棚设施内种植大樱桃，大体流程为11月底进行萌芽前修剪，在萌芽前嫁接明珠带花芽枝条，12月进行设施内促芽，1月进行异花授粉，3月底-4月初结果，具体步骤如下：
（1）起垄种植：按土:生物菌肥:稻壳=5:1:1比例（质量比）进行土壤改良，垄宽2.2米、高40厘米，沟宽80厘米，株行距3米*2.5米；
（2）品种选择：设施内吉塞拉6号做底砧，已具有双层枝条的结果美早品种作为中间砧；
（3）水肥管理：水肥一体化管理，采用薄肥勤施原则，前期使用平衡肥2.5kg/亩（氨基酸与黄腐酸可使用5kg/亩），7天左右使用一次，共3-4次，硬核后转色前使用高钾膨果肥2.5kg/亩，7天左右使用一次，硬核期后叶面喷施水溶性高钙肥料；
（4）枝条管理：接穗枝条延长枝缓放，其余枝条摘心；
（5）嫁接：选取明珠树体上带花芽的健壮枝条，采用劈接嫁接技术，在中间砧的第二层（即下层）枝条上进行嫁接，具体步骤如下：
接穗处理：选取明珠品种两到三年生芽点饱满带花芽未萌发的枝条做接穗，把接穗基部削成两个长度相等的削面，削面深达木质部，长2～3cm，根据需要留50-80cm长的枝条；
砧木处理：选择美早品种第二层（下层）结果枝作为砧木，在嫁接部位剪断或锯断，剪或锯砧木时，截口的位置选择很重要，要使留下的砧木从顶至下有一定长度内无节疤、表面光滑、纹理直通，否则劈缝不直，剪或锯了砧木后，用劈刀从砧木中心纵劈一刀，深3～5cm（略长于接穗切面），依种类、砧木大小等而异，劈口时不要用刀过猛，可把劈刀放在劈口部位，轻轻敲打刀背；
接合：用刀把砧木劈口撬开，将接穗轻轻地***砧木，使接穗厚侧面向外，薄侧面向里，插时要特别注意使砧木形成层和接穗的形成层对准，在砧木粗于接穗的情况下，砧木的皮层比接穗的厚，所以接穗的外表面要比砧木的外表面稍微往里移，这样两者的形成层才能吻合，也可以木质部为标准，使两者的木质部表面对齐，这样形成层也就对上了，如果砧木直径大大超过接穗的，可在砧木两侧各接入一个接穗；
包扎：用嫁接薄膜包扎结实，注意操作时不要碰到接穗以防接穗移位；
（6）点芽：加温的日光温室内，使用50%荣芽（单氰胺）100倍液树体喷雾，促使芽提前整齐萌发，解决休眠时间不足，点芽后至萌芽前白天温度控制在23℃左右，湿度控制在80%左右；
（7）花期管理：满花期疏去弱花，同一株树上两个品种异花授粉，花期温度白天控制在18-20℃，湿度控制在60%左右；
（8）硬核期管理：硬核期白天温度控制在20-23℃，晚间温度8-10℃，空气湿度50%左右；
（9）成熟：嫁接当年接穗即可挂果，第二年可实现丰产，明珠成熟采收后美早成熟，成熟期白天温度控制在23-25℃，总亩产（年产量）为1000kg，其中明珠产量为300kg/亩，美早产量为700kg/亩；
（10）树形修剪：营养枝缓放1-2年成花后适当回缩，将结果枝采用抹芽、刻芽、短截及长放等技术维持树形。
实施例2
采用实施例1所述的方法在烟台地区冷棚内种植大樱桃，总亩产（年产量）为1500kg，其中明珠产量为500kg/亩，美早产量为1000kg/亩。
综上所述，借助于本发明的上述技术方案，通过利用吉塞拉6号砧木的早产性和固地性，再利用旺势中熟的美早品种在底层做中间砧，与易结果早熟品种明珠相结合，一棵树分两次成熟期，缓解对树体养分争夺，维持树势健壮，能实现连年丰产，树体不易衰弱，实现自封顶无需人工控旺，一棵树上实现异花授粉，提高结果率，经济效益较高，适合温室设施栽培。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）起垄种植：垄宽2.2米，垄高40厘米，沟宽80厘米，株距为3米，行距为2.5米；
（2）品种选择：选择吉塞拉6号做底砧，选择已具有双层结果枝条的美早品种作为中间砧；
（3）水肥管理：水肥一体化管理，采用薄肥勤施原则，前期使用平衡肥，硬核后转色前使用高钾肥，硬核期后叶面喷施高钙肥；
（4）枝条管理：接穗枝条延长枝缓放，其余枝条摘心；
（5）嫁接：选取明珠树体上带花芽的健壮枝条，采用劈接嫁接技术，在中间砧的下层枝条上进行嫁接；
（6）点芽：在日光温室内，使用50%荣芽100倍液树体喷雾，点芽后至萌芽前白天温度控制在23℃，湿度控制在80%；
（7）花期管理：满花期，同一株树上明珠、美早两个品种异花授粉，花期温度白天控制在18-20℃，湿度控制在60%；
（8）硬核期管理：硬核期白天温度控制在20-23℃，晚间温度控制在8-10℃，湿度控制在50%；
（9）成熟期管理：嫁接当年接穗即可挂果，明珠成熟采收后，美早成熟，成熟期白天温度控制在23-25℃；
（10）树形修剪：营养枝缓放1-2年成花后适当回缩，将结果枝采用抹芽、刻芽、短截及长放技术维持树形。
2.根据权利要求1所述的大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，步骤（1）中按土、生物菌肥、稻壳质量比为5:1:1的比例进行土壤改良。
3.根据权利要求1所述的大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，步骤（3）中所述平衡肥7天使用一次，共3-4次。
4.根据权利要求3所述的大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，所述平衡肥每次用量为2.5kg/亩。
5.根据权利要求1所述的大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，步骤（3）中所述高钾肥7天使用一次。
6.根据权利要求5所述的大樱桃两品种双层结果种植方法，其特征在于，所述高钾肥每次用量为2.5kg/亩。
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| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
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Granted publication date: 20210903 |