CN110726043A - 高阻尼低颤动抗震基座 - Google Patents

Abstract

本申请公开了高阻尼低颤动抗震基座,包括下基座、上基座、中间滑轨组、下接触组、上接触组，下基座上开设有下凹导滑槽以及设有位于下凹导滑槽两侧的下凹弧位，上基座设于下基座上侧，并与所述下基座交叉设置，且其上开设有上凹导滑槽，以及还设有位于所述上凹导滑槽两侧的上凹弧位，中间滑轨组设于所述下基座与所述上基座间，下接触组设于所述中间滑轨组上且与所述下凹弧位相接触，上接触组设于所述中间滑轨组上位于所述下接触组上侧，且其与所述上凹弧位相接触。本申请不仅可增加上基座相对下基座移动时阻尼作用，且还可大幅度降低上基座相对下基座移动时的颤动频率，进而满足保护本申请所载放的文物、精密仪器、机柜等摆放物体。

Description

高阻尼低颤动抗震基座

【技术领域】

本申请涉及抗震的技术领域，具体来说是涉及一种高阻尼低颤动抗震基座。

【背景技术】

抗震基座，是一种能够在一定程度上降低地震破坏影响的物体放置基座，其主要应用于博物馆内陈设文物、医院、学校或企业等机构内放置精密仪器、大数据中心内放置机柜等。

但是，现有绝大多数的抗震基座的抗震效果较差，具体体现在抗震基座自身阻尼较低、震中颤动厉害等等，继而放置于现有抗震基座上的文物、精密仪器、机柜等还是会随着建筑的轻微晃动而发生倾倒、散落的风险，

为此，本领域技术人员亟需研发一种既具有高阻尼右具有低颤动的抗震基座以满足现实使用需求。

【发明内容】

本申请所要解决是针对的上述现有的技术问题，提供一种高阻尼低颤动抗震基座。

为解决上述技术问题，本申请是通过以下技术方案实现：

高阻尼低颤动抗震基座,包括：

下基座，其上开设有下凹导滑槽，以及还设有位于所述下凹导滑槽两侧的下凹弧位；

上基座，其设于所述下基座上侧，并与所述下基座交叉设置，且其上开设有上凹导滑槽，以及还设有位于所述上凹导滑槽两侧的上凹弧位；

中间滑轨组，其设于所述下基座与所述上基座间，且其下侧滑动连接于所述下凹导滑槽内，以及其上侧滑动连接于所述上凹导滑槽内；

下接触组，其设于所述中间滑轨组上，且与所述下凹弧位相接触；

上接触组，其设于所述中间滑轨组上，位于所述下接触组上侧，且其与所述上凹弧位相接触。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述下凹导滑槽包括：

下前下凹导滑槽，其沿所述下基座横向方向开设于所述下基座前侧；

下后下凹导滑槽，其沿所述下基座横向方向开设于所述下基座后侧；

所述下凹弧位包括：

下前下凹弧位，其设于所述下前下凹导滑槽前后两侧；

下后下凹弧位，其设于所述下后下凹导滑槽前后两侧。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述下前下凹弧位包括：

左下前下凹弧位，其设于所述下前下凹导滑槽左部的前后两侧；

右下前下凹弧位，其设于所述下前下凹导滑槽右部的前后两侧；

所述下后下凹弧位包括：

左下后下凹弧位，其设于所述下后下凹导滑槽左部的前后两侧；

右下后下凹弧位，其设于所述下后下凹导滑槽右部的前后两侧。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述下基座包括：

下前板组；

下后板组，其设于所述下前板组后侧；

连接杆组，其连接于所述下前板组与所述下后板组间；

所述下前板组上设有所述下前下凹导滑槽和所述左下前下凹弧位及所述右下前下凹弧位；

所述下后板组上设有所述下后下凹导滑槽和所述左下后下凹弧位及所述右下后下凹弧位。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述上凹导滑槽包括：

左前上凹导滑槽，其沿所述上基座纵向方向开设于所述上基座左前侧上；

左后上凹导滑槽，其沿所述上基座纵向方向开设于所述上基座左后侧上；

右前上凹导滑槽，其沿所述上基座纵向方向开设于所述上基座右前侧上；

右后上凹导滑槽，其沿所述上基座纵向方向开设于所述上基座右后侧上；

所述上凹弧位包括：

左前上凹弧位，其设于所述左前上凹导滑槽左右两侧；

左后上凹弧位，其设于所述左后上凹导滑槽左右两侧；

右前上凹弧位，其设于所述右前上凹导滑槽左右两侧；

右后上凹弧位，其设于所述右后上凹导滑槽左右两侧。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述上基座包括：

左前板组，其沿所述下前板组纵向方向设置于所述下前板组上侧；

左后板组，其设于所述左前板组后侧；

左侧连接杆组，其连接于所述左前板组与所述左后板组间；

右前板组，其设于所述左前板组右侧；

右后板组，其设于所述右前板组后侧；

右侧连接杆组，其连接于所述右前板组与所述右后板组间；

所述左前板组上设有所述左前上凹导滑槽和所述左前上凹弧位；

所述左后板组上设有所述左后上凹导滑槽和所述左后上凹弧位；

所述右前板组上设有所述右前上凹导滑槽和所述右前上凹弧位；

所述右后板组上设有所述右后上凹导滑槽和所述右后上凹弧位。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述上基座还包括：

上前辅助支撑板，其沿所述左前板组横向方向设置于所述左前板组和所述右前板组上；

上后辅助支撑板，其沿所述左后板组横向方向设置于所述左后板组和所述右后板组上。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述中间滑轨组包括：

前中滑轨，其下侧套设于所述下前下凹导滑槽内，且其左上侧套设于所述左前上凹导滑槽内，以及其右上侧套设于所述右前上凹导滑槽内；

后中滑轨，其下侧套设于所述下后下凹导滑槽内，且其左上侧套设于所述左后上凹导滑槽内，以及其右上侧套设于所述右后上凹导滑槽内。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述下接触组包括：

左前下滚动轮组，其设于所述前中滑轨左下侧上，且其与所述左下前下凹弧位相接触；

右前下滚动轮组，其设于所述前中滑轨右下侧上，且其与所述右下前下凹弧位相接触；

左后下滚动轮组，其设于所述后中滑轨左下侧上，且其与所述左下后下凹弧位相接触；

右后下滚动轮组，其设于所述后中滑轨右下侧上，且其与所述右下后下凹弧位相接触；

所述上接触组包括：

左前上滚动轮组，其设于所述前中滑轨左上侧，且其与所述左前上凹弧位相接触；

右前上滚动轮组，其设于所述前中滑轨右上侧上，且其与所述右前上凹弧位相接触；

左后上滚动轮组，其设于所述后中滑轨左上侧上，且其与所述左后上凹弧位相接触；

右后上滚动轮组，其设于所述后中滑轨右上侧上，且其与所述右后上凹弧位相接触。

如上所述的高阻尼低颤动抗震基座，所述前中滑轨中部前后两侧均设有朝内凹陷的前中内凹位；

所述后中滑轨中部前后两侧均设有朝内凹陷的后中内凹位；

所述下基座还包括：

下前限位导向组，其设于所述下前板组上，位于所述前中滑轨前后两侧，且其上设有可伸入至所述前中内凹位内以用于限位所述前中滑轨的下前限位凸起；

下后限位导向组，其设于所述下后板组上，位于所述后中滑轨前后两侧，且其上还设有可伸入至所述后中内凹位内以用于限位所述后中滑轨的下后限位凸起。

与现有技术相比，上述申请有如下优点：

本申请通过所述本申请高阻尼低颤动抗震基座通过所述中间滑轨组连接所述下基座和所述上基座，随之通过所述下接触组适配接触所述下凹弧位，以及所述上接触组适配接触所述上凹弧位，继而当发生地震时，所述下接触组沿所述下凹弧位延伸方向往复移动，所述上接触组沿所述上凹弧位延伸方向往复移动，从而不仅可大大增加所述上基座相对所述下基座移动时阻尼作用，且还可大幅度降低所述上基座相对所述下基座移动时的颤动频率，进而可最大限度提高本申请的实用性和适用性，以使满足现实使用需求，实现最大限度的保护本申请所载放的文物、精密仪器、机柜等摆放物体。

【附图说明】

图1是本申请高阻尼低颤动抗震基座的立体图。

图2是本申请高阻尼低颤动抗震基座的分解图。

图3是本申请高阻尼低颤动抗震基座中所述下基座的立体图。

图4是本申请高阻尼低颤动抗震基座中所述下前限位导向组及所述下前板组的立体图。

图5是本申请高阻尼低颤动抗震基座中所述下后限位导向组及所述下后板组的立体图。

图6是本申请高阻尼低颤动抗震基座隐藏所述下基座后的仰视立体图。

图7是图6的局部放大视图Ⅰ。

图8是图6的局部放大视图Ⅱ。

【具体实施方式】

下面通过具体实施方式结合附图对本申请作进一步详细说明。

如图1～8所示，高阻尼低颤动抗震基座，包括下基座1、上基座2、中间滑轨组3、下接触组4、上接触组5。

具体的，所述下基座1上开设有下凹导滑槽11，以及还设有位于所述下凹导滑槽11两侧的下凹弧位12。所述上基座2设于所述下基座1上侧，并与所述下基座1交叉设置，且其上开设有与所述下凹导滑槽11交叉设置的上凹导滑槽21，以及还设有位于所述上凹导滑槽21两侧的上凹弧位22。所述中间滑轨组3设于所述下基座1与所述上基座2间，且其下侧滑动连接于所述下凹导滑槽11内，以及其上侧滑动连接于所述上凹导滑槽21内。所述下接触组4设于所述中间滑轨组3上，且与所述下凹弧位12相接触。所述上接触组5设于所述中间滑轨组3上，位于所述下接触组4上侧，且其与所述上凹弧位22相接触。

本申请高阻尼低颤动抗震基座通过所述中间滑轨组3连接所述下基座1和所述上基座2，随之通过所述下接触组4适配接触所述下凹弧位12，以及所述上接触组5适配接触所述上凹弧位13，继而当发生地震时，所述下接触组4沿所述下凹弧位12延伸方向往复移动，所述上接触组5沿所述上凹弧位22延伸方向往复移动，从而不仅可大大增加所述上基座2相对所述下基座1移动时阻尼作用，且还可大幅度降低所述上基座2相对所述下基座1移动时的颤动频率，进而可最大限度提高本申请的实用性和适用性，以使满足现实使用需求，实现最大限度的保护本申请所载放的文物、精密仪器、机柜等摆放物体。

进一步的，所述下凹导滑槽11包括下前下凹导滑槽111、下后下凹导滑槽112。所述下前下凹导滑槽111沿所述下基座1横向方向开设于所述下基座1前侧。所述下后下凹导滑槽112沿所述下基座1横向方向开设于所述下基座1后侧。

所述下凹弧位12包括下前下凹弧位121、下后下凹弧位122。所述下前下凹弧位121设于所述下前下凹导滑槽111前后两侧。所述下后下凹弧位122设于所述下后下凹导滑槽112前后两侧。

所述下前下凹弧位121包括左下前下凹弧位1211、右下前下凹弧位1212。所述左下前下凹弧位1211设于所述下前下凹导滑槽111左部的前后两侧。所述右下前下凹弧位1212设于所述下前下凹导滑槽111右部的前后两侧。

所述下后下凹弧位122包括左下后下凹弧位1221、右下后下凹弧位1222。所述左下后下凹弧位1221设于所述下后下凹导滑槽112左部的前后两侧。所述右下后下凹弧位1222设于所述下后下凹导滑槽112右部的前后两侧。其目的在满足设计使用需求。

更进一步的，所述下基座1包括下前板组101、下后板组102、连接杆组103。所述下后板组102设于所述下前板组101后侧。所述连接杆组103连接于所述下前板组101与所述下后板组102间。

所述下前板组101上设有所述下前下凹导滑槽111和所述左下前下凹弧位1211及所述右下前下凹弧位1212。

所述下后板组102上设有所述下后下凹导滑槽112和所述左下后下凹弧位1221及所述右下后下凹弧位1222。其目的在满足设计使用需求。

更进一步的，所述上凹导滑槽21包括左前上凹导滑槽211、左后上凹导滑槽212、右前上凹导滑槽213、右后上凹导滑槽214。所述左前上凹导滑槽211沿所述上基座2纵向方向开设于所述上基座2左前侧上。所述左后上凹导滑槽212沿所述上基座2纵向方向开设于所述上基座2左后侧上。所述右前上凹导滑槽213沿所述上基座2纵向方向开设于所述上基座2右前侧上。所述右后上凹导滑槽214沿所述上基座2纵向方向开设于所述上基座2右后侧上。

所述上凹弧位22包括左前上凹弧位221、左后上凹弧位222、右前上凹弧位223、右后上凹弧位224。所述左前上凹弧位221设于所述左前上凹导滑槽211左右两侧。所述左后上凹弧位222设于所述左后上凹导滑槽212左右两侧。所述右前上凹弧位223设于所述右前上凹导滑槽213左右两侧。所述右后上凹弧位224设于所述右后上凹导滑槽214左右两侧。

更进一步的，所述上基座2包括左前板组201、左后板组202、左侧连接杆组203、右前板组204、右后板组205、右侧连接杆组206。所述左前板组201沿所述下前板组101纵向方向设置于所述下前板组101上侧。所述左后板组202设于所述左前板组201后侧。所述左侧连接杆组203连接于所述左前板组201与所述左后板组202间。所述右前板组204设于所述左前板组201右侧。所述右后板组205设于所述右前板组204后侧。所述右侧连接杆组206连接于所述右前板组204与所述右后板组205间。

所述左前板组201上设有所述左前上凹导滑槽211和所述左前上凹弧位221。

所述左后板组202上设有所述左后上凹导滑槽212和所述左后上凹弧位222。

所述右前板组204上设有所述右前上凹导滑槽213和所述右前上凹弧位223。

所述右后板组205上设有所述右后上凹导滑槽214和所述右后上凹弧位224。其目的在于实现上下匹配目的。

更进一步的，所述上基座2还包括上前辅助支撑板207、上后辅助支撑板208。所述上前辅助支撑板207沿所述左前板组201横向方向设置于所述左前板组201和所述右前板组204上。所述上后辅助支撑板208沿所述左后板组202横向方向设置于所述左后板组202和所述右后板组205上。采用所述上前辅助支撑板207和所述上后辅助支撑板208的目的不仅在于可扩大本申请的载放面积，且还有利于进一步提高本申请所摆放物体的稳定性。

更进一步的，所述中间滑轨组3包括前中滑轨301、后中滑轨302。所述前中滑轨301下侧套设于所述下前下凹导滑槽111内，且其左上侧套设于所述左前上凹导滑槽211内，以及其右上侧套设于所述右前上凹导滑槽213内。所述后中滑轨302下侧套设于所述下后下凹导滑槽112内，且其左上侧套设于所述左后上凹导滑槽212内，以及其右上侧套设于所述右后上凹导滑槽214内。

所述下接触组4包括左前下滚动轮组41、右前下滚动轮组42、左后下滚动轮组43、右后下滚动轮组44。所述左前下滚动轮组41设于所述前中滑轨301左下侧上，且其与所述左下前下凹弧位1211相接触。所述右前下滚动轮组42设于所述前中滑轨301右下侧上，且其与所述右下前下凹弧位1212相接触。所述左后下滚动轮组43设于所述后中滑轨302左下侧上，且其与所述左下后下凹弧位1221相接触。所述右后下滚动轮组44设于所述后中滑轨302右下侧上，且其与所述右下后下凹弧位1222相接触。

所述上接触组5包括左前上滚动轮组51、右前上滚动轮组52、左后上滚动轮组53、右后上滚动轮组54。所述左前上滚动轮组51设于所述前中滑轨301左上侧，且其与所述左前上凹弧位221相接触。所述右前上滚动轮组52设于所述前中滑轨301右上侧上，且其与所述右前上凹弧位223相接触。所述左后上滚动轮组53设于所述后中滑轨302左上侧上，且其与所述左后上凹弧位222相接触。所述右后上滚动轮组54设于所述后中滑轨302右上侧上，且其与所述右后上凹弧位224相接触。其优点在于所述下基座1和所述上基座2间形成有下四处阻尼作用，以及上四处阻尼作用，继而达到共有八处用于阻挡减弱所述上基座2震动的减震连接结构，从而可更近一步提高本申请的阻尼作用，以及还可更进一步降低颤动频率，进而可最大限度提高本申请的实用性和适用性，以使满足现实使用需求，实现最大限度的保护本申请所载放的文物、精密仪器、机柜等摆放物体。

当然，当所述下接触组4和所述上接触组5均为固定设置于所述中间滑轨组3上时，所述下接触组4和所述上接触组5的制作材料均优选为石墨，其目的在于满足可往复移动的使用需求。

更进一步的，所述前中滑轨301中部前后两侧均设有朝内凹陷的前中内凹位3011。所述后中滑轨302中部前后两侧均设有朝内凹陷的后中内凹位3021。

所述下基座1还包括下前限位导向组104、下后限位导向组105。所述下前限位导向组104设于所述下前板组101上，位于所述前中滑轨301前后两侧，且其上设有可伸入至所述前中内凹位3011内以用于限位所述前中滑轨301的下前限位凸起1041。所述下后限位导向组105设于所述下后板组102上，位于所述后中滑轨302前后两侧，且其上还设有可伸入至所述后中内凹位3021内以用于限位所述后中滑轨302的下后限位凸起1051。其优点在于通过所述下前限位导向组104限位所述前中滑轨301以及通过所述下后限位导向组105限位所述后中滑轨302以实现分别限位所述前中滑轨301和所述后中滑轨302，且其还可达到结构简单、容易实现的目，同时也方便于加工组装。

综上所述对本申请的实施方式作了详细说明，但是本申请不限于上述实施方式。即使其对本申请作出各种变化，则仍落入在本申请的保护范围。

Claims (10)

1.高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于，包括：

下基座(1)，其上开设有下凹导滑槽(11)，以及还设有位于所述下凹导滑槽(11)两侧的下凹弧位(12)；

上基座(2)，其设于所述下基座(1)上侧，并与所述下基座(1)交叉设置，且其上开设有上凹导滑槽(21)，以及还设有位于所述上凹导滑槽(21)两侧的上凹弧位(22)；

中间滑轨组(3)，其设于所述下基座(1)与所述上基座(2)间，且其下侧滑动连接于所述下凹导滑槽(11)内，以及其上侧滑动连接于所述上凹导滑槽(21)内；

下接触组(4)，其设于所述中间滑轨组(3)上，且与所述下凹弧位(12)相接触；

上接触组(5)，其设于所述中间滑轨组(3)上，位于所述下接触组(4)上侧，且其与所述上凹弧位(22)相接触。

2.根据权利要求1所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述下凹导滑槽(11)包括：

下前下凹导滑槽(111)，其沿所述下基座(1)横向方向开设于所述下基座(1)前侧；

下后下凹导滑槽(112)，其沿所述下基座(1)横向方向开设于所述下基座(1)后侧；

所述下凹弧位(12)包括：

下前下凹弧位(121)，其设于所述下前下凹导滑槽(111)前后两侧；

下后下凹弧位(122)，其设于所述下后下凹导滑槽(112)前后两侧。

3.根据权利要求2所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述下前下凹弧位(121)包括：

左下前下凹弧位(1211)，其设于所述下前下凹导滑槽(111)左部的前后两侧；

右下前下凹弧位(1212)，其设于所述下前下凹导滑槽(111)右部的前后两侧；

所述下后下凹弧位(122)包括：

左下后下凹弧位(1221)，其设于所述下后下凹导滑槽(112)左部的前后两侧；

右下后下凹弧位(1222)，其设于所述下后下凹导滑槽(112)右部的前后两侧。

4.根据权利要求3所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述下基座(1)包括：

下前板组(101)；

下后板组(102)，其设于所述下前板组(101)后侧；

连接杆组(103)，其连接于所述下前板组(101)与所述下后板组(102)间；

所述下前板组(101)上设有所述下前下凹导滑槽(111)和所述左下前下凹弧位(1211)及所述右下前下凹弧位(1212)；

所述下后板组(102)上设有所述下后下凹导滑槽(112)和所述左下后下凹弧位(1221)及所述右下后下凹弧位(1222)。

5.根据权利要求4所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述上凹导滑槽(21)包括：

左前上凹导滑槽(211)，其沿所述上基座(2)纵向方向开设于所述上基座(2)左前侧上；

左后上凹导滑槽(212)，其沿所述上基座(2)纵向方向开设于所述上基座(2)左后侧上；

右前上凹导滑槽(213)，其沿所述上基座(2)纵向方向开设于所述上基座(2)右前侧上；

右后上凹导滑槽(214)，其沿所述上基座(2)纵向方向开设于所述上基座(2)右后侧上；

所述上凹弧位(22)包括：

左前上凹弧位(221)，其设于所述左前上凹导滑槽(211)左右两侧；

左后上凹弧位(222)，其设于所述左后上凹导滑槽(212)左右两侧；

右前上凹弧位(223)，其设于所述右前上凹导滑槽(213)左右两侧；

右后上凹弧位(224)，其设于所述右后上凹导滑槽(214)左右两侧。

6.根据权利要求5所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述上基座(2)包括：

左前板组(201)，其沿所述下前板组(101)纵向方向设置于所述下前板组(101)上侧；

左后板组(202)，其设于所述左前板组(201)后侧；

左侧连接杆组(203)，其连接于所述左前板组(201)与所述左后板组(202)间；

右前板组(204)，其设于所述左前板组(201)右侧；

右后板组(205)，其设于所述右前板组(204)后侧；

右侧连接杆组(206)，其连接于所述右前板组(204)与所述右后板组(205)间；

所述左前板组(201)上设有所述左前上凹导滑槽(211)和所述左前上凹弧位(221)；

所述左后板组(202)上设有所述左后上凹导滑槽(212)和所述左后上凹弧位(222)；

所述右前板组(204)上设有所述右前上凹导滑槽(213)和所述右前上凹弧位(223)；

所述右后板组(205)上设有所述右后上凹导滑槽(214)和所述右后上凹弧位(224)。

7.根据权利要求6所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述上基座(2)还包括：

上前辅助支撑板(207)，其沿所述左前板组(201)横向方向设置于所述左前板组(201)和所述右前板组(204)上；

上后辅助支撑板(208)，其沿所述左后板组(202)横向方向设置于所述左后板组(202)和所述右后板组(205)上。

8.根据权利要求5所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述中间滑轨组(3)包括：

前中滑轨(301)，其下侧套设于所述下前下凹导滑槽(111)内，且其左上侧套设于所述左前上凹导滑槽(211)内，以及其右上侧套设于所述右前上凹导滑槽(213)内；

后中滑轨(302)，其下侧套设于所述下后下凹导滑槽(112)内，且其左上侧套设于所述左后上凹导滑槽(212)内，以及其右上侧套设于所述右后上凹导滑槽(214)内。

9.根据权利要求8所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述下接触组(4)包括：

左前下滚动轮组(41)，其设于所述前中滑轨(301)左下侧上，且其与所述左下前下凹弧位(1211)相接触；

右前下滚动轮组(42)，其设于所述前中滑轨(301)右下侧上，且其与所述右下前下凹弧位(1212)相接触；

左后下滚动轮组(43)，其设于所述后中滑轨(302)左下侧上，且其与所述左下后下凹弧位(1221)相接触；

右后下滚动轮组(44)，其设于所述后中滑轨(302)右下侧上，且其与所述右下后下凹弧位(1222)相接触；

所述上接触组(5)包括：

左前上滚动轮组(51)，其设于所述前中滑轨(301)左上侧，且其与所述左前上凹弧位(221)相接触；

右前上滚动轮组(52)，其设于所述前中滑轨(301)右上侧上，且其与所述右前上凹弧位(223)相接触；

左后上滚动轮组(53)，其设于所述后中滑轨(302)左上侧上，且其与所述左后上凹弧位(222)相接触；

右后上滚动轮组(54)，其设于所述后中滑轨(302)右上侧上，且其与所述右后上凹弧位(224)相接触。

10.根据权利要求8所述的高阻尼低颤动抗震基座，其特征在于：所述前中滑轨(301)中部前后两侧均设有朝内凹陷的前中内凹位(3011)；

所述后中滑轨(302)中部前后两侧均设有朝内凹陷的后中内凹位(3021)；

所述下基座(1)还包括：

下前限位导向组(104)，其设于所述下前板组(101)上，位于所述前中滑轨(301)前后两侧，且其上设有可伸入至所述前中内凹位(3011)内以用于限位所述前中滑轨(301)的下前限位凸起(1041)；

下后限位导向组(105)，其设于所述下后板组(102)上，位于所述后中滑轨(302)前后两侧，且其上还设有可伸入至所述后中内凹位(3021)内以用于限位所述后中滑轨(302)的下后限位凸起(1051)。

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