CN110678730A - 用于极快速信号清除的可调整样本底面 - Google Patents

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CN110678730A CN201880034393.4A CN201880034393A CN110678730A CN 110678730 A CN110678730 A CN 110678730A CN 201880034393 A CN201880034393 A CN 201880034393A CN 110678730 A CN110678730 A CN 110678730A
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蕾芙·C·萨墨菲尔德
布拉克·梅尔
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Abstract

公开了用于极快速信号清除的可调整样本底面的***和方法。在一个实施例中，被配置成可调整地支撑样本腔内的目标的目标支撑件可以包含：支撑架，所述支撑架可以被配置成***到所述样本腔中；支撑平台，所述支撑平台可以安置在所述支撑架内；以及平台调整***，所述平台调整***可以耦接到所述支撑架和所述支撑平台。所述平台调整***可以被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。

Description

用于极快速信号清除的可调整样本底面
技术领域
根据本公开的示例实施例，公开了用于极快速信号清除的可调整样本底面的***和方法。
背景技术
如激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICPMS)等强大的分析技术可以使研究人员能够直接用固体样本对高灵敏度元素和同位素进行分析。在LA-ICPMS中，激光烧蚀过程中喷射材料的羽流形成和直径可能与采样速度直接相关。样本目标与排出气体样本口的距离也可能影响采样速度。而且，为实现更高分辨率成像而进行的点烧蚀可能意味着对样本目标的能量冲击更小且羽流行程更短，从而需要样本目标靠近收集设备。
附图说明
图1是示出根据本公开的一个实施例的样本腔的透视图。在图1中，提供了关于x轴、y轴和z轴的透视图，其中每个轴与其它轴正交。
图2是示出根据本公开的一个实施例的图1所示样本腔的目标支撑件的透视图。在图2中，提供了关于x轴、y轴和z轴的透视图，其中每个轴与其它轴正交。
图3是根据本公开的一个实施例的图2所示目标支撑件的底部平面视图。
图4和图5分别是沿图3所示的线IV-IV'和V-V'截取的目标支撑件的截面视图。图5还示出了样本捕获单元的截面视面，所述样本捕获单元布置在目标上，就像目标支撑件被***到样本腔的腔体中一样。
图6是根据本公开的另一个实施例的图2所示目标支撑件的底部平面图。
具体实施方式
根据本公开的一个实施例，被配置成可调整地支撑样本腔内的目标的目标支撑件可以包含：支撑架，所述支撑架可以被配置成***到所述样本腔中；支撑平台，所述支撑平台可以安置在所述支撑架内；以及平台调整***，所述平台调整***可以耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***可以被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架可能被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
根据本公开的另一个实施例，可以提供一种方法。所述方法可以包含：对目标支撑件进行调整，所述目标支撑件被配置成支撑样本腔内的目标。所述目标支撑件可以包含：支撑架，所述支撑架被配置成***到所述样本腔中；支撑平台，所述支撑平台可以安置在所述支撑架内；以及平台调整***，所述平台调整***可以耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***可以配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
根据本公开的另一个实施例，可以提供一种样本腔，所述样本腔可以被配置成容纳目标。所述样本腔可以包含：样本腔主体；传输窗；以及目标支撑件，所述目标支撑件可以被配置成可调整地支撑所述样本腔内的所述目标。所述目标支撑件可以包含：支撑架，所述支撑架可以被配置成***到所述样本腔中；支撑平台，所述支撑平台可以安置在所述支撑架内；以及平台调整***，所述平台调整***可以耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***可以配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
参考附图，本文现在详细描述这些和其它示例实施例。除非另有明确说明，否则在附图中，部件、特征、元件等的尺寸、位置等以及其之间的任何距离不一定按比例绘制，而是为了清楚起见将其放大。贯穿全文，在附图中，相似的附图标记指代相似的元件。因此，即使未在对应附图中提及或描述，也可以参考其它附图描述相同或类似的附图标记。同样，即使未用附图标记表示的元件也可以参考其它附图来描述。
本文所使用的术语仅出于描述特定示例实施例的目的，而不旨在进行限制。除非另有定义，否则本文所使用的所有术语(包含技术和科学术语)具有与本领域普通技术人员通常理解的含义相同的含义。如本文所使用的，单数形式“一个/一种(a、an)”和“所述(the)”旨在同样包含复数形式，除非上下文另有明确指示。应当认识到，术语“包括(comprises)”和/或“包括(comprising)”在本说明书中使用时指定所陈述的特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除存在或添加一个或多个其它特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组。除非另有说明，否则在引用时，值的范围包含所述范围的上限和下限以及其间的任何子范围。除非另有说明，否则如“第一”、“第二”等术语仅用于将一个元件与另一个元件进行区分。例如，一个节点可以被称为“第一节点”，并且类似地，另一个节点可以被称为“第二节点”，反之亦然。
除非另有说明，术语“约(about)”、“大约(thereabout)”、“近似(approximately)”等表示数量、尺寸、调配物、参数和其它数量和特征不是并且也不需要是精确的，而可以是近似的和/或根据需要更大或更小，从而反映公差、转换因子、四舍五入、测量误差等以及本领域技术人员已知的其它因素。在本文中可以为了便于描述而使用空间相对术语，如“之下(below)”、“下方(beneath)”、“低于(lower)”、“上方(above)”和“上部(upper)”等来描述一个元件或特征与另一个元件或特征的关系，如附图所示。应当认识到，除了附图中所描绘的朝向之外，空间相对术语旨在涵盖不同的朝向。例如，如果附图中的物体被翻转，则被描述为在其它元件或特征“之下(below)”或“下方(beneath)”的元件将被定向为在其它元件或特征“上方(above)”。因此，示例性术语“之下(below)”可以涵盖上方和下方两个朝向。可以以其它方式定向一个物体(例如，旋转90度或处于其它朝向)并且可以相应地解释本文中使用的空间相对描述符。
应当理解，在不偏离本公开的精神和教导的情况下，可能存在多种不同的形式、实施例和组合，并且因此本公开不应被解释为限于本文阐述的示例实施例。相反，提供这些实例和实施例使得本公开将是详尽且完整的，并且将向本领域技术人员传达本公开的范围。
与本文的某些实施例相关联的一种或多种技术效果可以包含但不限于：对样本高度进行微调以改善电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)或电感耦合等离子体光发射光谱(ICP-OES)信号以及目标平面相对于激光焦点的三点校平。本文的某些实施例还可以具有在目标样本可以***到样本腔中之后改变所述目标样本的位置(例如，高度)的技术效果。本文的某些其它实施例还可以具有实现小光点灵敏度和提高小光点收集效率的技术效果。本文的某些其它实施例还可以具有改善样本***工作流程和客户体验的技术效果。本文的某些其它实施例也可以具有提高采样速度的技术效果。以下提供了与用于极快速信号清除的可调整样本底面的***和方法相关的各种示例实施例的详细描述。
参考图1，样本生成***的样本腔100可以被配置成通过用一个或多个激光脉冲烧蚀目标的一部分以在其内部容纳待采样的目标。因此，除了样本腔100之外，样本生成***可以进一步包含激光***(未示出)，所述激光***可以被配置成生成聚焦激光脉冲束，以烧蚀容纳在样本腔100内的目标。
样本腔100可以包含样本腔主体102、传输窗104和目标支撑件106。样本腔主体102可以限定内部，目标支撑件106可以通过例如限定在样本腔主体102中的腔门110***到内部中以及从其中移除(例如，沿x轴)。在目标支撑件106***到样本腔主体102中的情况下，样本腔主体102的内部可以与样本腔主体102外部的环境至少基本上密封(例如，通过至少基本上气密的密封件)。可以提供外部可调整密封螺钉(如图1到图3中112处所示)，以确保在样本腔主体102与目标支撑件106之间形成合适的密封。在一个实施例中，密封螺钉112各自可以具有双活塞密封件(例如，使用两个紧密的滑动配合o形环，未示出)以促进样本腔100的密封。还可以提供密封构件114(例如，o形环)以促进样本腔100的密封。
样本腔主体102可以包含开口(例如，如图1所示在其上部)，并且传输窗可以耦接到样本腔主体102，以便至少基本上将样本腔主体102的内部与样本腔主体102外部的环境密封(例如，通过至少基本上气密的密封件)。传输窗104可以由可透过激光脉冲的光波长的材料(例如，熔融石英)形成，所述激光脉冲被引导到样本腔主体102的内部以烧蚀目标的一部分。
目标支撑件106可以被配置成在传输窗104下方的位置处支撑样本腔主体102内部的目标。参考图1和2，目标支撑件106可以包含：支撑架202；支撑平台204，支撑平台204被配置成支撑目标(例如，示出为目标206，其可能具有大体平坦的上表面、搁置在支撑平台204的支撑表面204a上)；以及平台调整***，所述平台调整***被配置成调整支撑平台204相对于支撑架202的位置和/或朝向。支撑平台204可以由金属材料形成，如铝或铝合金、透明丙烯酸玻璃等或其任意组合。尽管未示出，但是支撑平台204可以包含一个或多个特征以固持目标、固持目标可能位于的玻璃载片(例如，长度和宽度分别为75mm x 25mm)、固持校准材料等或其任意组合。
例如，平台调整***可以被配置成沿z轴调整支撑平台204相对于支撑架202的位置朝向以调整支撑平台204相对于支撑架202侧倾(例如，测量为绕平行于x轴的轴旋转)，以便调整支撑平台204相对于支撑架202俯仰(例如，测量为绕平行于y轴的轴旋转)等或其任意组合。在所示实施例中，平台调整***可以包含一个或多个平台调整旋钮108(例如，第一平台调整旋钮108a、第二平台调整旋钮108b和第三平台调整旋钮108c)，这些旋钮可以被用户接合(例如，旋转)以调整支撑平台204相对于支撑架202的位置。当目标支撑件106被***到样本腔主体102中时并且当目标支撑件106从样本腔主体102中移除时，一个或多个平台调整旋钮108各自可以被用户接合。
尽管未示出，但是样本腔主体102可以包含一个或多个入口(例如，通过所述入口，可以将吹扫气体、运载气体等或其任意组合引入到样本腔主体102的内部)、一个或多个出口(例如，通过所述出口，可以将吹扫气体、运载气体、雾化样本、大气气体等或其任意组合从样本腔主体102的内部移除)等或其任意组合。应当认识到，在样本腔主体102的内部被密封、吹扫等或其任意组合之前或之后(或同时)，用户可以接合任何平台调整旋钮108以调整支撑平台204相对于支撑架202的位置。
尽管未示出，但是样本腔100通常可以包含布置在样本腔主体102内部的样本捕获单元。通常，样本捕获单元可以典型地布置在传输窗104下方和目标支撑件106上方(当目标支撑件106***到样本腔主体102中时)。当***到样本腔主体102中并支撑目标(例如，目标206)时，目标支撑件106样本捕获单元可以布置在目标206上方。此外并且如下文将更详细描述的，样本捕获单元可以与轴对准，激光脉冲束可以沿所述轴传播以烧蚀目标，使得当烧蚀目标时，样本捕获单元可以捕获由于激光烧蚀而从目标中喷射或以其它方式产生的颗粒和/或蒸气的羽流。捕获的羽流然后可以作为气溶胶通过本领域已知的任何合适的方式被输送到分析***。
参考图3到5，根据本公开的示例实施例，平台调整***还可以包含多个调整机构，如第一调整机构300a、第二调整机构300b和第三调整机构300c(每个调整机构统称为调整机构300)。每个调整机构300可以耦接到对应的平台调整旋钮108。例如，第一调整机构300a可以耦接到第一平台调整旋钮108a，第二调整机构300b可以耦接到第二平台调整旋钮108b，并且第三调整机构300c可以耦接到第三平台调整旋钮108c。
每个调整机构300可以包含杆301、外螺纹螺钉部分302和尖端部分304。杆301可以固定在平台调整旋钮108与外螺纹螺钉部分302的第一端部之间，并且尖端304可以连接到螺钉部分302的第二端部。调整机构300的部件可以由合适的刚性材料(例如，金属，如铝合金等)形成，使得当用户旋转平台调整旋钮108(例如，沿顺时针或逆时针方向)时，与平台调整旋钮108相关联的对应调整机构的螺钉部分302也可以以对应的方式旋转。
每个调整机构300还可以包含螺纹孔306，所述螺纹孔被配置成接合相应螺钉部分302的螺纹。如图3所示，第一调整机构300a和第三调整机构300c的螺纹孔306可以分别通过支架(如支架308)耦接到支撑架202。如图5所示，第二调整机构300b的螺纹孔306可以嵌入在支撑架202内。如上文所描述的构造，当用户旋转平台调整旋钮108时，与平台调整旋钮108相关联的调整机构300的螺钉部分302可以以对应的方式相对于螺纹孔306旋转。通过本公开的示例实施例，当螺钉部分302相对于螺纹孔306旋转时，连接到螺钉部分302的尖端304可以沿x轴移位。应当认识到，尖端304沿x轴移位的方向对应于螺钉部分302旋转的方向。
每个调整机构300还可以包含固定到支撑平台204的下表面的楔形物310。通常，每个楔形物310可以包含相对薄的端部、相对厚的端部以及从相对薄的端部延伸到相对厚的端部的倾斜表面。任选地，凹槽312可以设置在倾斜表面中，并且可以被配置成收容尖端304的一部分。根据本公开的示例实施例，当尖端304沿x轴充分移位时(例如，如图3到图5所示向左)，尖端304可以压靠在楔形物310的倾斜表面上，同时朝楔形物306的相对厚的端部移动，从而将支撑平台204的区域升高到楔形物310上方。当尖端304沿x轴充分移位时(例如，如图3到图5所示向右)，尖端304可以压靠在楔形物310的倾斜表面上，同时朝楔形物310的相对薄的端部移动，从而将支撑平台204的区域降低到楔形物310上方。
在图3到图5所示的示例实施例中，第一调整机构300a的楔形物310可以位于支撑平台204的所示左上角区域附近，第二调整机构300b的楔形物310可以位于支撑平台204的所示中右边缘区域附近，并且第三调整机构300c的楔形物310可以位于支撑平台204的所示左下角区域附近。因此，第一平台调整旋钮108a、第二平台调整旋钮108b和第三平台调整旋钮108c中的一个或多个平台调整旋钮可以旋转(例如，沿顺时针或逆时针方向)以倾斜或以其它方式调整支撑平台204相对于支撑架202的朝向。同样，第一平台调整旋钮108a、第二平台调整旋钮108b和第三平台调整旋钮108c中的每一个平台调整旋钮都可以旋转相同的量(例如，沿顺时针或逆时针方向)以一致地升高或降低(例如，沿z轴)支撑平台204，从而调整支撑平台204相对于支撑架202的位置。
在每个调整机构300内，螺纹部分302和螺纹孔306的螺距和螺旋角以及楔形物310的倾斜表面的斜率可以被选择成将支撑平台204的一个或多个区域升高或降低小于或等于引导到样本腔100中的聚焦激光脉冲束的焦深的量。通常，焦深的范围将为0.1mm到0.4mm。在一个实施例中，螺纹部分302和螺纹孔306的螺距和螺旋角以及楔形物310的倾斜表面的斜率可以被选择成在平台调整旋钮108每完整旋转一次就将支撑平台204的一个或多个区域升高或降低处于1μm到1mm范围内的量。在另一个实施例中，螺纹部分302和螺纹孔306的螺距和螺旋角以及楔形物310的倾斜表面的斜率可以被选择成在平台调整旋钮108每完整旋转一次就将支撑平台204的一个或多个区域升高或降低处于1μm到10μm的范围内的量。在另一个实施例中，螺纹部分302和螺纹孔306的螺距和螺旋角以及楔形物310的倾斜表面的斜率可以被选择成在平台调整旋钮108每完整旋转一次就将支撑平台204的一个或多个区域升高或降低处于3μm到5μm的范围内的量。
任选地，目标支撑件106可以包含轨道和凹槽***，所述轨道和凹槽***被布置和配置成稍微限制支撑平台204相对于支撑架202沿x轴和y轴或在由x轴和y轴限定的平面内移动。例如，如图3所示，多个凹槽(例如，至少基本上仅沿z轴延伸)可以形成于支撑平台204的侧表面内，并且对应的轨道可以形成于支撑架202的对应位置处。因此，支撑平台204可以通过将每个轨道***到对应的凹槽中而***到支撑架202的中心开口中。当调整支撑平台204相对于支撑架202的朝向和/或位置时，凹槽可以相对于轨道稍微滑动，以允许沿z轴移动，但是限制沿x轴和y轴的不期望的过度移动。
参考图5并且如上所述，当目标支撑件106***到样本腔主体102中时，目标206可以布置在样本腔100的样本捕获单元(在图5中在500处示出)下方。如图5所示，样本捕获单元500可以与轴对准，激光脉冲束可以沿所述轴(即光轴502)传播以烧蚀目标206。样本捕获单元500可以包含单元主体504，所述单元主体限定了具有圆柱形或锥形形状(例如，如所示出的，在相对小的开口处与单元主体504的下表面相交)的内部体积506，并且光轴502可以穿过所述内部体积延伸。
单元主体504还可以包含出口导管508，所述出口导管具有处于单元主体504的侧表面处的第一端部508a和与单元主体504的下表面以及内部体积506的表面相交的第二端部508b。单元主体504可以通过耦接到出口导管508的第一端部508a的样本输送导管(未示出)悬挂在样本腔主体102的内部。例如，样本输送导管的第一端部可以耦接到出口导管502的第一端部508a，并且样本输送导管的第二端部(与其第一端部相对)可以耦接到ICP炬(例如，如上文所论述的)。尽管图5示出了与单元主体504的下表面和内部体积506的表面相交的第二端部508b的实施例，但是其它实施例提供了仅与单元主体504的下表面或仅与内部体积506的表面相交的第二端部508b。
为了获得目标206的样本，可以生成一个或多个激光脉冲，并且所述激光脉冲沿光轴502从激光***传播并通过传输窗104进入到样本腔主体102的内部。之后，一个或多个激光脉冲可以沿光轴502传播通过样本捕获单元504的内部体积506以烧蚀目标206的一部分。作为烧蚀的结果，从目标206烧蚀的材料可以从作为目标206喷射或以其它方式从所述目标产生的颗粒和/或蒸气的羽流从目标206喷射。在此过程期间，出口导管508的内部内的压力可以至少略低于样本腔主体102的内部内的压力(例如，相对于耦接到样本输送导管的第二端部的ICP炬对样本腔主体102进行加压)。
因此，从目标206产生的羽流可以经由第二端部508b被捕获到出口导管508中。在一个实施例中，如上所述，当用户旋转第一平台调整旋钮108a、第二平台调整旋钮108b和第三平台调整旋钮108c中的一个或多个平台调整旋钮时，目标206的上表面相对于样本捕获单元500的下表面的朝向和/或位置可以由用户调整。在一个实施例中，第一调整旋钮108a、第二平台调整旋钮108b和第三平台调整旋钮108c中的每一个平台调整旋钮都可以旋转相同的量(例如，沿顺时针或逆时针方向)以一致地升高或降低(例如，沿z轴)支撑平台204，从而将目标206的上表面相对于样本捕获单元500的下表面之间的距离调整到处于0.0005mm到1mm的范围内。在一些实施例中，目标206的上表面相对于样本捕获单元500的下表面之间的距离可以被调整为处于0.001mm到0.08mm的范围内、处于0.001mm到0.05mm的范围内、处于0.001mm到0.03mm的范围内、处于0.001mm到0.01mm的范围内等或处于这些范围内或之间的任何子范围内。
尽管已经参考样本捕获单元504在上文描述了样本腔100的样本捕获单元，但是应当理解，样本捕获单元可以以任何其它合适或期望的方式提供。例如，可以如美国专利申请公开第2014/0227776号或美国专利第8,879,064号中描述的提供样本捕获单元504(涉及等同于作为“气溶胶收集器210”的样本捕获单元504的结构)，所述公开和专利中的每一个通过全文引用的方式并入本文中。
参考图6，根据本公开的另一示例实施例，目标支撑件106可以以类似于参考图2到图5描述的方式提供。为了简洁起见，仅应讨论图6所示实施例独有的特征。在图6所示的实施例中，目标支撑件106可以包含插置在支撑架202与支撑平台204之间的平台***物600。支撑平台204可以被配置成可***到平台***物600的中心开口中，并且平台***物600可以被配置成可相对容易地***到支撑架202的中心开口中。
第一和第三调整机构300a和300c的螺纹孔306可以分别通过上述支架308耦接到平台***物600。第二调整机构300b的螺纹孔306可以嵌入在平台***物600内。
平台***物600可以进一步包含一组凹部，如凹部602，所述凹部形成于其外侧表面中并且部分延伸穿过平台***物600。如弹簧加载球形柱塞604等装置可以***到每个凹部602中。当平台***物600被***到支撑架202的中心开口中时，柱塞604可以压靠在限定其中心开口的支撑架202的内表面上并且可以使平台***物600偏置抵靠在支撑架202上。
在一个实施例中，即使在旋转平台调整旋钮108中的一个或多个(如上所述)以调整支撑平台204的朝向和/或位置的情况下，柱塞604也可以以足够保持平台***物600的力使平台***物600偏置抵靠在支撑架202上。在这种情况下，如上所述，当旋转平台调整旋钮108中的一个或多个时，可以相对于平台***物600(以及因此相对于支撑架202)对支撑平台204的朝向和/或位置进行调整。
本领域技术人员将理解，一般而言，本文中所使用的术语通常旨在是“开放性的”术语(例如，术语“包含”应当被解释为“包含但不限于”，术语“具有”应当被解释为“具有至少”，术语“包含”应当被解释为“包含但不限于”等)。本领域的技术人员将进一步理解，如果意指特定数目的一种所引入的权利要求陈述，那么将在所述权利要求中明确陈述这种意图，并且在无这类陈述的存在下，不呈现这种意图。例如，为了帮助理解，以下所附权利要求可能含有引入性短语“至少一个”和“一个或多个”的使用来引入权利要求陈述。然而，这些短语的使用不应当解释为暗示由不定冠词“一个”或“一种”引入的权利要求陈述将包含此类引入性权利要求陈述的任意特定权利要求限制为仅包含一个此类陈述的公开，即使当相同的权利要求包含所述引入性短语“一个或多个”或“至少一个”以及不定冠词如“一个”或“一种”(例如，“一个”和/或“一种”应该通常被解释为意为“至少一个”或“一个或多个”)；这对用于引入权利要求陈述的定冠词的使用同样适用。
另外，即使明确陈述了所引入的权利要求陈述的特定数目，本领域技术人员将认识到此陈述通常应当解释为意指至少所陈述的数目(例如，在无其它修饰语的情况下仅陈述“两个陈述”意味着至少两个陈述，或两个或更多个陈述)。此外，在使用类似于“A、B和C中的至少一项等等”的惯例的情况下，通常，这种构造旨在本领域的技术人员应理解所述惯例的意义上(例如，“一个***具有A、B和C中的至少一项”将包含但是不限于***具有单独的A、单独的B、单独的C、A与B一起、A与C一起、B与C一起、和/或A、B和C三者一起，等等)。
在使用类似于“A、B或C中的至少一项等等”的惯例的情况中，通常，这种构造旨在本领域技术人员应当理解所述惯例的意义上(例如，“一个***具有A、B或C中的至少一项”将包含但是不限于***单独具有单独的A、单独的B、单独的C、A与B一起、A与C一起、B与C一起、和/或A、B和C三者一起，等等)。本领域的普通技术人员将进一步理解的是无论是在说明书、权利要求书还是附图中，呈现两个或更多个替代性术语的几乎任何分隔性词语和/或短语都应当理解为考虑到了包含这些术语中的一者、这些术语中的任一者或这两个术语的可能性。例如，短语“A或B”应理解为包含“A”或“B”或“A和B”的可能性。
尽管已经展示了本公开的特定实施例，但明显的是，在不脱离上述公开的范围和精神的情况下，本领域的技术人员可以做出本公开的各种修改和实施例。因此，本公开的范围应仅受限于其所附权利要求书。

Claims (20)

1.一种目标支撑件，所述目标支撑件被配置成可调整地支撑样本腔内的目标，所述目标支撑件包括：
支撑架，所述支撑架被配置成***到所述样本腔中；
支撑平台，所述支撑平台安置在所述支撑架内；以及
平台调整***，所述平台调整***耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
2.根据权利要求1所述的目标支撑件，其中被配置成调整所述支撑平台的所述位置和所述朝向中的至少一个的所述平台调整***进一步包括：沿x轴调整所述支撑平台、沿y轴调整所述支撑平台以及沿z轴调整所述支撑平台。
3.根据权利要求1所述的目标支撑件，其中所述平台调整***进一步包括：
一个或多个调整杆，所述一个或多个调整杆安置在一个或多个平台调整旋钮与一个或多个螺钉的第一端部之间，所述一个或多个平台调整旋钮可旋转以接合所述一个或多个螺钉；
一个或多个螺纹孔，所述一个或多个螺纹孔被配置成接合所述一个或多个螺钉的螺纹，所述一个或多个螺纹孔通过支架耦接到所述支撑架；
一个或多个尖端部分，所述一个或多个尖端部分连接到所述一个或多个螺钉的对应第二端部，所述一个或多个尖端部分被配置成当所述一个或多个螺钉相对于所述一个或多个螺纹孔旋转时沿x轴移位；以及
一个或多个楔形物，所述一个或多个楔形物固定到所述支撑平台的下表面，其中所述一个或多个楔形物包括：相对薄的端部、相对厚的端部以及从所述相对薄的端部延伸到所述相对厚的端部的倾斜表面，所述一个或多个楔形物被配置成改变所述支撑平台相对于所述支撑架的位置。
4.根据权利要求2所述的目标支撑件，其中所述一个或多个楔形物包括凹槽，所述凹槽设置在所述倾斜表面上并且被配置成***述一个或多个尖端部分的一部分。
5.根据权利要求1所述的目标支撑件，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成相对于引导到所述样本腔中的聚焦激光脉冲束的焦深而调整所述支撑平台的一个或多个区域的位置。
6.根据权利要求1所述的目标支撑件，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成在所述平台调整旋钮每完整旋转一次沿所述z轴按1μm到1mm的范围调整所述支撑平台的位置。
7.根据权利要求1所述的目标支撑件，其中所述目标支撑件进一步包括轨道和凹槽***，所述轨道和凹槽***被配置成部分限制所述支撑平台沿由所述x轴和所述y轴限定的平面移动。
8.一种方法，其包括：
对目标支撑件进行调整，所述目标支撑件被配置成支撑样本腔内的目标，所述目标支撑件包括：
支撑架，所述支撑架被配置成***到所述样本腔中；
支撑平台，所述支撑平台安置在所述支撑架内；以及
平台调整***，所述平台调整***耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
9.根据权利要求8所述的方法，其进一步包括：沿x轴调整所述支撑平台、沿y轴调整所述支撑平台以及沿z轴调整所述支撑平台。
10.根据权利要求8所述的方法，其中所述平台调整***进一步包括：
一个或多个调整杆，所述一个或多个调整杆安置在一个或多个平台调整旋钮与一个或多个螺钉的第一端部之间，所述一个或多个平台调整旋钮可旋转以接合所述一个或多个螺钉；
一个或多个螺纹孔，所述一个或多个螺纹孔被配置成接合所述一个或多个螺钉的螺纹，所述一个或多个螺纹孔通过支架耦接到所述支撑架；
一个或多个尖端部分，所述一个或多个尖端部分连接到所述一个或多个螺钉的对应第二端部，所述一个或多个尖端部分被配置成当所述一个或多个螺钉相对于所述一个或多个螺纹孔旋转时沿x轴移位；以及
一个或多个楔形物，所述一个或多个楔形物固定到所述支撑平台的下表面，其中所述一个或多个楔形物包括：相对薄的端部、相对厚的端部以及从所述相对薄的端部延伸到所述相对厚的端部的倾斜表面，所述一个或多个楔形物被配置成改变所述支撑平台相对于所述支撑架的位置。
11.根据权利要求10所述的方法，其中所述一个或多个楔形物包括凹槽，所述凹槽设置在所述倾斜表面上并且被配置成***述一个或多个尖端部分的一部分。
12.根据权利要求8所述的方法，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成相对于引导到所述样本腔中的聚焦激光脉冲束的焦深而调整所述支撑平台的一个或多个区域的位置。
13.根据权利要求8所述的方法，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成在所述平台调整旋钮每完整旋转一次沿所述z轴按1μm到1mm的范围调整所述支撑平台的位置。
14.根据权利要求8所述的方法，其中所述目标支撑件进一步包括轨道和凹槽***，所述轨道和凹槽***被配置成部分限制所述支撑平台沿由所述x轴和所述y轴限定的平面移动。
15.一种样本腔，所述样本腔被配置成容纳目标，所述样本腔包括：
样本腔主体；
传输窗；
样本捕获单元；以及
目标支撑件，所述目标支撑件被配置成可调整地支撑所述样本腔内的所述目标，其中所述目标支撑件包括：
支撑架，所述支撑架被配置成***到所述样本腔中；
支撑平台，所述支撑平台安置在所述支撑架内；以及
平台调整***，所述平台调整***耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整***被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被***到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。
16.根据权利要求15所述的样本腔，其中被配置成调整所述支撑平台的所述位置和所述朝向中的至少一个的所述平台调整***进一步包括：沿x轴调整所述支撑平台、沿y轴调整所述支撑平台以及沿z轴调整所述支撑平台。
17.根据权利要求15所述的样本腔，其中所述平台调整***进一步包括：
一个或多个调整杆，所述一个或多个调整杆安置在一个或多个平台调整旋钮与一个或多个螺钉的第一端部之间，所述一个或多个平台调整旋钮可旋转以接合所述一个或多个螺钉；
一个或多个螺纹孔，所述一个或多个螺纹孔被配置成接合所述一个或多个螺钉的螺纹，所述一个或多个螺纹孔通过支架耦接到所述支撑架；
一个或多个尖端部分，所述一个或多个尖端部分连接到所述一个或多个螺钉的对应第二端部，所述一个或多个尖端部分被配置成当所述一个或多个螺钉相对于所述一个或多个螺纹孔旋转时沿x轴移位；以及
一个或多个楔形物，所述一个或多个楔形物固定到所述支撑平台的下表面，其中所述一个或多个楔形物包括：相对薄的端部、相对厚的端部以及从所述相对薄的端部延伸到所述相对厚的端部的倾斜表面，所述一个或多个楔形物被配置成改变所述支撑平台相对于所述支撑架的位置。
18.根据权利要求15所述的样本腔，其中所述一个或多个楔形物包括凹槽，所述凹槽设置在所述倾斜表面上并且被配置成***述一个或多个尖端部分的一部分。
19.根据权利要求15所述的样本腔，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成相对于引导到所述样本腔中的聚焦激光脉冲束的焦深而调整所述支撑平台的一个或多个区域的位置。
20.根据权利要求15所述的样本腔，其中所述一个或多个螺钉的螺距和螺旋角、所述一个或多个螺纹孔的螺距和螺旋角以及所述一个或多个楔形物的所述倾斜表面的斜率被配置成在所述平台调整旋钮每完整旋转一次沿所述z轴按1μm到1mm的范围调整所述支撑平台的位置。
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