CN110928030B - 显示基板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示基板及其制作方法,所述显示基板包括一承载基板、设置在所述承载基板上的滤光层以及设置于所述滤光层和所述承载基板之间的一结合层,所述结合层包括与所述子像素区域对应的复数个结合块;本发明所述显示基板的制作方法,通过在形成滤光层前先形成一图案化的结合层,利用所述结合层对色阻材料溶液的强作用力,能使色阻材料溶液无法超出子像素区域,只在子像素区域内固化成膜,最终能实现滤光层的一次成膜,简化制程,节约材料且降低工时。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制作方法。
背景技术
在液晶面板中,为使显示面板能显示各种颜色,会做一层滤光层。在显示基板中,滤光层一般采用涂布显影刻蚀的方式成膜。上述成膜方式需要分三或四道显影制程形成R、G、B(W)滤光层,且由于制程精度,为防止漏光,在R、G、B或W色阻块的边缘一般会让各色阻的色阻块相互堆叠形成牛角。
目前常规的滤光层的成膜方式主要缺点有:1.制程复杂,需要分多次进行涂布显影;2.材料浪费,多次成膜制程,会造成大量分色阻和显影液的浪费;3.牛角精度需要卡控,色阻块相互堆叠的牛角部分可能会造成配向不良或漏光等问题。
因此,亟需提供一种显示基板及其制作方法,以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于解决上述问题,提供一种显示基板以及其制作方法,所述显示基板的制作方法通过在形成滤光层之前制作一层对色阻材料溶液有强结合力的结合层,能实现滤光层的一次成膜,简化制程节约材料且降低工时。
为了实现上述目的,本发明所述显示基板及其制作方法采取了以下技术方案。
本发明提供一种显示基板,包括一承载基板和设置在所述承载基板上的一滤光层,所述承载基板包括子像素区域和设置在所述子像素区域***的间隔区域,所述滤光层包括与所述子像素区域对应的复数个色阻块,在所述滤光层和所述承载基板之间设置有一结合层,所述结合层包括与所述子像素区域对应的复数个结合块。
进一步,所述结合层与每一所述色阻块之间的结合力大于所述承载基板与每一所述色阻块之间的结合力。
进一步,所述结合层的材料为金。
进一步,所述显示基板为一彩膜基板或一COA基板。
进一步,所述色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块。
本发明还提供一种显示基板的制作方法,包括如下步骤:
步骤S1、提供一承载基板,所述承载基板包括复数个子像素区域和围绕在所述子像素区域***的间隔区域;
步骤S2、在所述承载基板上形成一结合层并对所述结合层图案化,以使得所述结合层包括与所述子像素区域对应的复数个结合块;以及,
步骤S3、在所述结合层上形成一滤光层,所述滤光层包括与所述子像素区域对应的复数个色阻块。
进一步,所述步骤S3至少包括以下步骤:
将用于形成色阻块的色阻材料溶液滴加于所述结合块上的滴加步骤;以及,
对滴加于所述结合块上的所述色阻材料溶液进行固化以形成所述色阻块的固化步骤。
进一步,在所述滴加步骤中,通过滴下式注入法或喷墨打印法将所述色阻材料溶液滴加到所述结合块上。
进一步,在所述步骤S2中,所述结合层的材料为金。
进一步,在所述步骤S1中,所述承载基板为一衬底基板或一阵列基板。
本发明的所述显示基板及其制作方法的有益效果在于:
本发明所述显示基板的制作方法,通过在滤光层成膜前先形成一层对色阻材料溶液有强作用力结合层,以使色阻材料溶液无法超出子像素区域,只能在子像素区域内固化成膜,进而能实现滤光层的一次成膜,达到简化制程,节约材料,降低工时的目的;此外,本发明所述显示基板的制作方法相较于显影蚀刻成膜方法还具有色阻块形状与精度更容易控制的优势。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1是本发明所述显示基板的俯视图。
图2是本发明所述显示基板的截面图。
图3是本发明所述显示基板的制备方法的流程示意图。
图4是所述承载基板的俯视图。
图5是形成有所述结合层的所述承载基板的俯视图。
图6是形成有所述结合层的所述承载基板的截面图。
图7是所述色阻材料溶液滴加过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
图1是本发明所述显示基板的俯视图。图2是本发明所述显示基板的截面图。如图1和图2所示,本发明提供一种显示基板100,所述显示基板100包括一承载基板10、设置在所述承载基板10上的一滤光层30以及设置在所述承载基板10和所述滤光层30中间的一结合层20。
请续见图1和图2,所述承载基板10包括复数个子像素区域11和围绕在所述子像素区域11***的间隔区域12。所述结合层20设置在所述承载基板10上,并且所述结合层20包括与所述子像素区域11对应的复数个结合块21。所述滤光层30设置于所述结合层20上,所述滤光层30包括与所述子像素区域11对应的复数个色阻块31。也就是说,每一所述滤光块31与一结合块21相对应并设置在所述结合块21的背离所述承载基板10的一侧。
其中,所述结合层20与每一所述色阻块31的结合力大于所述承载基板10与每一所述色阻块31之间的结合力。或者称,每一结合块21对与其对应的色阻块31的结合力大于所述承载基板10对所述色阻块31的结合力。在具体实施时,所述结合层20的材料为对所述色阻块21具有强相互作用力的透明材料,例如但不限定于金(Au)。
具体地,如图1所示,所述子像素区域11包括红色子像素区域111、绿色子像素区域112以及蓝色子像素区域113。所述色阻块31包括分别与所述红色子像素区域111、绿色子像素区域112以及蓝色子像素区域113对应的红色色阻块311、绿色色阻块312以及蓝色色阻块313。
具体地,所述显示基板100为彩膜基板或COA(Color-filter on Array)基板,所述承载基板10相对应地分别为衬底基板或阵列基板。其中,所述COA基板即为COA型阵列基板。
作为所述显示基板100的一实施例,所述显示基板100能为一彩膜基板。所述承载基板10相应地为一衬底基板。此时,所述彩膜基板包括作为承载基板10的衬底基板、设置在所述衬底基板上的一滤光层30以及设置在所述衬底基板和所述滤光层30中间的结合层20。所述衬底基板同样包括复数个子像素区域11,所述子像素区域11包括红色子像素区域111、绿色子像素区域112以及蓝色子像素区域113。
将以上所述彩膜基板应用至一液晶显示装置中,背光源的光照射至红色色阻块311将透射红光,照射至绿色色阻块312将透射绿光,照射至蓝色色阻块313将透射蓝光。
此外,该彩膜基板还包括复数个黑色矩阵,所述黑色矩阵对应设置于所述间隔区域12内,以达到防止漏光且增大对比度的效果。在具体实施时,所述黑色矩阵材料可以为含有碳黑的黑色光阻等不透明材料。
作为所述显示基板100的另一实施例,该显示基板100为一COA基板(Color OnArray),也即将所述滤光层30以及所述结合层20设置在一阵列基板上的显示基板100。所述阵列基板同样包括复数个子像素区域11,所述子像素区域11包括红色子像素区域111、绿色子像素区域112以及蓝色子像素区域113。
与第一实施例相同的工作原理,将该COA基板应用至一液晶显示装置中,背光源的光照射至红色色阻块311将透射红光,照射至绿色色阻块312将透射绿光,照射至蓝色色阻块313将透射蓝光。
图3是本发明所述显示基板的制备方法的流程示意图。如图3所示,本发明还提供一种显示基板的制作方法,包括如下步骤:
步骤S1、提供一承载基板10,所述承载基板10包括复数个子像素区域11和围绕在所述子像素区域11***的间隔区域12;
步骤S2、在所述承载基板10上形成一结合层20并对所述结合层20图案化,以使得所述结合层20形成与所述子像素区域11对应的复数个结合块21;以及,
步骤S3、在所述结合层20上形成一滤光层30,所述滤光层30包括与所述子像素区域11对应的复数个色阻块31。
本发明所述显示基板的制备方法能用于制备本发明所述显示基板100。也就是说,如图1和图2所述的显示基板100能通过本发明所述显示基板的制备方法制备得到。
图4是所述承载基板的俯视图。如图4所示,所述承载基板10包括阵列排布的复数个子像素区域11和围绕在所述子像素区域11***的间隔区域12。图4中,所述子像素区域11和所述间隔区12的对应图案为示意图形的形状,所述子像素区域11和所述间隔区域12可以但不限定于图4中所对应的图案。所述子像素区域11和所述间隔区域12的形状可以各种各样,所述图案可以根据实际需求进行预先设定,本发明不做过多限定。
在所述步骤S1中,所述承载基板10可以为一衬底基板或一阵列基板。在具体实施时,所述衬底基板可以为包括但不限于玻璃、无机硅、金属或其他硬质材料的基板。所述阵列基板包括一基底和设置在所述基底上的一TFT层,所述TFT层包括阵列排布的复数个TFT,每一所述TFT用于起到开关或控制的作用。
图5是形成有所述结合层的所述承载基板的俯视图,图6是形成有所述结合层的所述承载基板的截面图。以下将结合图5和图6详细描述所述步骤S2的具体实施过程。
如图5和图6所示,通过所述步骤S2,能在所述承载基板10上形成所述结合层20。所述结合层20包括与所述承载基板10的所述子像素区域11对应的复数个结合块21。
具体地,为了保障后续所述滤光层30的成形效果以及所述显示基板100的透光性,所述结合层20的材料能满足透光性以及能对用于形成所述滤光层30的色阻材料溶液32产生强相互作用力的要求。在本实施例中,所述结合层20材料采用金(Au)。具体实施时,能通过控制用于形成所述结合层20的Au膜层的厚度保障所述结合层20的透光性。
在所述步骤S2中,能通过溅镀或沉积的成膜工艺形成用于形成所述结合层20的膜层;所述结合层20的图案化能通过构图工艺过程实现。上述溅镀或沉积的成膜工艺以及构图工艺,对于本领域技术人员是公知的,在此不再赘述。
图7是所述色阻材料溶液滴加过程示意图。如图7所示,在所述步骤S3中,所述滤光层30能通过以下步骤形成:
a、将用于形成色阻块31的色阻材料溶液32滴加到所述结合块21上的滴加步骤;以及,
b、对滴加到所述结合块21的所述色阻材料溶液32进行固化,以形成所述色阻块31的固化步骤。
在所述步骤a中,能通过滴下式注入法或喷墨打印法将所述用于形成色阻块31的色阻材料溶液32滴加到所述结合块21上。
具体地,所述色阻材料溶液32包括用于形成红色色阻块311的R色阻材料溶液321、用于形成绿色色阻块312的G色阻材料溶液322以及用于形成蓝色色阻块313的B色阻材料溶液323。在具体实施时,需要将R色阻材料溶液321、G色阻材料溶液322或B色阻材料溶液323分别滴加于分别与红色子像素区域111、绿色子像素区域112或蓝色子像素区域113对应的结合块21上。
在所述步骤b中,所述固化步骤能通过利用加热装置或减压干燥装置对所述色阻材料溶液32进行加热或减压干燥处理实现。具体地,需要利用所述加热装置或所述减压干燥装置使滴出的所述色阻材料溶液32蒸发出其溶剂成分而使其固化,形成所述色阻块31。
在所述色阻材料溶液32滴加于一所述结合块21后,所述色阻材料溶液32会在该结合块21上润湿并扩展;与此同时,所述结合块31会对所述色阻材料溶液32产生强作用力,上述强作用力能对所述色阻材料溶液32产生“束缚”作用,使得所述色阻材料溶液32在固化成膜过程中不会超出其所在的结合块21,只能在该结合块21的区域内固化成膜。
本发明所述显示基板的制作方法,通过在形成所述滤光层30前,先在所述承载基板10上形成一层图案化的结合层20,利用结合层20对色阻材料溶液32的强相互作用力,在扩散和溶剂挥发过程中,能将滴加于一结合块21内的色阻材料溶液32约束在该区域内,从而使得所述色阻材料溶液32只能在该区域内固化成膜。也就是说,本发明所述显示基板的制作方法能通过膜层间的强相互作用,通过控制所述结合层20的图案,能实现所述滤光层30的一次成膜。
与现有的涂布显影刻蚀成膜方式相比,本发明所述显示基板的制作方法能简化滤光层30的制程,实现滤光层30的一次成膜,还能节约材料且降低工时;此外,本发明所述的显示基板的制作方法还具有成形色阻块31的形状和位置精度更容易控制的优点。
本发明所述显示基板的制作方法,能用于COA型阵列基板的制作。所述COA型阵列基板的制作方法,能通过以下步骤实现:
步骤S1、提供一阵列基板,所述阵列基板包括复数个子像素区域11和围绕在所述子像素区域11***的间隔区域12;
步骤S2、在所述阵列基板上形成一结合层20并对所述结合层20图案化,以使得结合层20形成与所述子像素区域11对应的复数个结合块21;以及,
步骤S3、在所述结合层20上形成一滤光层30,所述滤光层30包括与所述子像素区域11对应的复数个色阻块31。
本发明所述COA型阵列基板的制作方法能简化COA型阵列基板中滤光层30的制程,还能节约材料且降低工时;此外,所述COA型阵列基板的制作方法还具有成形色阻块31的形状和位置精度更容易控制的优点。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的显示基板及所述显示基板的制作方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (7)
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、提供一承载基板,所述承载基板包括复数个子像素区域和围绕在所述子像素区域***的间隔区域;
步骤S2、在所述承载基板上形成一结合层并对所述结合层图案化,以使得所述结合层包括与所述子像素区域对应的复数个结合块;所述结合层的材料为金;以及,
步骤S3、在所述结合层上形成一滤光层,所述滤光层包括与所述子像素区域对应的复数个色阻块;
其中所述步骤S3至少包括以下步骤:
将用于形成色阻块的色阻材料溶液滴加于所述结合块上的滴加步骤;以及,
对滴加于所述结合块上的所述色阻材料溶液进行固化以形成所述色阻块的固化步骤;
其中,所述结合层与每一所述色阻块之间的结合力大于所述承载基板与每一所述色阻块之间的结合力。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,在所述滴加步骤中,通过滴下式注入法或喷墨打印法将所述色阻材料溶液滴加到所述结合块上。
3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述承载基板为一衬底基板或一阵列基板。
4.一种根据权利要求1-3任一项所述的显示基板的制作方法制作的显示基板,包括一承载基板和设置在所述承载基板上的一滤光层,所述承载基板包括子像素区域和设置在所述子像素区域***的间隔区域,所述滤光层包括与所述子像素区域对应的复数个色阻块,其特征在于,在所述滤光层和所述承载基板之间设置有一结合层,所述结合层包括与所述子像素区域对应的复数个结合块;所述结合层的材料为金。
5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述结合层与每一所述色阻块之间的结合力大于所述承载基板与每一所述色阻块之间的结合力。
6.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为一彩膜基板或一COA基板。
7.根据权利要求 4所述的显示基板,其特征在于,所述色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块。
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