CN110954029A - 一种屏下三维测量*** - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种屏下三维测量***，包括：发射模组，用于发射第一斑点图案化光束；显示屏，用于接收所述第一斑点图案化光束后向目标物体发射第二斑点图案化光束；以及，用于接收并衍射或散射由所述第二斑点图案化光束被所述目标物体反射后所形成的第三斑点图案化光束，以形成第四斑点图案化光束；采集模组，包括多个像素单元，所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上以形成可分辨的光斑图像。有效去除衍射/散射光斑的影响，极大提高了采集图像的精度，从而获得更精确的图像。

Description

一种屏下三维测量***
技术领域
本发明涉及屏下三维测量技术领域，尤其涉及一种屏下三维测量***。
背景技术
拍照与显示是目前许多电子设备的必备功能，在电子设备的正面同时设置前置相机以及显示器以满足多种需求，比如自拍、内容显示、触控交互等。
随着人们对手机美感越来越高的要求，全面屏电子设备，比如全面屏手机逐渐成为手机创新的新方向，因为全面屏手机具有极高的屏占比，便于操控，同时具有极富美感的视觉冲击力。当前全面屏电子设备所面临的挑战是前置相机与显示屏之间的冲突，前置相机的存在使得显示屏难以真正意义上充满整个手机正面，以达到较高的屏占比。
将光学模组设置于显示屏背面可以实现全面屏，显示屏位于前方用于显示画面，光学模组接收或发射的光线会经过显示屏，但由于显示屏由多个沿横向和纵向周期性排列的像素单元组成，多个像素单元构成了周期性的像元衍射结构，因此显示屏会对入射的光束产生衍射/散射效应，导致设置在显示屏背面的光学模组的投影或者成像质量下降，使得三维测量***测量产生误差。
发明内容
本发明为了解决现有技术中因显示屏的衍射/散射效应导致设置在显示屏背面的光学模组的投影或者成像质量下降，使得三维测量***测量产生误差的问题，提供一种屏下三维测量***。
为了解决上述问题，本发明采用的技术方案如下所述：
一种屏下三维测量***，包括：发射模组，用于发射第一斑点图案化光束；显示屏，用于接收所述第一斑点图案化光束后向目标物体发射第二斑点图案化光束；以及，用于接收并衍射或散射由所述第二斑点图案化光束被所述目标物体反射后所形成的第三斑点图案化光束，以形成第四斑点图案化光束；采集模组，包括多个像素单元，所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上以形成可分辨的光斑图像。
在本发明的一种实施例中，所述可分辨的光斑图像包括多个圆形光斑，相邻两个所述圆形光斑的间距不小于所述圆形光斑的直径。相邻两个所述圆形光斑的间距是所述圆形光斑的直径的0.9～1.2倍。
在本发明的又一种实施例中，所述可分辨的光斑图像由多个椭圆光斑组成，相邻两个所述椭圆光斑的短半轴间距不小于所述椭圆光斑的短轴，并且相邻两个所述椭圆光斑的长半轴间距不小于所述椭圆光斑的长轴。相邻两个所述椭圆光斑的短半轴间距是所述椭圆光斑的短轴的0.9～1.2倍；相邻两个所述椭圆光斑的长半轴间距是所述椭圆光斑的长轴的0.9～1.2倍。
在本发明的再一种实施例中，所述第一斑点图案化光束被配置成相邻两个光斑的间距变大使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。所述显示屏被配置形成所述第四斑点图案化光束的光斑直径变小使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。所述采集模组与所述显示屏的距离被配置形成所述第四斑点图案化光束的光斑直径变小使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。
在本发明的又一种实施例中，还包括：处理器，用于接收来自所述像素单元的信号以计算所述目标物体的深度信息。所述处理器基于结构光原理或基于ToF原理计算所述目标物体的深度信息。
本发明的有益效果为：提供一种屏下三维测量***，通过配置发射模组发射光斑的间距和/或设计显示屏的衍射性能和/或调节采集模组与显示屏的距离，使得相邻两个光斑的间距不小于光斑的直径，即第四斑点图案化光束入射到采集模组上以形成可分辨的光斑图像。如此可以有效去除衍射/散射光斑的影响，极大提高了采集图像的精度，从而获得更精确的图像。
附图说明
图1是本发明实施例中屏下三维测量***的结构示意图。
图2是本发明实施例中一种可分辨的光斑图像的示意图。
图3是本发明实施例中又一种可分辨的光斑图像的示意图。
其中，10-屏下三维测量***，20-目标物体，11-发射模组，12-采集模组，13-显示屏，101-第一斑点图案化光束，102-第二斑点图案化光束，103-第三斑点图案化光束。104-第四斑点图案化光束，201-圆形斑点，202-圆形光斑，203-圆形光斑的直径，204-相邻两个圆形光斑的间距，301-椭圆光斑，302-相邻两个椭圆光斑的短半轴间距，303-椭圆光斑的短轴，304-相邻两个椭圆光斑的长半轴间距，305-椭圆光斑的长轴，306-椭圆斑点。
具体实施方式
为了使本发明实施例所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。另外，连接既可以是用于固定作用也可以是用于电路连通作用。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多该特征。在本发明实施例的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
图1为本发明一实施例中屏下三维测量***10的结构示意图。屏下三维测量***10包括发射模组11、采集模组12、显示屏13、处理器(未示出)。发射模组11用于发射第一斑点图案化光束101；显示屏13用于接收第一斑点图案化光束101后向目标物体20发射第二斑点图案化光束102；以及，用于接收并衍射或散射由所述第二斑点图案化光束102被目标物体20反射后所形成的第三斑点图案化光束103，以形成第四斑点图案化光束104；采集模组12包括多个像素单元，该第四斑点图案化光束104入射到像素单元上以形成可分辨的光斑图像；处理器接收来自像素单元的信号以计算目标物体20的深度信息。
可以理解的是，可分辨的光斑图像可以是可分辨的衍射光斑图像，也可以是可分辨的散射光斑图像。
发射模组11包括光源和光学组件(光学组件可以包括衍射光学元件等)等，其中，光源101可以是发光二极管(LED)、边发射激光器(EEL)、垂直腔面发射激光器(VCSEL)等光源，也可以是多个光源组成的光源阵列，光源用于发出结构光光束，所发射的结构光光束可以是可见光、红外光、紫外光等。光源所发射的结构光可以在目标物体20上形成随机或者有规律分布的投影图案。
显示屏13包括等离子体显示屏、LCD、LED、OLED等透明显示屏，显示屏13中包括多个用于显示的周期性排列的像素单元，比如沿横向以及纵向周期性排列的像素单元。为了使显示屏13透明化以使得光束通过，可以通过对多个像素单元进行合理的设计来实现，比如在像素单元之间设置间隙或者像素单元内部的部分结构采用透明材质制成，由此可以让显示屏13达到一定的开口率。在一些实施例中，也可以将显示屏13的各个像素单元的全部结构均用透明材质制成，由此可以提升透明度。
采集模组12包括图像传感器，还可以包括透镜单元(未图示)，透镜单元接收由目标物体20反射回的至少部分光束并成像在图像传感器上。图像传感器可以是电荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)、互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Transistor，CMOS)、雪崩二极管(Avalanche Diode，AD)、单光子雪崩二极管(Single Photon Avalanche Diode，SPAD)等组成的图像传感器。
处理器可以基于结构光原理计算目标物体20的深度信息。采集模组12接收第四斑点图案化光束104形成电信号，处理器对该电信号进行处理，计算出反映第四斑点图案化光束104的强度信息以形成结构光图案，最后基于该结构光图案进行像匹配计算、三角法计算等计算以获取目标物体20的深度值。
处理器也可以基于ToF原理计算目标物体20的深度信息。采集模组12接收第四斑点图案化光束104形成电信号，处理器对该电信号进行处理以计算出相位差，并基于该相位差计算光束由发射模组11发射到采集模组12接收所用的飞行时间，进一步基于该飞行时间计算出目标物体20的深度值。
图2是本发明一实施例中可分辨的光斑图像的示意图。基于图1所示的屏下三维测量***10，在一个实施例中，发射模组11用于发射第一斑点图案化光束101；显示屏13用于接收第一斑点图案化光束101后向目标物体20发射第二斑点图案化光束102所形成的多个圆形斑点201所组成的投影图案如图2所示，图中用虚线空心圆圈表示；以及，用于接收并衍射或散射由第二斑点图案化光束102被目标物体20反射后所形成的第三斑点图案化光束103，以形成第四斑点图案化光束104；采集模组12包括多个像素单元，该第四斑点图案化光束104入射到像素单元上以形成可分辨的光斑图像。该可分辨的光斑图像如图2所示，由多个圆形光斑202组成，图中用实线空心圆圈表示，相邻两个圆形光斑的间距204不小于圆形光斑的直径203。可以理解的是，相邻两个圆形光斑202也可以部分重合，比如相邻两个圆形光斑的间距204可以是圆形光斑的直径203的0.9～1.2倍。
在一个实施例中，可以理解的是，发射模组11发射的第一图案化光束101可以被配置成相邻两个光斑之间的间距变大，如此，显示屏13接收第一斑点图案化光束101后向目标物体20发射第二斑点图案化光束102所形成的多个圆形斑点201组成的投影图案，该投影图案中相邻两个圆形斑点201的间距也会变大。可以理解的是，相邻两个圆形斑点201的间距变大，第四斑点图案化光束入射到像素单元上所形成相邻两个圆形光斑的间距204也会变大，如此，相邻两个圆形光斑的间距204不小于圆形光斑的直径203，即形成可分辨的光斑图像。
图3是本发明一实施例中可分辨的光斑图像的示意图。基于图1所示的屏下三维测量***10，在一个实施例中，发射模组11用于发射第一斑点图案化光束101；显示屏13用于接收第一斑点图案化光束101后向目标物体20发射第二斑点图案化光束102所形成的多个椭圆斑点306所组成的投影图案如图3所示，图中用虚线空心椭圆表示；以及，用于接收并衍射或散射由第二斑点图案化光束102被目标物体20反射后所形成的第三斑点图案化光束103，以形成第四斑点图案化光束104；采集模组12包括多个像素单元，该第四斑点图案化光束104入射到像素单元上以形成可分辨的光斑图像。该可分辨的光斑图像如图3所示，由多个椭圆光斑301组成，图中用实线空心椭圆表示，相邻两个椭圆光斑的短半轴间距302不小于椭圆光斑的短轴303，并且相邻两个椭圆光斑的长半轴间距304不小于椭圆光斑的长轴305。如此，可以形成可分辨的光斑图像。可以理解的是，相邻两个椭圆光斑也可以部分重合，比如，相邻两个椭圆光斑的短半轴间距302是椭圆光斑的短轴303的0.9～1.2倍；相邻两个椭圆光斑的长半轴间距304是椭圆光斑的长轴305的0.9～1.2倍。
在一个实施例中，可以理解的是，发射模组11发射的第一图案化光束101可以被配置成相邻两个椭圆光斑之间的间距变大，如此，显示屏13接收第一斑点图案化光束101后向目标物体20发射第二斑点图案化光束102所形成的多个椭圆斑点306组成的投影图案，相邻两个椭圆斑点306的间距也会变大。可以理解的是，相邻两个椭圆斑点306的间距变大，第四斑点图案化光束入射到像素单元上所形成相邻两个椭圆光斑301的短半轴302也会变大，使得相邻两个椭圆光斑301的短半轴间距302不小于椭圆光斑301的短轴303，所形成相邻两个椭圆光斑301的长半轴304也会变大，使得相邻两个椭圆光斑301的长半轴间距304不小于椭圆光斑301的长轴305，即形成可分辨的光斑图像。
可以理解的是，光斑202的直径取决于显示屏13的衍射性能与显示屏13和采集模组12之间的距离。
在一个实施例中，显示屏13被配置成当第三斑点图案化光束103入射至显示屏13，该显示屏13对光束的衍射或散射影响变小，以使得显示屏13接收并衍射或散射第三斑点图案化光束103所形成的第四斑点图案化光束104的光斑直径变小，可以理解的是，第四斑点图案化光束入射到像素单元上所形成的光斑直径变小，即相邻两个光斑的间距不小于光斑的直径，如此可形成可分辨的光斑图像。
在一个实施例中，采集模组12与显示屏13的距离被配置形成第四斑点图案化光束的光斑直径变小，可以理解的是，第四斑点图案化光束104入射到像素单元上所形成的光斑直径变小，即相邻两个光斑的间距不小于光斑的直径，如此可形成可分辨的光斑图像。
可以理解的是，采用上述实施例中任意两项及以上可以获得更好的可分辨的光斑图像，即通过配置发射模组11发射光斑的间距和/或设计显示屏13的衍射性能和/或调节采集模组12与显示屏13的距离。使得相邻两个光斑的间距不小于光斑的直径，即第四斑点图案化光束104入射到采集模组12上以形成可分辨的光斑图像。如此可以有效去除衍射/散射光斑的影响，极大提高了采集图像的精度，从而获得更精确的图像。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。可以理解的是，当将本发明的屏下三维测量***嵌入装置或硬件中时会作出相应的结构或部件变化以适应需求，其本质仍然采用本发明的距离测距***，所以应当视为本发明的保护范围。以上内容是结合具体/优选的实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，其还可以对这些已描述的实施方式做出若干替代或变型，而这些替代或变型方式都应当视为属于本发明的保护范围。在本说明书的描述中，参考术语“一种实施例”、“一些实施例”、“优选实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。尽管已经详细描述了本发明的实施例及其优点，但应当理解，在不脱离由所附权利要求限定的范围的情况下，可以在本文中进行各种改变、替换和变更。此外，本发明的范围不旨在限于说明书中所述的过程、机器、制造、物质组成、手段、方法和步骤的特定实施例。本领域普通技术人员将容易理解，可以利用执行与本文所述相应实施例基本相同功能或获得与本文所述实施例基本相同结果的目前存在的或稍后要开发的上述披露、过程、机器、制造、物质组成、手段、方法或步骤。因此，所附权利要求旨在将这些过程、机器、制造、物质组成、手段、方法或步骤包含在其范围内。

Claims (10)

1.一种屏下三维测量***，其特征在于，包括：
发射模组，用于发射第一斑点图案化光束；
显示屏，用于接收所述第一斑点图案化光束后向目标物体发射第二斑点图案化光束；以及，用于接收并衍射或散射由所述第二斑点图案化光束被所述目标物体反射后所形成的第三斑点图案化光束，以形成第四斑点图案化光束；
采集模组，包括多个像素单元，所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上以形成可分辨的光斑图像。
2.如权利要求1所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述可分辨的光斑图像包括多个圆形光斑，相邻两个所述圆形光斑的间距不小于所述圆形光斑的直径。
3.如权利要求2所述的屏下三维测量***，其特征在于，相邻两个所述圆形光斑的间距是所述圆形光斑的直径的0.9～1.2倍。
4.如权利要求1所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述可分辨的光斑图像由多个椭圆光斑组成，相邻两个所述椭圆光斑的短半轴间距不小于所述椭圆光斑的短轴，并且相邻两个所述椭圆光斑的长半轴间距不小于所述椭圆光斑的长轴。
5.如权利要求4所述的屏下三维测量***，其特征在于，相邻两个所述椭圆光斑的短半轴间距是所述椭圆光斑的短轴的0.9～1.2倍；相邻两个所述椭圆光斑的长半轴间距是所述椭圆光斑的长轴的0.9～1.2倍。
6.如权利要求1所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述第一斑点图案化光束被配置成相邻两个光斑的间距变大使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。
7.如权利要求1所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述显示屏被配置形成所述第四斑点图案化光束的光斑直径变小使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。
8.如权利要求1所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述采集模组与所述显示屏的距离被配置形成所述第四斑点图案化光束的光斑直径变小使得所述第四斑点图案化光束入射到所述像素单元上形成所述可分辨的光斑图像。
9.如权利要求1-8任一所述的屏下三维测量***，其特征在于，还包括：处理器，用于接收来自所述像素单元的信号以计算所述目标物体的深度信息。
10.如权利要求9所述的屏下三维测量***，其特征在于，所述处理器基于结构光原理或基于ToF原理计算所述目标物体的深度信息。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111540293A (zh) * 2020-05-08 2020-08-14 云谷（固安）科技有限公司 显示面板测试装置及测试方法
CN111678457A (zh) * 2020-05-08 2020-09-18 西安交通大学 一种OLED透明屏下ToF装置及测距方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1116703A (zh) * 1994-08-08 1996-02-14 陈明彻 非接触式三维轮廓实时测量方法和***
US20090268214A1 (en) * 2006-05-26 2009-10-29 Miljenko Lucic Photogrammetric system and techniques for 3d acquisition
JP2012037292A (ja) * 2010-08-04 2012-02-23 Shimadzu Corp エッチングモニタリング装置
CN107682689A (zh) * 2017-09-29 2018-02-09 舜宇光学（浙江）研究院有限公司 基于结构光的三维扫描***
CN107748475A (zh) * 2017-11-06 2018-03-02 深圳奥比中光科技有限公司 结构光投影模组、深度相机及制造结构光投影模组的方法
CN107832752A (zh) * 2017-12-15 2018-03-23 京东方科技集团股份有限公司 指纹识别面板、全屏指纹识别方法及显示装置
CN107908064A (zh) * 2017-11-06 2018-04-13 深圳奥比中光科技有限公司 结构光投影模组、深度相机及制造结构光投影模组的方法
CN109143607A (zh) * 2018-09-17 2019-01-04 深圳奥比中光科技有限公司 补偿显示屏、屏下光学***及电子设备
CN109188711A (zh) * 2018-09-17 2019-01-11 深圳奥比中光科技有限公司 屏下光学***、衍射光学元件的设计方法及电子设备
CN109196525A (zh) * 2017-07-18 2019-01-11 深圳市汇顶科技股份有限公司 在用于屏上指纹感测的屏下光学传感器模块中拒绝假指纹图案的反欺骗感测
CN109981902A (zh) * 2019-03-26 2019-07-05 Oppo广东移动通信有限公司 终端及控制方法
CN110333501A (zh) * 2019-07-12 2019-10-15 深圳奥比中光科技有限公司 深度测量装置及距离测量方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1116703A (zh) * 1994-08-08 1996-02-14 陈明彻 非接触式三维轮廓实时测量方法和***
US20090268214A1 (en) * 2006-05-26 2009-10-29 Miljenko Lucic Photogrammetric system and techniques for 3d acquisition
JP2012037292A (ja) * 2010-08-04 2012-02-23 Shimadzu Corp エッチングモニタリング装置
CN109196525A (zh) * 2017-07-18 2019-01-11 深圳市汇顶科技股份有限公司 在用于屏上指纹感测的屏下光学传感器模块中拒绝假指纹图案的反欺骗感测
CN107682689A (zh) * 2017-09-29 2018-02-09 舜宇光学（浙江）研究院有限公司 基于结构光的三维扫描***
CN107748475A (zh) * 2017-11-06 2018-03-02 深圳奥比中光科技有限公司 结构光投影模组、深度相机及制造结构光投影模组的方法
CN107908064A (zh) * 2017-11-06 2018-04-13 深圳奥比中光科技有限公司 结构光投影模组、深度相机及制造结构光投影模组的方法
CN107832752A (zh) * 2017-12-15 2018-03-23 京东方科技集团股份有限公司 指纹识别面板、全屏指纹识别方法及显示装置
CN109143607A (zh) * 2018-09-17 2019-01-04 深圳奥比中光科技有限公司 补偿显示屏、屏下光学***及电子设备
CN109188711A (zh) * 2018-09-17 2019-01-11 深圳奥比中光科技有限公司 屏下光学***、衍射光学元件的设计方法及电子设备
CN109981902A (zh) * 2019-03-26 2019-07-05 Oppo广东移动通信有限公司 终端及控制方法
CN110333501A (zh) * 2019-07-12 2019-10-15 深圳奥比中光科技有限公司 深度测量装置及距离测量方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
刘永春等: "基于全息定向散射屏的光场三维成像***研究", 《激光与光电子学进展》 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111540293A (zh) * 2020-05-08 2020-08-14 云谷（固安）科技有限公司 显示面板测试装置及测试方法
CN111678457A (zh) * 2020-05-08 2020-09-18 西安交通大学 一种OLED透明屏下ToF装置及测距方法
CN111678457B (zh) * 2020-05-08 2021-10-01 西安交通大学 一种OLED透明屏下ToF装置及测距方法

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