CN110621116A - 一种封装基板的制作方法 - Google Patents

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王健
杨洁
孙彬
沈洪
李晓华
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Abstract

本发明涉及一种封装基板的制作方法,属于线路板技术领域。在金属层的一面上,通过印刷等方法,形成一层绝缘树脂层增强金属层;在金属层上进行涂布光刻胶层,然后进行曝光、显影、蚀刻、退膜等一系列加工,去除多余的金属层,形成所需线路;然后,在线路的除器件区域及连接区域外的其他位置上形成一层阻焊剂层。相较于以往的封装基板的制造,所使用的基材发生了改变,使用绝缘树脂代替,降低了基材的厚度,减小金属层的宽幅,从而减小产品的金属边框,实现线路板轻薄化的要求;直接在金属层上设置绝缘树脂然后进行加工形成线路,使用薄的金属层,薄的金属层更利于线路的形成,加工线宽线距更小的线路,所以能实现线路的精细化。

Description

一种封装基板的制作方法
技术领域
本发明涉及一种封装基板的制作方法,属于线路板技术领域。
背景技术
随着近年来电子行业的飞速发展,电子设备变得更短、更小、更轻、更薄,相对应的,线路板也被要求更加轻薄,线路也要求更加精细。在COF的生产制造中,通常采用由金属层和绝缘薄膜层构成的基材,在基材的金属层上通过涂布光刻胶、曝光、显影、蚀刻等加工,形成所需线路,然后在线路的所需部位通过印刷等方式形成阻焊剂层,对线路起保护和增强作用。基材的金属层厚度通常为8~20µm,绝缘薄膜层厚度通常为35µm,基材整体厚度在45µm左右,宽度通常是158mm;后期线路上的保护层厚度通常在10µm,所以最后的成品厚度约为55µm,无法满足线路板轻薄化、小巧化的需求。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足之处,本发明提供一种封装基板的制作方法,直接在金属层上设置绝缘树脂然后加工形成线路,使用薄的金属层更利于线路的形成,加工线宽线距更小的线路,实现线路的精细化。
本发明是通过如下技术方案实现的:一种封装基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:
步骤A:准备基材金属层;
步骤B:在金属层的一面上,设置一层绝缘树脂;
步骤C:在金属层上进行光刻胶涂布,生成一层光刻胶薄膜;
步骤D:通过曝光干板的部分遮挡,对光刻胶薄膜进行照射曝光,改变光照部位的光刻胶性质;
步骤E:将曝光后的产品浸泡药液中,对曝光后的光刻胶薄膜进行显影,除去曝光部位的光刻胶,留下所需图案部位光刻胶图案;
步骤F:对显影后的产品进行处理,蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层;
步骤G:将产品浸泡在药液中,使残留的光刻胶薄膜膨胀剥离,得到所需的线路图案;
步骤H:在金属层上设置一层阻焊剂层;
步骤I:在电子器件搭载区域安装IC等电子器件,将安装了IC等器件的产品从卷带上冲切,得到单个的COF产品。
所述的金属层为导电性金属。
所述的导电性金属为铜。
所述的步骤D通过使用紫外光对光刻胶薄膜进行照射曝光。
所述的步骤E将曝光后的产品,浸泡在氢氧化钠溶液组成的药液中,对曝光后的光刻胶薄膜进行显影,除去曝光部位的光刻胶。
所述的步骤F使用氯化铜溶液蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层。
所述的步骤G将产品浸泡在氢氧化钠溶液中剥离光刻胶薄膜,得到所需的线路图案。
所述的步骤H通过印刷的方式在在金属层上设置一层阻焊剂层。
本发明的有益效果是:相较于以往的封装基板的制造,所使用的基材发生了改变,取消了原基材的绝缘薄膜,使用绝缘树脂代替,降低了基材的厚度,同时,减小了金属层的宽幅,从而减小了产品的金属边框,所以实现了线路板轻薄化的要求;因为是直接在金属层上设置绝缘树脂然后进行加工形成线路,所以可以使用薄的金属层,薄的金属层更利于线路的形成,可以加工线宽线距更小的线路,所以能实现线路的精细化。
附图说明
下面根据附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明封装基板制作方法的流程图。
图中:1、金属层,2、绝缘树脂,3、光刻胶薄膜,4、阻焊剂层。
具体实施方式
如图1所示的一种封装基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:
步骤A:准备一卷厚度为8µm、宽度130mm的基材金属层1;
步骤B:在金属层1的一面上,设置一层绝缘树脂2,绝缘树脂2的厚度为10µm,宽度为158mm;
步骤C:在金属层1上进行光刻胶涂布,生成一层光刻胶薄膜3;
步骤D:通过曝光干板的部分遮挡,对光刻胶薄膜3进行照射曝光,改变光照部位的光刻胶性质;
步骤E:将曝光后的产品浸泡药液中,对曝光后的光刻胶薄膜3进行显影,除去曝光部位的光刻胶,留下所需图案部位光刻胶图案;
步骤F:对显影后的产品进行处理,蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层1;
步骤G:将产品浸泡在药液中,使残留的光刻胶薄膜3膨胀剥离,得到所需的线路图案;
步骤H:在金属层1上设置一层阻焊剂层4;
步骤I:在电子器件搭载区域安装IC等电子器件,将安装了IC等器件的产品从卷带上冲切,得到单个的COF产品,连接在其他电路板上用于电器产品组装。
所述的金属层1为导电性金属。
所述的导电性金属为铜。
所述的步骤D通过使用紫外光对光刻胶薄膜3进行照射曝光。
所述的步骤E将曝光后的产品,浸泡在氢氧化钠溶液组成的药液中,对曝光后的光刻胶薄膜3进行显影,除去曝光部位的光刻胶。
所述的步骤F使用氯化铜溶液蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层1。
所述的步骤G将产品浸泡在氢氧化钠溶液中剥离光刻胶薄膜3,得到所需的线路图案。
所述的步骤H通过印刷的方式在在金属层1上设置一层阻焊剂层4用于加强产品及保护线路。
相较于以往的封装基板的制造,所使用的基材发生了改变,取消了原基材的绝缘薄膜,使用绝缘树脂代替,降低了基材的厚度,同时,减小了金属层的宽幅,从而减小了产品的金属边框,所以实现了线路板轻薄化的要求;因为是直接在金属层上设置绝缘树脂然后进行加工形成线路,所以可以使用薄的金属层,薄的金属层更利于线路的形成,可以加工线宽线距更小的线路,所以能实现线路的精细化。

Claims (8)

1.一种封装基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:
步骤A:准备基材金属层(1);
步骤B:在金属层(1)的一面上,设置一层绝缘树脂(2);
步骤C:在金属层(1)上进行光刻胶涂布,生成一层光刻胶薄膜(3);
步骤D:通过曝光干板的部分遮挡,对光刻胶薄膜(3)进行照射曝光,改变光照部位的光刻胶性质;
步骤E:将曝光后的产品浸泡药液中,对曝光后的光刻胶薄膜(3)进行显影,除去曝光部位的光刻胶,留下所需图案部位光刻胶图案;
步骤F:对显影后的产品进行处理,蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层(1);
步骤G:将产品浸泡在药液中,使残留的光刻胶薄膜(3)膨胀剥离,得到所需的线路图案;
步骤H:在金属层(1)上设置一层阻焊剂层(4);
步骤I:在电子器件搭载区域安装IC等电子器件,将安装了IC等器件的产品从卷带上冲切,得到单个的COF产品。
2.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的金属层(1)为导电性金属。
3.根据权利要求2所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的导电性金属为铜。
4.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的步骤D通过使用紫外光对光刻胶薄膜(3)进行照射曝光。
5.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的步骤E将曝光后的产品,浸泡在氢氧化钠溶液组成的药液中,对曝光后的光刻胶薄膜(3)进行显影,除去曝光部位的光刻胶。
6.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的步骤F使用氯化铜溶液蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层(1)。
7.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的步骤G将产品浸泡在氢氧化钠溶液中剥离光刻胶薄膜(3),得到所需的线路图案。
8.根据权利要求1所述的一种封装基板的制作方法,其特征在于:所述的步骤H通过印刷的方式在在金属层(1)上设置一层阻焊剂层(4)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2022000478A1 (zh) * 2020-07-03 2022-01-06 欧菲光集团股份有限公司 线路板制作方法及线路板

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