CN110815983B - 电子设备的壳体及其制作方法、电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请提出了电子设备的壳体及其制作方法、电子设备。该壳体包括依次层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，第一镀膜层和第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且第一子膜层由二氧化钛形成，第二子膜层由二氧化硅形成。本申请所提出的电子设备的壳体，透光壳体上的第一镀膜层所反射的光，与膜片上的纹理层或第二镀膜层所反射的光形成干涉，呈现出更复杂的颜色效果，且不同角度逐渐变化从而使壳体的颜色更加绚丽多彩，且层次感更丰富、外观美感更出众。

Description

电子设备的壳体及其制作方法、电子设备
技术领域
本申请涉及电子设备的壳体制作技术领域，具体的，本申请涉及电子设备的壳体及其制作方法、电子设备。
背景技术
现阶段的手机透光盖板通常采用以下两种结构类型。第一种，依次进行白片透光加工、喷涂打底有机层、镀膜、喷涂油墨和镀上防指纹层等步骤，形成的盖板透光与单一采用移印或喷涂工艺形成的透光盖板相比在外观效果方面已有明显提升，但由于缺少纹理效果，使产品质感和美感方面受到一定影响。第二种，依次进行白片透光加工、镀上防指纹层、紫外光(UV)转印、镀膜、丝印油墨、激光切割、贴合和除泡的步骤，形成的盖板透光虽然在外观效果方面有明显提升，具有纹理效果，但是单一的纹理和单一的光学镀层还是使产品缺少层次感，且产品的质感和美感上仍然存在不足。
发明内容
本申请实施例的一个目的在于提出一种电子设备的壳体、制作该壳体结构的方法以及应用该壳体的电子设备，至少解决现有技术中存在的上述问题，实现复合颜色效果、随角度变化而出现颜色变化的绚丽变幻效果、且层次感和美感大幅提升的外观效果。
在本申请实施例的第一方面，提出了一种电子设备的壳体。
根据本申请的实施例，所述壳体包括依次层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成。
本申请实施例的电子设备的壳体，透光壳体上的第一镀膜层所反射的光，与膜片上的纹理层或第二镀膜层所反射的光形成干涉，呈现出更复杂的颜色效果，且不同角度逐渐变化从而使壳体的颜色更加绚丽多彩，且层次感更丰富、外观美感更出众。
在本申请的第二方面，提出了一种制作电子设备的壳体的方法。
根据本申请的实施例，所述方法包括：在透光壳体的一侧表面形成第一镀膜层；在膜片的一侧形成纹理层；在所述纹理层远离所述膜片的表面上形成第二镀膜层；将所述膜片的另一侧表面贴合到所述第一镀膜层远离所述透光壳体的表面上；其中，形成所述第一镀膜层和所述第二镀膜层的步骤包括依次形成交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成。
采用本申请实施例的制备方法，可以在透光壳体的表面形成第一镀膜层，在膜片的表面形成纹理层和第二镀膜层，然后将膜片贴合到透光壳体上，获得颜色效果更复杂、绚丽多彩且层次感更丰富的电子设备壳体，并且，该制作方法的工艺简单、制造成本更低。
在本申请的第三方面，提出了一种电子设备。
根据本申请的实施例，所述电子设备包括：壳体，所述壳体包括层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成；显示装置，所述显示装置与所述壳体相连。
本申请实施例的电子设备，其壳体的颜色更丰富绚丽、视觉上的层次感和美感更好，从而使电子设备的外观效果更出众，从而使电子设备的市场竞争力更好。本领域技术人员能够理解的是，前面针对电子设备的壳体所描述的特征和优点，仍适用于该电子设备，在此不再赘述。
本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本申请一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图2是本申请另一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图3是本申请另一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图4是本申请另一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图5是本申请另一个实施例的电子设备的壳体的第一镀膜层的俯视结构示意图；
图6是本申请一个实施例的制作电子设备的壳体的方法流程示意图；
图7是本申请的一个实施例的电子设备的外观示意图。
附图标记
100 透光壳体
200 第一镀膜层
300 膜片
400 纹理层
500 第二镀膜层
610 第一子膜层
620 第二子膜层
700 光学胶层
800 油墨层
910 打底有机层
920 防指纹层
10 壳体
20 显示装置
1 电子设备
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例，本技术领域人员会理解，下面实施例旨在用于解释本申请，而不应视为对本申请的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。
在本申请实施例的一个方面，提出了一种电子设备的壳体。
根据本申请的实施例，参考图1，壳体包括依次层叠设置的透光壳体100、第一镀膜层 200、膜片300、纹理层400和第二镀膜层500，其中，第一镀膜层200和第二镀膜层500 都是由多个第一子膜层610和多个第二子膜层620交替设置组成，且第一子膜层610由二氧化钛(TiO2)形成，第二子膜层620由二氧化硅(SiO2)形成。需要说明的是，“层叠设置”具体是指从沿着透光壳体100的外表面向内表面的方向上依次设置。
还需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少一个，例如一个、两个、三个等，除非另有明确具体的限定。
本申请的发明人在研究过程中发现，通常在玻璃盖板上设置一层光学镀膜层、一层纹理层、或者两层光学镀膜层的产品外观质感仍然存在不足。所以，发明人在透光壳体100 上和膜片300上分别设置一层镀膜层，且在膜片300上再设置一层纹理层，如此，透光壳体100上的第一镀膜层200所反射的光，与膜片300上的纹理层400或第二镀膜层500所反射的光形成干涉，呈现出更复杂的颜色效果，且不同角度逐渐变化从而使壳体的颜色更加绚丽多彩，从而壳体的外观效果更具层次感。
在本发明的一些实施例中，参考图2，第一镀膜层200与膜片300之间可以设置有光学胶层700，如此，可以分别先在透光壳体100上制作第一镀膜层200、在膜片300上制作纹理层400和第二镀膜层500，然后再将膜片300的下表面通过光刻胶贴合到第一镀膜层 200的上表面。
在本发明的一些实施例中，参考图2，第二镀膜层500远离纹理层400可以进一步设置有油墨层800，且油墨层800的颜色可以为白色、蓝色或银白色等，如此，具有不同颜色效果的油墨层800，可使壳体具有更丰富多彩的复合颜色效果。
在本发明的另一些实施例中，第一镀膜层200和第二镀膜层500中的至少之一的厚度可以是渐变的，如此，使第一镀膜层200的一端厚度高于另一端厚度，可使壳体的一端颜色不同于另一端，从而使壳体的颜色变化更绚丽多彩；需要说明的是，“厚度”的方向是沿着垂直于壳体表面的方向。在一些具体示例中，参考图3，第一镀膜层200的厚度可以是渐变的。在另一些具体示例中，第二镀膜层500的厚度是可以为渐变的。
在本发明的一些实施例中，第一镀膜层200和第二镀膜层500中的至少之一可以为图案化的，如此，将镀膜层也通过图案化处理也形成纹理效果，与纹理层400的复合纹理效果可使壳体的颜色效果随角度的变化而更加绚丽多彩。在一些具体示例中，第一镀膜层200可以为图案化的，具体可参考图5，第一镀膜层200可被刻蚀成阵列排布的六边形。在另一些具体示例中，第二镀膜层500也可以为图案化的。
在本发明的一些实施例中，第一镀膜层200的厚度可以为500～700nm，且第二镀膜层 500中的厚度可以为120～300nm，如此，采用整体厚度范围不同但第一子膜层610和第二子膜层620厚度相同的第一镀膜层200和，可在制作过程中采用相同的镀膜工艺形成相同厚度的第一子膜层610和第二子膜层620，只需调整镀膜次数即可获得不同厚度的第一镀膜层200和第二镀膜层500。
具体的，第一镀膜层200和第二镀膜层500都是TiO2/SiO2多层结构，不过，第一镀膜层200为厚度在500nm左右的的整层均质膜，而第二镀膜层500为厚度在300nm左右的的整层均质膜，且纹理层400采用线宽和线间距都为50微米左右的线条纹理，油墨层800可以选择白色。如此，使用者从垂直角度观察该壳体可看到土豪金色，从水平角度观察该壳体可看到黄绿色。
此外，第一镀膜层200和第二镀膜层500都是TiO2/SiO2多层结构，第一镀膜层200也可以为厚度在700nm左右的整层渐变膜，且上端薄、下端厚，而第二镀膜层500为厚度在120nm左右的的整层均质膜，且纹理层400采用线宽和线间距都为50微米左右的线条纹理，油墨层800选择蓝色。如此，使用者从垂直角度观察该壳体可看到上端呈***、下端呈绿色，从水平角度观察该壳体可看到上端呈绿色、下端为紫色。
还有，第一镀膜层200和第二镀膜层500都是TiO2/SiO2多层结构，第一镀膜层200也可以为厚度在700nm左右的渐变膜，且上端薄、下端厚，而且第一镀膜层200还被刻蚀成阵列排布的六边形，而第二镀膜层500为厚度在300nm左右的的整层均质膜，且纹理层400 采用线宽和线间距都为50微米左右的线条纹理，油墨层800选择白色。如此，使用者从垂直角度观察该壳体可看到上端六边形区域呈蓝色、下端整体呈紫，从水平角度观察该壳体可看到上端六边形区域呈绿色、下端为紫色。
以及，第一镀膜层200和第二镀膜层500都是TiO2/SiO2多层结构，第一镀膜层200也可以为厚度在700nm左右的渐变膜，且上端薄、下端厚，而且第一镀膜层200还被刻蚀成阵列排布的六边形，而第二镀膜层500为厚度在120nm左右的的整层均质膜，且纹理层400 采用线宽和线间距都为50微米左右的线条纹理，油墨层800选择渐变色，其上端为蓝色、下端为银白色。如此，使用者从垂直角度观察该壳体可看到上端六边形区域呈蓝色、下端整体呈浅紫色，从水平角度观察该壳体可看到上端六边形区域呈绿色、下端为银白色。
根据本申请的实施例，参考图2，第一镀膜层200与透光壳体100之间可以设置有打底有机层910，且透光壳体100远离第一镀膜层200的一侧可以进一步设置有防指纹层920。如此，厚度为1.0～2.5微米的打底有机层910可降低第一镀膜层200的应力对透光壳体强度的影响；而厚度为10～30微米的防指纹层920可使壳体表面与水滴的接触角大于110°。
根据本申请的实施例，形成透光壳体100的材料不只局限于玻璃，还可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或PMMA/PC复合板等其他光学透明材料，如此，不仅是透光壳体100具有高透明度、高力学性能的同时，还可使壳体更轻薄。
综上所述，根据本申请的实施例，提出了一种电子设备的壳体，透光壳体上的第一镀膜层所反射的光，与膜片上的纹理层或第二镀膜层所反射的光形成干涉，呈现出更复杂的颜色效果，且不同角度逐渐变化从而使壳体的颜色更加绚丽多彩，且层次感更丰富、外观美感更出众。
在本申请实施例的另一个方面，提出了一种制作电子设备的壳体的方法。根据本申请的实施例，参考图6，该制作方法包括：
S100：在透光壳体的一侧表面形成第一镀膜层。
在该步骤中，在透光壳体100的一侧表面形成第一镀膜层200。根据本申请的实施例，可以预先选取合适的玻璃原材(例如康宁GG3、GG5、GG6，或AGC的DT Pro、DT Star 等)，通过开料、数控加工(CNC)、热弯、抛光、钢化、清洗等工序加工出三维(3D)白片玻璃，然后再在3D白片玻璃的凹面形成第一镀膜层200。根据本申请的实施例，形成第一镀膜层200的方式可以采用磁控溅射镀膜或蒸发镀膜，例如，采用蒸发镀膜形成TiO2/SiO2的多层膜系结构，可以形成厚度均匀的均质膜。
在本发明的一些实施例中，形成第一镀膜层的步骤包括依次形成交替设置的多个第一子膜层610和多个第二子膜层620，其中，第一子膜层610可以由二氧化钛(TiO2)形成，第二子膜层620可以由二氧化硅(SiO2)形成。如此，让光线在折射率不同的膜层之间发生多次折射，从而实现壳体表面如彩虹一般的幻彩变色效果，进而使电子设备的外观能够满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。
在本发明的一些实施例中，在步骤S100之前，可以在透光壳体100的一侧表面先形成打底有机层910，再在打底有机层910远离透光壳体100的表面形成第一镀膜层200。如此，喷涂形成厚度为1.0～2.5微米的打底有机层910，可降低第一镀膜层200的应力对透光壳体强度的影响。
在一些具体示例中，可以对第一镀膜层200进行图案化处理，如此，可刻蚀出呈阵列排布的六边形图案。具体的步骤可以为：先在打底有机层910表面喷涂一层厚度为1.0～2.5 微米的光阻，光阻的具体类型可根据图形设计选择负性或正性的光刻胶；然后，通过预烘烤去除光阻中的部分有机溶剂，烘烤方式采用红外辐射加热或热风循环加热，烘烤设备可以是烤箱或隧道炉，烘烤温度60～100℃，烘烤时间3～10min；对预烘烤后的产品进行曝光，曝光光源为紫外光，可以是汞灯、卤素灯或紫外激光(如波长为255nm或355nm激光等)，曝光能量为0.2～0.5uj，曝光所用的光罩根据图案需要进行设计制作；继续对曝光后的产品进行显影(未曝光的区域将被显影掉)，显影液为碱性液体(如0.1～0.5wt％的NaOH或KOH，或1～3wt％的Na2CO3或NaHCO3)，显影后得到图形，图形区域将对玻璃表面进行遮蔽保护，确保镀膜时可视区不会被镀到膜层；对显影后的产品进一步烘烤，使光阻进一步固化，烘烤方式和设备与预烘烤相同，烘烤温度通常在预烘烤温度基础上提升50～150℃，烘烤时间10～30min；对固烤后的产品进行超声波清洗，使产品表面干净且无水渍，以确保镀膜时的外观品质和附着力；磁控溅射或蒸镀形成第一镀膜层200后，进行退镀，即去掉光阻层，同时附带将光阻层上方的镀膜层一起从玻璃表面退镀剥离，得到具有镀膜层图案的玻璃盖板。此外，也可以选择先形成第一镀膜层200，再刻蚀掉未被光阻保护的区域，最后去掉光阻层，其中，蚀刻温度30～40℃，时间1～10min，蚀刻液浓度1～10％，蚀刻液类型可以是HF、HCl、H2SO4、HNO3、草酸和柠檬酸中的一种或几种的混合液体。
在另一些具体示例中，形成的第一镀膜层200的厚度可以是渐变的。具体的，可以通过设定玻璃与靶材之间不同的距离或采用遮挡治具的方式，在玻璃表面形成膜层厚度在某一方向上呈现递增或递减的渐变膜层。
在本发明的一些实施例中，可以在步骤S100之后，继续在3D玻璃壳体的凸面，即透光壳体100远离第一镀膜层200的表面，通过磁控溅射镀膜或蒸发镀膜形成防指纹层，如此，可使壳体表面与水的接触角大于110°。
S200：在膜片的一侧形成纹理层。
在该步骤中，在膜片300的一侧形成纹理层400。根据本申请的实施例，可以通过UV转印工艺在膜片的PET面转印一层UV纹理，UV胶的粘度选择200～500mpa.s，胶层厚度可以为9～20微米，曝光能量采用800～1500mj/cm2。
S300：在纹理层远离膜片的表面上形成第二镀膜层。
在该步骤中，在纹理层400远离膜片300的表面上形成第二镀膜层500。根据本申请的实施例，形成第二镀膜层500可以采用磁控溅射镀膜或蒸发镀膜，例如，采用蒸发镀膜形成TiO2/SiO2的多层膜系结构，可以形成厚度均匀的均质膜。
在本发明的一些实施例中，形成第二镀膜层500的步骤包括依次形成交替设置的多个第一子膜层610和多个第二子膜层620，其中，第一子膜层610由二氧化钛形成，第二子膜层620由二氧化硅形成。如此，让光线在折射率不同的膜层之间发生多次折射，从而实现壳体表面如彩虹一般的幻彩变色效果，进而使电子设备的外观能够满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。
在一些具体示例中，可以对第二镀膜层500进行图案化处理。具体的图案化处理步骤可以参考步骤S100中的第一镀膜层200的图案化处理步骤。在另一些具体示例中，形成的第二子膜层500的厚度页可以是渐变的。
在本发明的一些实施例中，在步骤S300之后、步骤S400之前，可以继续在第二镀膜层500远离纹理层400的表面上形成油墨层800。具体的，在第二镀膜层500的表面上通过丝印、涂布或胶辊印刷等工艺形成油墨层800，油墨层800可以是一层或多层油墨组成，颜色根据产品设计需要可以是白色、黑色、红色、蓝色等纯色，也可以是渐变色。
S400：将膜片的另一侧表面贴合到第一镀膜层远离透光壳体的表面上。
在该步骤中，将步骤S300制作好的膜片300的另一侧表面，贴合到第一镀膜层200远离透光壳体100的表面上。在本发明的一些实施例中，膜片200可以通过光刻胶(OCA) 贴合到透光壳体100的表面上。根据本申请的实施例，贴合后还可以进行脱泡处理，脱泡压力选择0.3～0.6MPa，温度在30～60℃之间，脱泡时间为20～60min，之后得到玻璃盖板成品。
综上所述，根据本申请的实施例，提出了一种制备方法，可以在透光壳体的表面形成第一镀膜层，在膜片的表面形成纹理层和第二镀膜层，然后将膜片贴合到透光壳体上，获得颜色效果更复杂、绚丽多彩且层次感更丰富的电子设备壳体，并且，该制作方法的工艺简单、制造成本更低。
在本申请实施例的另一个方面，提出了一种电子设备。
根据本申请的实施例，参考图7，电子设备1包括壳体10和显示装置20；其中，壳体包括层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，第一镀膜层和第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且第一子膜层由二氧化钛形成，第二子膜层由二氧化硅形成；而显示装置20与壳体10相连。
根据本发明的实施例，该电子设备的具体类型不受特别的限制，具体例如手机、平板电脑、智能手表等，本领域技术人员可根据该电子设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。需要说明的是，该电子设备除了包括上述的壳体和显示装置以外，还包括其他必要的部件和结构，以手机为例，具体例如处理器、存储器、电池、电路板、摄像头，等等，本领域技术人员可根据该电子设备的具体种类进行相应地设计和补充，在此不再赘述。
综上所述，根据本申请的实施例，提出了一种电子设备，其壳体的颜色更丰富绚丽、视觉上的层次感和美感更好，从而使电子设备的外观效果更出众，从而使电子设备的市场竞争力更好。本领域技术人员能够理解的是，前面针对电子设备的壳体所描述的特征和优点，仍适用于该电子设备，在此不再赘述。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种电子设备的壳体，其特征在于，包括依次层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成，
所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一为图案化的，或者，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一的厚度为渐变的，
且所述第一镀膜层所反射的光，与所述纹理层或所述第二镀膜层所反射的光形成干涉。
2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第一镀膜层与所述膜片之间设置有光学胶层。
3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第二镀膜层远离所述纹理层进一步设置有油墨层。
4.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第一镀膜层的厚度为500～700nm，且所述第二镀膜层中的厚度为120～300nm。
5.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第一镀膜层与所述透光壳体之间设置有打底有机层，且所述透光壳体远离所述第一镀膜层的一侧进一步设置有防指纹层。
6.一种制作电子设备的壳体的方法，其特征在于，包括：
在透光壳体的一侧表面形成第一镀膜层；
在膜片的一侧表面形成纹理层；
在所述纹理层远离所述膜片的表面上形成第二镀膜层；
将所述膜片的另一侧表面贴合到所述第一镀膜层远离所述透光壳体的表面上；
其中，形成所述第一镀膜层和所述第二镀膜层的步骤包括依次形成交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成，
对所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一进行图案化处理，或者，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一的厚度为渐变的，
且所述第一镀膜层所反射的光，与所述纹理层或所述第二镀膜层所反射的光形成干涉。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述膜片通过光刻胶贴合到所述透光壳体的表面上。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，进一步包括：
在所述第二镀膜层远离所述纹理层的表面上形成油墨层。
9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，进一步包括：
在所述第一镀膜层与所述透光壳体之间形成打底有机层；
在所述透光壳体远离所述第一镀膜层的一侧形成防指纹层。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
壳体，所述壳体包括层叠设置的透光壳体、第一镀膜层、膜片、纹理层和第二镀膜层，其中，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层都是由多个第一子膜层和多个第二子膜层交替设置组成，且所述第一子膜层由二氧化钛形成，所述第二子膜层由二氧化硅形成；
显示装置，所述显示装置与所述壳体相连，
其中，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一为图案化的，或者，所述第一镀膜层和所述第二镀膜层中的至少之一的厚度为渐变的，
且所述第一镀膜层所反射的光，与所述纹理层或所述第二镀膜层所反射的光形成干涉。
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