CN110462513A - 感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机el显示装置、固化膜的制造方法及有机el显示装置的制造方法 - Google Patents

感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机el显示装置、固化膜的制造方法及有机el显示装置的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110462513A
CN110462513A CN201880019517.1A CN201880019517A CN110462513A CN 110462513 A CN110462513 A CN 110462513A CN 201880019517 A CN201880019517 A CN 201880019517A CN 110462513 A CN110462513 A CN 110462513A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
methyl
cured film
polymer combination
photosensitive polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201880019517.1A
Other languages
English (en)
Inventor
龟本聪
谷垣勇刚
三好一登
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Publication of CN110462513A publication Critical patent/CN110462513A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonamides, polyesteramides or polyimides
    • C08F283/045—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonamides, polyesteramides or polyimides on to unsaturated polycarbonamides, polyesteramides or polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonamides, polyesteramides or polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02—Elements
    • C08K3/04—Carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L57/00—Compositions of unspecified polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/16—Applications used for films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/126—Shielding, e.g. light-blocking means over the TFTs

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明提供具有遮光性、同时敏感度高、半色调特性优异的感光性树脂组合物。本发明为感光性树脂组合物，其含有(A)碱溶性树脂、(B)自由基聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)着色剂，上述(A)碱溶性树脂含有聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物，上述(B)自由基聚合性化合物含有(B‑1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物、及(B‑2)除(B‑1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物。

Description

感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜 的有机EL显示装置、固化膜的制造方法及有机EL显示装置的 制造方法
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物及使用其的固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机EL显示装置、固化膜的制造方法及有机EL显示装置的制造方法。
背景技术
近年来，在智能手机、平板电脑及电视机等具有薄型显示器的显示装置中，使用了有机电致发光(以下记为“EL”)显示装置的制品被大量开发出来。
有机EL发光元件通过在相对的第一电极与第二电极之间施加电压或者通过使电流流动从而进行工作。此时，电场容易集中于曲率半径小的电极的边缘部分，因此，在边缘部分容易发生绝缘破坏、漏电流的发生等不理想的现象。
通常，为了将发光元件的像素间分割，有机EL显示装置中形成像素分割层这样的绝缘层。在形成像素分割层后，在像素分割层开口而露出了作为基底的第一电极的区域(其相当于像素区域)中形成发光层。在发光层上以膜状形成第二电极，为了防止经成膜的透明电极或金属电极断线，对于像素分割层要求低锥度的图案形状。
另外，形成发光层时，使蒸镀掩模与像素分割层接触而进行蒸镀，但若像素分割层与蒸镀掩模的接触面积大，则成为面板的成品率降低(其是因颗粒产生而导致的)的主要原因。另外，像素分割层会因蒸镀掩模的附着物而损伤，水分侵入，由此成为发光元件劣化的主要原因。因此，为了减小像素分割层的接触面积，可举出将像素分割层分为二层来成膜、并减小第二层的尺寸宽度的方法，但工序变得繁杂，因而，存在成为工艺时间增加或面板的成品率降低的主要原因的课题。作为解决这些课题的方法，可举出使用半色调光掩模作为光掩模来形成图案的方法(例如，参见专利文献1)。其为下述方法：以单层成膜的方式来形成具有阶差形状的像素分割层，由此可在不增加工艺时间的情况下减少与蒸镀掩模的接触面积。作为具有阶差形状的像素分割层的单层成膜，通常使用含有萘醌二叠氮化合物的正型感光性树脂组合物(例如参见专利文献2)。
另一方面，出于提高有机EL显示装置的对比度的目的，尝试了使像素分割层具有遮光性，提出了含有遮光性着色剂的正型着色感光性树脂组合物(例如参见专利文献3)。为了赋予用于提高对比度所必需的遮光性，组合物中需要使用大量的着色剂，由于曝光的放射线被着色剂吸收，因而在膜的底部几乎没有发生对于图案形成而言所必需的光反应，因此，存在敏感度大幅下降这样的课题。
与此相对，就液晶显示装置的黑色矩阵等中使用的负型感光性树脂组合物而言，其为通过放射线照射而产生的自由基发生链式反应从而使得曝光部不溶解的方式，因此，即使是使用了着色剂的组成，也能够以较之正型而言相对高的敏感度形成图案。作为含着色剂的负型感光性树脂组合物，提出使用了丙烯酸树脂、Cardo树脂的组合物(例如参见专利文献4)。近年来，提出了含着色剂的负型感光性树脂组合物，其用于形成使液晶显示装置的柱状间隔物具有遮光性的所谓黑色柱状间隔物，通过使用了半色调光掩模的加工，能够形成高度不同的间隔物(例如参见专利文献5)。
然而，就这些以往已知的含着色剂的负型感光性树脂组合物而言，即使使用半色调光掩模来形成在显影后具有阶差形状的图案，加热处理时形状也会变化，存在无法得到具有所期望的阶差形状的固化膜这样的课题。
因此，要求具有遮光性、同时敏感度高、可通过使用了半色调光掩模的一次性工艺形成具有阶差形状的图案这样的特性(以下，记为“半色调特性”)优异的感光性树脂组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-322564号公报(权利要求1～9)
专利文献2：日本特开2007-294118号公报(权利要求5)
专利文献3：日本特表2013-533508号公报(权利要求1～19)
专利文献4：国际公开第2008/032675号(权利要求1～8)
专利文献5：日本特开2016-177190号公报(权利要求1～9)
发明内容
发明要解决的课题
因此，本发明的目的在于提供具有遮光性、同时敏感度高、半色调特性优异的感光性树脂组合物。
另外，作为另一课题，以往已知的负型感光性树脂组合物难以形成具有阶差形状的像素分割层，因而，有时因蒸镀掩模与像素分割层的接触而使得发光元件的可靠性下降。
因此，本发明的目的在于提供具有像素分割层(其具有在厚膜部和薄膜部存在充分的膜厚差的阶差形状)、且发光元件的可靠性优异的有机EL显示装置。
此外，作为另一课题，使用以往已知的负型感光性树脂组合物来形成具有阶差形状的像素分割层时，有时需要繁杂的工序。
因此，本发明的目的在于提供通过使用了半色调光掩模的一次性工艺来形成具有阶差形状的固化膜的方法及使用其的有机EL显示装置的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明的感光性树脂组合物为含有(A)碱溶性树脂、(B)自由基聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)着色剂的感光性树脂组合物，上述(A)碱溶性树脂含有聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物，上述(B)自由基聚合性化合物含有：(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物；及(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物。
发明的效果
本发明的感光性树脂组合物能够提供具有遮光性、同时敏感度高、半色调特性优异的感光性树脂组合物。另外，通过使用上述感光性树脂组合物，能够形成具有在厚膜部和薄膜部存在充分的膜厚差的阶差形状的固化膜，因此，能够提高发光元件的可靠性。此外，通过使用上述树脂组合物，从而能够通过使用了半色调光掩模的一次性工艺来形成具有阶差形状的固化膜，因此，能够缩短工艺时间。
附图说明
[图1]为示出具有阶差形状的固化图案的截面的一例的截面图。
[图2]为形成有平坦化层和像素分割层的TFT基板的截面图。
[图3]为示出半色调光掩模的一例的概略图。
[图4]为示出绝缘层的截面的一例的截面图。
[图5]为示出具有阶差形状的固化图案的截面的一例的SEM照片。
[图6]为示出丧失阶差形状的固化图案的截面的一例的SEM照片。
[图7]为发光特性评价中使用的有机EL显示装置的概略图。
具体实施方式
对本发明的实施方式详细地进行说明。
本发明的感光性树脂组合物为含有(A)碱溶性树脂、(B)自由基聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)着色剂的感光性树脂组合物，上述(A)碱溶性树脂含有聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物，上述(B)自由基聚合性化合物含有：(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物；及(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物。
本发明的感光性树脂组合物含有(A)碱溶性树脂。本发明中的碱溶性是指：在硅晶片上涂布将树脂溶解于γ-丁内酯而得到的溶液，于120℃进行预烘烤4分钟，形成膜厚为10μm±0.5μm的预烘烤膜，将该预烘烤膜在23±1℃的2.38质量％四甲基氢氧化铵水溶液中浸渍1分钟，然后用纯水进行漂洗处理，根据此时的膜厚减少而求出的溶解速度为50nm/分钟以上。
作为(A)碱溶性树脂，可举出聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、聚氨基酰胺、聚酰胺、丙烯酸树脂等自由基聚合性单体的聚合物、硅氧烷树脂、Cardo树脂等，但并不限定于这些。可以含有两种以上的这些树脂。也可以为这些树脂的共聚物。
这些碱溶性树脂中，优选耐热性优异、高温下的逸气量少的碱溶性树脂。具体而言，优选聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物。即，本发明的(A)碱溶性树脂含有聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物。
就能够用作本发明的(A)碱溶性树脂的聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、及聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物而言，为了赋予上述碱溶性，优选在树脂的结构单元中及/或其主链末端具有酸性基团。作为酸性基团，例如，可举出羧基、酚式羟基、磺酸基、硫醇基等。
另外，上述碱溶性树脂优选具有氟原子，在用碱性水溶液进行显影时，能够向膜与基材的界面赋予防水性，抑制碱性水溶液向界面的渗入。从防止碱性水溶液向界面的渗入的效果的观点考虑，上述碱溶性树脂的氟原子含量优选为5质量％以上，从在碱性水溶液中的溶解性的方面考虑，优选为20质量％以下。
上述聚酰亚胺优选具有下述通式(1)表示的结构单元，上述聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体优选具有下述通式(2)表示的结构单元。上述聚酰亚胺、聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体可以含有两种以上的这些结构单元。也可以使用将通式(1)表示的结构单元及通式(2)表示的结构单元共聚而得到的树脂作为上述碱溶性树脂。
[化学式1]
通式(1)中，R1表示4～10价有机基团，R2表示2～8价有机基团。R3及R4表示酚式羟基、羧基、磺酸基或硫醇基，可以各自为单一的基团，也可以混合存在不同的基团。p及q表示0～6的整数。
[化学式2]
通式(2)中，R5表示2～8价有机基团，R6表示2～8价有机基团。R7及R8表示酚式羟基、磺酸基、硫醇基、或COOR9，可以各自为单一的基团，也可以混合存在不同的基团。R9表示氢原子或碳原子数1～20的1价烃基。r及s表示0～6的整数。其中，r+s＞0。
聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、及聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物优选具有5～100,000个通式(1)表示的结构单元或通式(2)表示的结构单元。另外，聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、及聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物除了具有通式(1)或(2)表示的结构单元外，还可以具有其他结构单元。该情况下，优选全部结构单元数中具有50摩尔％以上的通式(1)表示的结构单元或通式(2)表示的结构单元。
上述通式(1)中，R1-(R3)p表示酸二酐的残基。R1为4价～10价有机基团，其中，含有芳香族环或环状脂肪族基团的碳原子数5～40的有机基团是优选的。
作为上述酸二酐，具体而言，可举出均苯四甲酸二酐、3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐、2，3，3’，4’-联苯四甲酸二酐、2，2’，3，3’-联苯四甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2，2’，3，3’-二苯甲酮四甲酸二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯基)丙烷二酐、2，2-双(2，3-二羧基苯基)丙烷二酐、1，1-双(3，4-二羧基苯基)乙烷二酐、1，1-双(2，3-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3，4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2，3-二羧基苯基)甲烷二酐、双(3，4-二羧基苯基)醚二酐、1，2，5，6-萘四甲酸二酐、9，9-双(3，4-二羧基苯基)芴酸二酐、9，9-双{4-(3，4-二羧基苯氧基)苯基}芴酸二酐、2，3，6，7-萘四甲酸二酐、2，3，5，6-吡啶四甲酸二酐、3，4，9，10-苝四甲酸二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、及下文中所示结构的酸二酐等芳香族四羧酸二酐、丁烷四甲酸二酐、1，2，3，4-环戊烷四甲酸二酐等脂肪族四羧酸二酐等。可以使用它们中的两种以上。
[化学式3]
R9表示氧原子、C(CF3)2、或C(CH3)2。R10、R11、R12及R13表示氢原子、或羟基。
上述通式(2)中、R5-(R7)r表示酸成分的残基。R5为2价～8价有机基团，其中，含有芳香族环或环状脂肪族基团的碳原子数5～40的有机基团是优选的。
关于上述酸成分，作为二羧酸的例子，可举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、二苯醚二甲酸、双(羧基苯基)六氟丙烷、联苯二甲酸、二苯甲酮二甲酸、三联苯二甲酸(triphenyldicarboxylic acid)等。作为三羧酸的例子，可举出偏苯三甲酸、均苯三甲酸、二苯醚三甲酸、联苯三甲酸等。作为四羧酸的例子，可举出均苯四甲酸、3，3’，4，4’-联苯四甲酸、2，3，3’，4’-联苯四甲酸、2，2’，3，3’-联苯四甲酸、3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸、2，2’，3，3’-二苯甲酮四甲酸、2，2-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷、2，2-双(2，3-二羧基苯基)六氟丙烷、1，1-双(3，4-二羧基苯基)乙烷、1，1-双(2，3-二羧基苯基)乙烷、双(3，4-二羧基苯基)甲烷、双(2，3-二羧基苯基)甲烷、双(3，4-二羧基苯基)醚、1，2，5，6-萘四甲酸、2，3，6，7-萘四甲酸、2，3，5，6-吡啶四甲酸、3，4，9，10-苝四甲酸、及下文中所示结构的四羧酸等芳香族四羧酸、丁烷四甲酸、1，2，3，4-环戊烷四甲酸等脂肪族四羧酸等。可以使用它们中的两种以上。
[化学式4]
R9表示氧原子、C(CF3)2、或C(CH3)2。R10、R11、R12及R13表示氢原子、或羟基。
这些酸成分中，对于三羧酸、四羧酸而言，1个或2个羧基相当于通式(2)中的R7基。另外，更优选为用通式(2)中的R7基(优选酚式羟基)取代上文例举的二羧酸、三羧酸、四羧酸中的1～4个氢原子而得到的产物。这些酸可直接使用，或者以酸酐、活性酯的形式使用。
上述通式(1)的R2-(R4)q及上述通式(2)的R6-(R8)s表示二胺的残基。R2及R8为2～8价有机基团，其中，含有芳香族环或环状脂肪族基团的碳原子数5～40的有机基团是优选的。
作为二胺的具体例，可举出3，4’-二氨基二苯基醚、4，4’-二氨基二苯基醚、3，4’-二氨基二苯基甲烷、4，4’-二氨基二苯基甲烷、1，4-双(4-氨基苯氧基)苯、联苯胺、间苯二胺、对苯二胺、1，5-萘二胺、2，6-萘二胺、双(4-氨基苯氧基)联苯、双{4-(4-氨基苯氧基)苯基}醚、1，4-双(4-氨基苯氧基)苯、2，2’-二甲基-4，4’-二氨基联苯、2，2’-二乙基-4，4’-二氨基联苯、3，3’-二甲基-4，4’-二氨基联苯、3，3’-二乙基-4，4’-二氨基联苯、2，2’，3，3’-四甲基-4，4’-二氨基联苯、3，3’，4，4’-四甲基-4，4’-二氨基联苯、2，2’-二(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯、9，9-双(4-氨基苯基)芴或者用烷基及/或卤素原子取代它们的芳香族环中的至少一部分氢原子而得到的化合物、脂肪族的环己基二胺、亚甲基双环己基胺及下文所示结构的二胺等。可以使用它们中的两种以上。
[化学式5]
R14及R17表示氧原子、C(CF3)2或C(CH3)2。R15、R16、及R18～R28各自独立地表示氢原子或羟基。
这些二胺可以以二胺的形式使用，或者以对应的二异氰酸酯化合物、三甲基甲硅烷基化二胺的形式使用。
另外，通过利用具有酸性基团的单胺、酸酐、单羧酸酰氯、单活性酯将这些树脂的末端进行封端，从而能够得到在主链末端具有酸性基团的树脂。
作为具有酸性基团的单胺的优选例，可举出5-氨基-8-羟基喹啉、1-羟基-7-氨基萘、1-羟基-6-氨基萘、1-羟基-5-氨基萘、1-羟基-4-氨基萘、2-羟基-7-氨基萘、2-羟基-6-氨基萘、2-羟基-5-氨基萘、1-羧基-7-氨基萘、1-羧基-6-氨基萘、1-羧基-5-氨基萘、2-羧基-7-氨基萘、2-羧基-6-氨基萘、2-羧基-5-氨基萘、2-氨基苯甲酸、3-氨基苯甲酸、4-氨基苯甲酸、4-氨基水杨酸、5-氨基水杨酸、6-氨基水杨酸、3-氨基-4，6-二羟基嘧啶、2-氨基苯酚、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、2-氨基苯硫酚、3-氨基苯硫酚、4-氨基苯硫酚等。可以使用它们中的两种以上。
作为酸酐、酰氯、单羧酸的优选例，可举出：邻苯二甲酸酐、马来酸酐、纳迪克酸酐(nadic anhydride)、环己烷二甲酸酐、3-羟基邻苯二甲酸酐等酸酐；3-羧基苯酚、4-羧基苯酚、3-羧基苯硫酚、4-羧基苯硫酚、1-羟基-7-羧基萘、1-羟基-6-羧基萘、1-羟基-5-羧基萘、1-巯基-7-羧基萘、1-巯基-6-羧基萘、1-巯基-5-羧基萘等单羧酸及它们的羧基发生了酰氯化而成的单酰氯；对苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸、环己烷二甲酸、1，5-二羧基萘、1，6-二羧基萘、1，7-二羧基萘、2，6-二羧基萘等二羧酸类的仅1个羧基发生了酰氯化而成的单酰氯；通过N-羟基苯并***或N-羟基-5-降冰片烯-2，3-二羧基酰亚胺与单酰氯的反应而得到的单活性酯。可以使用它们中的两种以上。
就上述的单胺、酸酐、单羧酸、单酰氯、单活性酯等封端剂的含量而言，相对于构成树脂的酸成分及胺成分的总和100摩尔％，优选为2～25摩尔％。
已被导入至树脂中的封端剂可利用以下的方法容易地检测。例如，将导入了封端剂的树脂溶解于酸性溶液中，将其分解成作为树脂的结构单元的胺成分和酸成分，利用气相色谱法(GC)、NMR对其进行测定，由此，可容易地检测到封端剂。另外，可通过对导入了封端剂的树脂直接进行热解气相色谱(PGC)、红外光谱及13C-NMR波谱测定而进行检测。
本发明中使用的(A)碱溶性树脂可利用已知的方法合成。
聚酰亚胺前体的情况下，作为制造方法，例如可利用下述方法进行合成：在低温下使四羧酸二酐与二胺化合物反应的方法；利用四羧酸二酐和醇得到二酯，然后在胺和缩合剂的存在下进行反应的方法；利用四羧酸二酐和醇得到二酯，然后将残留的二羧酸进行酰氯化，与胺进行反应的方法；等等。
聚苯并噁唑前体的情况下，作为制造方法，例如可通过使双氨基酚化合物与二羧酸进行缩合反应而得到。具体而言，包括下述方法：使二环己基碳二亚胺(DCC)这样的脱水缩合剂与酸反应，然后向其中加入双氨基酚化合物的方法；向添加了吡啶等叔胺的双氨基酚化合物的溶液中滴加二羧酸酰氯(dicarboxylic acid dichloride)的溶液的方法；等等。
聚酰亚胺的情况下，作为制造方法，例如可通过下述方式得到：利用加热或酸、碱等的化学处理，将利用上述方法得到的聚酰亚胺前体进行脱水闭环。
本发明的感光性树脂组合物可以在不损害固化膜的耐热性的范围内含有除聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物以外的碱溶性树脂。
作为除聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物以外的碱溶性树脂的例子，可举出丙烯酸树脂等自由基聚合性单体的聚合物、硅氧烷树脂、Cardo树脂等。通过将选自这些树脂中的一种以上的碱溶性树脂与选自聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物中的一种以上的碱溶性树脂并用，能够得到更低锥度的图案形状的固化膜。含有除聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物以外的碱溶性树脂的情况下，将(A)碱溶性树脂整体作为100质量份，其含有比例优选为5质量份以上，且优选为50质量份以下。通过使其为5质量份以上，可获得更低锥度化效果，通过使其为50质量份以下，可获得充分的耐热性。
本发明的感光性树脂组合物含有(B)自由基聚合性化合物。(B)自由基聚合性化合物在分子内具有不饱和键。作为不饱和键，例如，可举出乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等不饱和双键、炔丙基等不饱和三键等。这些中，丙烯酰基、甲基丙烯酰基从聚合性方面考虑是优选的。作为(B)自由基聚合性化合物，具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的多官能单体是优选的。以下，将具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物称为(甲基)丙烯酸类化合物。
就本发明的感光性树脂组合物而言，将(B)自由基聚合性化合物形成聚合物时的玻璃化转变温度优选为100℃以上，优选为110℃以上，更优选为120℃以上，尤其优选为130℃以上，最优选为140℃以上。通过使形成聚合物时的玻璃化转变温度为100℃以上，从而在显影后形成具有阶差形状的图案的情况下，能够抑制加热处理时的形状变化、图案流动，能够在加热处理后得到具有所期望的阶差形状的固化膜。
就本发明的感光性树脂组合物而言，将(B)自由基聚合性化合物形成聚合物时的玻璃化转变温度优选为250℃以下，更优选为230℃以下，进一步优选为200℃以下，尤其优选为180℃以下，最优选为160℃以下。通过使形成聚合物时的玻璃化转变温度为250℃以下，能够以更低锥度形成加热固化后的图案形状。
需要说明的是，将(B)自由基聚合性化合物形成聚合物时的玻璃化转变温度Tgp(K)可根据构成(B)自由基聚合性化合物的各单体的重量分数Wn及形成各单体的均聚物时的玻璃化转变温度Tgn(K)如下式那样求出。
1/Tgp＝∑(Wn/Tgn)
此处，就形成各单体的均聚物时的玻璃化转变温度Tgn(K)而言，在存在文献或厂商的目录值的情况下，采用该值，在不存在的情况下，采用按照JIS K7121：2012“塑料的转变温度测定方法”并利用差示扫描量热测定(DSC)测得的值。
本发明的感光性树脂组合物中，作为(B)自由基聚合性化合物，含有(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物、及(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物。
作为(B)自由基聚合性化合物，通过含有(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，从而在显影后形成具有阶差形状的图案的情况下，能够抑制加热处理时的形状变化、图案流动，能够在加热处理后得到具有所期望的阶差形状的固化膜。从能够抑制上述的加热处理时的形状变化、图案流动的方面考虑，(B-1)成分的玻璃化转变温度为150℃以上，优选为160℃以上，更优选为170℃以上，进一步优选为180℃以上，尤其优选为190℃以上。
另一方面，(B-1)成分的玻璃化转变温度优选为300℃以下，更优选为290℃以下，进一步优选为280℃以下，尤其优选为270℃以下。通过使(B-1)成分的玻璃化转变温度为300℃以下，从而能够以更低锥度形成加热固化后的图案形状。通过使(B-1)成分的官能团数为2以上，能够提高曝光时的敏感度，优选为6以下，更优选为5以下，进一步优选为4以下，尤其优选为3以下。通过使官能团数为6以下，从而能够以更低锥度形成加热固化后的图案形状。
作为(B)自由基聚合性化合物，通过含有(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，从而能够提高由曝光带来的光交联密度，由此能够实现高敏感度化，并且，通过与(B-1)成分并用，能够维持抑制加热处理时的形状变化、图案流动的效果，同时能够以低锥度形成加热固化后的图案形状。(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物的官能团为4以上，优选为5以上，更优选为6以上。通过使官能团数为4以上，从而能够实现高敏感度化。
另一方面，(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物的官能团优选为12以下，更优选为10以下，进一步优选为8以下。通过使官能团数为12以下，从而能够以更低锥度形成加热固化后的图案形状。
作为(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，从能够提高曝光时的敏感度的方面考虑，优选为含有脂环式结构的化合物。作为脂环式结构的优选例，可举出三环癸基、五环十五烷基、金刚烷基、羟基金刚烷基及异氰脲酸酯基。脂环式结构中，从疏水性高、能够进一步提高曝光时的敏感度、能够降低固化膜的吸水率的方面考虑，更优选仅由碳原子和氢原子构成的脂环式结构，作为优选例，可举出三环癸基、五环十五烷基、金刚烷基。
作为(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，从疏水性高、能够进一步提高曝光时的敏感度、能够降低固化膜的吸水率的方面考虑，更优选包含甲基丙烯酰基。
作为(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物的具体例，可举出二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二甲基丙烯酸酯、1，3-金刚烷二丙烯酸酯、1，3-金刚烷二甲基丙烯酸酯、1，3，5-金刚烷三丙烯酸酯、1，3，5-金刚烷三甲基丙烯酸酯、5-羟基-1，3-金刚烷二丙烯酸酯、5-羟基-1，3-金刚烷二甲基丙烯酸酯、五环十五烷二甲醇二丙烯酸酯、五环十五烷二甲醇二丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二甲基丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三丙烯酸酯或异氰脲酸环氧乙烷改性三甲基丙烯酸酯，但并不限定于这些。
作为(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，优选包含含有通式(3)表示的结构的(甲基)丙烯酸类化合物。
[化学式6]
通式(3)中，R29表示氢或碳原子数1～10的烃基。Z表示氧原子或N-R30中的任一者。R30表示氢原子或碳原子数1～10的烃基。a表示1～10的整数，b表示1～10的整数，c表示0或1，d表示1～4的整数，e表示0或1。c为0时，d为1。
作为(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物，通过含有通式(3)表示的结构，从而可使得曝光时的UV固化有效地进行，能够提高曝光时的敏感度。此外，在含有颜料作为后述的(D)着色剂的情况下，能够抑制来自颜料的显影后的残渣产生。上述高敏感度化或抑制残渣的效果被推测是由于：通式(3)表示的结构为脂肪族链且为柔软的结构，故分子间的烯键式不饱和双键基团彼此的碰撞概率变高，由此可促进UV固化，使得交联密度提高。
通式(3)中，Z为氧原子、b＝1、c＝1、e＝1的情况下，成为具有内酯改性链的(甲基)丙烯酸类化合物，Z为N-R30、b＝1、c＝1、e＝1的情况下，成为具有内酰胺改性链的(甲基)丙烯酸类化合物，Z为氧原子、c＝0、d＝0、e＝1的情况下，成为具有环氧烷改性链的(甲基)丙烯酸类化合物。这些化合物中，从除了上述的高敏感度化、残渣抑制以外还能够赋予抑制加热处理时的形状变化、图案流动的效果的方面考虑，优选为具有内酯改性链及/或内酰胺改性链的(甲基)丙烯酸类化合物。具有内酯改性链及/或内酰胺改性链的(甲基)丙烯酸类化合物发挥抑制加热处理时的形状变化、图案流动的效果的原因虽不明确，但推测除了曝光时的UV固化有效地进行这一情况有助于抑制流动以外，氢键在通式(3)式中的羰基与氧或氮原子之间发挥作用这一情况也有助于抑制流动。
关于(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物的具体例，作为含有通式(3)表示的结构的(甲基)丙烯酸类化合物，可举出以下的化合物，但并不限定于这些。作为具有内酯改性链的(甲基)丙烯酸酯化合物，可举出ε-己内酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、ε-己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、δ-戊内酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、δ-戊内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、γ-丁内酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、γ-丁内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或“KAYARAD”(注册商标)DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60或KAYARAD DPCA-120(以上均为日本化药(株)制)。
作为具有内酰胺改性链的(甲基)丙烯酸酯化合物，可举出ε-己内酰胺改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、ε-己内酰胺改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯，作为具有环氧烷改性链的(甲基)丙烯酸类化合物，可举出环氧乙烷改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、环氧丁烷改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、环氧丁烷改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、环氧丁烷改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性二羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性二羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、环氧丁烷改性二羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯。
作为含有通式(3)表示的结构的(甲基)丙烯酸类化合物以外的(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物的具体例，可举出季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯，但并不限定于这些。
作为(B)自由基聚合性化合物，可以含有除上述的(B-1)、(B-2)以外的自由基聚合性化合物，例如，可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1，9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、1，10-癸二醇二甲基丙烯酸酯。
相对于(A)碱溶性树脂100质量份而言，(B)自由基聚合性化合物的含量优选为10质量份以上，更优选为20质量份以上，进一步优选为30质量份以上，尤其优选为50质量份以上。另外，优选为300质量份以下，更优选为200质量份以下，进一步优选为150质量份以下，尤其优选为100质量份以下。通过使(B)自由基聚合性化合物的含量为10质量份以上，能够降低显影时的曝光部的膜减损，通过使(B)自由基聚合性化合物的含量为300质量份以下，能够提高固化膜的耐热性。
另外，(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物在(B)自由基聚合性化合物100质量份中所占的含量优选为20质量份以上，更优选为30质量份以上，进一步优选为40质量份以上。另外，优选为80质量份以下，更优选为70质量份以下，进一步优选为60质量份以下。通过使其为20质量份以上，从而在显影后形成具有阶差形状的图案的情况下，能够进一步提高抑制加热处理时的形状变化、图案流动的效果，加热固化后容易得到具有所期望的阶差形状的固化膜。另外，通过使其为80质量份以下，能够以更低锥度形成加热固化后的图案形状。
此外，(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物在(B)自由基聚合性化合物100质量份中所占的含量优选为20质量份以上，更优选为30质量份以上，进一步优选为40质量份以上。另外，优选为80质量份以下，更优选为70质量份以下，进一步优选为60质量份以下。通过使其为20质量份以上，从而可提高由曝光带来的光交联密度，由此能够进一步实现高敏感度化，并且，通过使其为80质量份以下，从而在显影后形成具有阶差形状的图案的情况下，能够进一步提高抑制加热处理时的形状变化、图案流动的效果。
本发明的感光性树脂组合物含有(C)光聚合引发剂。通过含有光聚合引发剂，从而使得前述的(B)自由基聚合性化合物的自由基聚合得以进行，使得树脂组合物膜的曝光部不溶于碱显影液中，由此能够形成负型的图案。另外，曝光时的UV固化被促进，能够提高敏感度。
作为(C)光聚合引发剂，例如，优选为苯偶酰缩酮系光聚合引发剂、α-羟基酮系光聚合引发剂、α-氨基酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、肟酯系光聚合引发剂、吖啶系光聚合引发剂、二茂钛系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、苯乙酮系光聚合引发剂、芳香族酮酯系光聚合引发剂或苯甲酸酯系光聚合引发剂，从提高曝光时的敏感度的观点考虑，更优选为α-羟基酮系光聚合引发剂、α-氨基酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、肟酯系光聚合引发剂、吖啶系光聚合引发剂或二苯甲酮系光聚合引发剂，进一步优选为α-氨基酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、肟酯系光聚合引发剂。
作为苯偶酰缩酮系光聚合引发剂，例如可举出2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮。
作为α-羟基酮系光聚合引发剂，例如可举出1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基甲酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮或2-羟基-1-[4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基]-2-甲基丙烷-1-酮。
作为α-氨基酮系光聚合引发剂，例如可举出2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮或3，6-双(2-甲基-2-吗啉代丙酰基)-9-辛基-9H-咔唑。
作为酰基氧化膦系光聚合引发剂，例如可举出2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦或双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-(2，4，4-三甲基戊基)氧化膦。
作为肟酯系光聚合引发剂，例如，可举出1-苯基丙烷-1，2-二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1-苯基丁烷-1，2-二酮-2-(O-甲氧基羰基)肟、1，3-二苯基丙烷-1，2，3-三酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1-[4-(苯硫基)苯基]辛烷-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰基)肟、1-[4-[4-(羧基苯基)硫基]苯基]丙烷-1，2-二酮-2-(O-乙酰基)肟、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基)肟、1-[9-乙基-6-[2-甲基-4-[1-(2，2-二甲基-1，3-二氧杂环戊烷-4-基)甲氧基]苯甲酰基]-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基)肟或1-(9-乙基-6-硝基-9H-咔唑-3-基)-1-[2-甲基-4-(1-甲氧基丙烷-2-基氧基)苯基]甲酮-1-(O-乙酰基)肟。
作为吖啶系光聚合引发剂，例如可举出1，7-双(吖啶-9-基)正庚烷。
作为二茂钛系光聚合引发剂，例如可举出双(η5-2，4-环戊二烯-1-基)-双[2，6-二氟)-3-(1H-吡咯-1-基)苯基]钛(IV)或双(η5-3-甲基-2，4-环戊二烯-1-基)-双(2，6-二氟苯基)钛(IV)。
作为二苯甲酮系光聚合引发剂，例如可举出二苯甲酮、4，4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、烷基化二苯甲酮、3，3’，4，4’-四(过氧化叔丁基羰基)二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、二苄基酮或芴酮。
作为苯乙酮系光聚合引发剂，例如可举出2，2-二乙氧基苯乙酮、2，3-二乙氧基苯乙酮、4-叔丁基二氯苯乙酮、亚苄基苯乙酮或4-叠氮亚苄基苯乙酮(4-azidedbenzalacetophenone)。
作为芳香族酮酯系光聚合引发剂，例如可举出2-苯基-2-氧代乙酸甲酯。
作为苯甲酸酯系光聚合引发剂，例如可举出4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸(2-乙基)己酯、4-二乙基氨基苯甲酸乙酯或2-苯甲酰基苯甲酸甲酯。
相对于(A)碱溶性树脂100质量份而言，(C)光聚合引发剂的含量优选为0.5质量份以上、更优选为1质量份以上、进一步优选为2质量份以上、且优选为50质量份以下、更优选为30质量份以下、进一步优选为20质量份以下。通过使(C)光聚合引发剂的含量为0.5质量份以上，能够减少显影时的曝光部的膜减损，通过使(C)光聚合引发剂的含量为50质量份以下，能够提高固化膜的耐热性。此外，本发明的感光性树脂组合物可根据需要含有敏化剂。
本发明的感光性树脂组合物含有(D)着色剂。所谓(D)着色剂，是指电子信息材料领域中通常使用的有机颜料、无机颜料或染料。(D)着色剂宜优选为有机颜料及/或无机颜料。
作为有机颜料，例如可举出吡咯并吡咯二酮系颜料、偶氮、双偶氮或多偶氮等偶氮系颜料、酞菁铜、卤化酞菁铜或非金属酞菁等酞菁系颜料、氨基蒽醌、二氨基二蒽醌、蒽嘧啶、黄烷士酮、蒽嵌蒽醌、阴丹酮、皮蒽酮或蒽酮紫等蒽醌系颜料、喹吖啶酮系颜料、双噁嗪系颜料、芘酮系颜料、苝系颜料、硫靛蓝系颜料、异吲哚啉系颜料、异吲哚啉酮系颜料、喹酞酮系颜料、还原(threne)系颜料、苯并呋喃酮系或金属络合物系颜料。
作为无机颜料，例如可举出氧化钛、锌白、硫化锌、铅白、碳酸钙、沉降性硫酸钡、白碳、氧化铝白、高岭土、滑石、膨润土、黑色氧化铁、镉红、氧化铁红、钼红、钼酸橙、铬朱红、黄铅、镉黄、黄色氧化铁、钛黄、氧化铬、铬绿、钛钴绿、钴绿、钴铬绿、维多利亚绿、群青、普鲁士蓝、钴蓝、蔚蓝、钴硅蓝、钴锌硅蓝、锰紫或钴紫。
作为染料，例如可举出偶氮染料、蒽醌染料、稠合多环芳香族羰基染料、靛蓝类染料、碳阳离子染料、酞菁染料、次甲基或聚次甲基染料。
作为红色颜料，例如可举出颜料红9、48、97、122、123、144、149、166、168、177、179、180、192、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240或254(数值均为染料索引(以下记为“CI”编号))。
作为橙色颜料，例如可举出颜料橙13、36、38、43、51、55、59、61、64、65或71(数值均为CI编号)。
作为黄色颜料，例如可举出颜料黄12、13、17、20、24、83、86、93、95、109、110、117、125、129、137、138、139、147、148、150、153、154、166、168或185(数值均为CI编号)。
作为紫色颜料，例如可举出颜料紫19、23、29、30、32、37、40或50(数值均为CI编号)。
作为蓝色颜料，例如可举出颜料蓝15、15：3、15：4、15：6、22、60或64(数值均为CI编号)。
作为绿色颜料，例如可举出颜料绿7、10、36或58(数值均为CI编号)。
作为黑色颜料，例如可举出黑色有机颜料及黑色无机颜料等。作为黑色有机颜料，例如可举出炭黑、苯并呋喃酮系黑色颜料(国际公开第2010/081624号记载)、苝系黑色颜料、苯胺系黑色颜料、或蒽醌系黑色颜料。这些中，从可得到敏感度更优异的负型感光性树脂组合物的观点考虑，特别优选苯并呋喃酮系黑色颜料或苝系黑色颜料。这是因为，苯并呋喃酮系黑色颜料、苝系黑色颜料可在可见光区域以低透过率实现高遮光性，同时紫外光区域的透过率相对较高，由此曝光时的化学反应高效地进行。也可以同时含有苯并呋喃酮系黑色颜料及苝系黑色颜料。作为黑色无机颜料，例如可举出石墨、或钛、铜、铁、锰、钴、铬、镍、锌、钙或银等金属的微粒、氧化物、复合氧化物、硫化物、氮化物或氮氧化物，优选为具有高遮光性的炭黑或钛的氮化物。
作为白色颜料，例如可举出二氧化钛、碳酸钡、氧化锆、碳酸钙、硫酸钡、氧化铝白或二氧化硅。
作为染料，例如可举出：直接红2、4、9、23、26、28、31、39、62、63、72、75、76、79、80、81、83、84、89、92、95、111、173、184、207、211、212、214、218、221、223、224、225、226、227、232、233、240、241、242、243或247；酸性红35、42、51、52、57、62、80、82、111、114、118、119、127、128、131、143、145、151、154、157、158、211、249、254、257、261、263、266、289、299、301、305、319、336、337、361、396或397；活性红3、13、17、19、21、22、23、24、29、35、37、40、41、43、45、49或55；碱性红12、13、14、15、18、22、23、24、25、27、29、35、36、38、39、45或46；直接紫7、9、47、48、51、66、90、93、94、95、98、100或101；酸性紫5、9、11、34、43、47、48、51、75、90、103或126；活性紫1、3、4、5、6、7、8、9、16、17、22、23、24、26、27、33或34；碱性紫1、2、3、7、10、15、16、20、21、25、27、28、35、37、39、40或48；直接黄8、9、11、12、27、28、29、33、35、39、41、44、50、53、58、59、68、87、93、95、96、98、100、106、108、109、110、130、142、144、161或163；酸性黄17、19、23、25、39、40、42、44、49、50、61、64、76、79、110、127、135、143、151、159、169、174、190、195、196、197、199、218、219、222或227；活性黄2、3、13、14、15、17、18、23、24、25、26、27、29、35、37、41或42；碱性黄1、2、4、11、13、14、15、19、21、23、24、25、28、29、32、36、39或40；酸性绿16；酸性蓝9、45、80、83、90或185或碱性橙21或23(数值均为CI编号)、Sumilan、Lanyl(注册商标)系列(以上均为住友化学工业(株)制)、Orasol(注册商标)、Oracet(注册商标)、Filamid(注册商标)、Irgasperse(注册商标)、Zapon、Neozapon、Neptune、Acidol系列(以上均为BASF(株)制)、Kayaset(注册商标)、Kayakalan(注册商标)系列(以上均为日本化药(株)制)、Valifast(注册商标)Colors系列(Orient化学工业(株)制)、Savinyl、Sandoplast、Polysynthren(注册商标)、Lanasyn(注册商标)系列(以上均为Clariant Japan(株)制)、Aizen(注册商标)、Spilon(注册商标)系列(以上均为保土谷化学工业(株)制)、功能性色素(山田化学工业(株)制)、Plast Color、Oil Color系列(有本化学工业(株)制)等。
出于提高有机EL显示装置的对比度的目的，着色剂的颜色优选为可在整个波长区域内将可见光遮蔽的黑色，使用选自有机颜料、无机颜料及染料中的至少一种以上，使用在制成固化膜时呈黑色这样的着色剂即可。因此，可以使用上述的黑色有机颜料及黑色无机颜料，也可以通过将两种以上的有机颜料及染料混合从而模拟地黑色化。模拟地黑色化时，可以通过将上述的红色、橙色、黄色、紫色、蓝色、绿色等的有机颜料及染料中的两种以上混合而得到。需要说明的是，本发明的感光性树脂组合物本身并不必须为黑色，可以使用加热固化时颜色发生变化从而使得固化膜呈黑色这样的着色剂。
这些中，从可确保高耐热性的观点考虑，优选使用含有有机颜料及/或无机颜料、且制成固化膜时呈黑色这样的着色剂。另外，从可确保高绝缘性的观点考虑，优选使用含有有机颜料及/或染料、且制成固化膜时呈黑色这样的着色剂。即，从能够同时实现高耐热性和高绝缘性的观点考虑，优选使用含有有机颜料、且制成固化膜时呈黑色这样的着色剂。
相对于100质量份的(A)碱溶性树脂而言，(D)着色剂的含量优选为10质量份以上，更优选为20重质量份以上，进一步优选为30质量份以上，优选为300质量份以下，更优选为200质量份以下，进一步优选为150质量份以下。通过使(D)着色剂的含量为10质量份以上，从而能够得到固化膜所需要的着色性，通过使其为300质量份以下，从而保存稳定性良好。
本发明的感光性树脂组合物优选含有(E)热交联剂。所谓热交联剂，是指在分子内具有至少两个以羟甲基、烷氧基甲基、环氧基、氧杂环丁基为代表的热反应性官能团的化合物。优选含有(E)热交联剂，这是因为其能够将(A)碱溶性树脂或其他添加成分交联，提高固化膜的耐化学药品性及耐热性。
作为(E)热交联剂，尤其优选含有(E-1)具有合计6个以上且20个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物。通过使羟甲基及/或烷氧基甲基为合计6个以上，从而使得在加热处理工序中在较低温度下进行交联反应，可得到高交联密度的固化膜。由此，可得到高弹性模量且高硬度的固化膜，能够抑制使蒸镀掩模与像素分割层接触时的颗粒产生。另一方面，通过使羟甲基及/或烷氧基甲基为合计20个以下，能够提高感光性树脂组合物的保存稳定性。
作为(E-1)具有合计6个以上且20个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物的例子，可举出通式(4)表示的化合物及三聚氰胺的羟甲基及/或烷氧基甲基改性物。
[化学式7]
通式(4)中，R30表示碳原子数1～6的烃基，R31表示CH2OR34(R34为氢原子或碳原子数1～6的有机基团)。从保存稳定性更优异的方面考虑，R34优选为碳原子数1～4的烃基，尤其优选为甲基、乙基。R32表示氢原子、甲基或乙基，R33表示以下举出的任一基团。
p表示3或4的整数。
[化学式8]
R35～R46表示氢原子、碳原子数1～20的有机基团、Cl、Br、I、F或碳原子数1～20的氟取代有机基团。
作为通式(4)表示的化合物，可使用市售的化合物，例如，可举出HML-TPPHBA、HML-TPHAP、HMOM-TPPHBA、HMOM-TPHAP(以上为商品名，本州化学工业(株)制)。
作为三聚氰胺的羟甲基及/或烷氧基甲基改性物，可使用市售的化合物，例如，可举出NIKALAC(注册商标，以下同样)MW-100LM、NIKALAC MW-30HM(以上为商品名，(株)三和化学制)、U-VAN(注册商标，以下同样)228、U-VAN2028(以上为商品名，三井化学(株)制)。
关于除(E-1)具有合计6个以上且20个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物以外的(E)热交联剂，作为具有合计2个以上且5个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物的例子，例如，可举出DML-PC、DML-PEP、DML-OC、DML-OEP、DML-34X、DML-PTBP、DML-PCHP、DML-OCHP、DML-PFP、DML-PSBP、DML-POP、DML-MBOC、DML-MBPC、DML-MTrisPC、DML-BisOC-Z、DML-BisOCHP-Z、DML-BPC、DML-BisOC-P、DMOM-PC、DMOM-PTBP、DMOM-MBPC、TriML-P、TriML-35XL、TML-HQ、TML-BP、TML-pp-BPF、TML-BPE、TML-BPA、TML-BPAF、TML-BPAP、TMOM-BP、TMOM-BPE、TMOM-BPA、TMOM-BPAF、TMOM-BPAP、(以上为商品名，本州化学工业(株)制)、NIKALAC(注册商标，以下同样)MX-290、NIKALAC MX-280、NIKALAC MX-270、NIKALAC MX-279(以上为商品名，(株)三和化学制)。
作为具有至少两个环氧基的化合物的优选例，例如，可举出Epolite 40E、Epolite100E、Epolite 200E、Epolite 400E、Epolite 70P、Epolite 200P、Epolite 400P、Epolite1500NP、Epolite 80MF、Epolite 4000、Epolite 3002(以上为共荣社化学(株)制)、Denacol(注册商标，以下同样)EX-212L、Denacol EX-214L、Denacol EX-216L、DenacolEX-850L、Denacol EX-321L(以上为Nagase ChemteX Corporation制)、GAN、GOT(以上为日本化药(株)制)、Epikote 828、Epikote 1002、Epikote 1750、Epikote 1007、YX8100-BH30、E1256、E4250、E4275(以上为Japan Epoxy Resin Co.，Ltd.制)、EPICLON EXA-9583、HP4032、N695、HP7200(以上为大日本油墨化学工业(株)制)、VG3101(三井化学(株)制)、TEPIC(注册商标，以下同样)S、TEPICG、TEPICP(以上为日产化学工业(株)制)、NC6000(日本化药(株)制)、EPOTOHTO YH-434L(东都化成(株)制)等。
作为具有至少两个氧杂环丁基的化合物的优选例，例如，可举出ETERNACOLL(注册商标，以下同样)EHO、ETERNACOLL OXBP、ETERNACOLL OXTP、ETERNACOLL OXMA(以上为宇部兴产(株)制)、氧杂环丁烷化酚醛清漆等。
(E)热交联剂可以组合2种以上而使用。
相对于(A)碱溶性树脂100质量份而言，(E)热交联剂的含量优选为1质量份以上，更优选为3质量份以上。另外，优选为50质量份以下，更优选为30质量份以下。通过使热交联剂的含量为1质量份以上，能够提高固化膜的耐化学药品性、硬度，通过使其为50质量份以下，从而感光性树脂组合物的保存稳定性也优异。
在使用颜料作为着色剂的情况下，本发明的感光性树脂组合物优选含有(F)分散剂。通过含有(F)分散剂，从而能够使着色剂均匀且稳定地分散于树脂组合物中。(F)分散剂没有特别限制，优选为高分子分散剂。作为高分子分散剂，例如可举出聚酯系高分子分散剂、丙烯酸系高分子分散剂、聚氨酯系高分子分散剂、聚烯丙基胺系高分子分散剂或碳二亚胺系分散剂。更具体而言，所谓高分子分散剂，是指主链由聚氨基、聚醚、聚酯、聚氨酯、聚丙烯酸酯等形成、且在侧链或主链末端具有胺、羧酸、磷酸、胺盐、羧酸盐、磷酸盐等极性基团的高分子化合物。极性基团吸附于颜料，通过主链聚合物的立***阻而发挥使颜料的分散稳定的作用。
(F)分散剂可分为仅具有胺值的(高分子)分散剂、仅具有酸值的(高分子)分散剂、具有胺值及酸值的(高分子)分散剂、或既不具有胺值也不具有酸值的(高分子)分散剂，优选为具有胺值及酸值的(高分子)分散剂、仅具有胺值的(高分子)分散剂，更优选为仅具有胺值的(高分子)分散剂。
作为仅具有胺值的高分子分散剂的具体例，例如可举出DISPERBYK(注册商标)102、160、161、162、2163、164、2164、166、167、168、2000、2050、2150、2155、9075、9077、BYK-LP N6919、BYK-LP N21116或BYK-LP N21234(以上均为BYK Chemie公司制)、EFKA(注册商标)4015、4020、4046、4047、4050、4055、4060、4080、4300、4330、4340、4400、4401、4402、4403或4800(以上均为BASF公司制)、AJISPER(注册商标)PB711(Ajinomoto Fine-Techno公司制)或SOLSPERSE(注册商标)13240、13940、20000、71000或76500(以上均为Lubrizol公司制)。
仅具有胺值的高分子分散剂中，从可实现更微细的颜料分散、且由感光性树脂组合物得到的固化膜的表面粗糙度小(即膜表面的平滑性良好)的观点考虑，具有叔氨基或吡啶、嘧啶、吡嗪、异氰脲酸酯等含氮杂环等的碱性官能团作为颜料吸附基团的高分子分散剂是优选的。作为具有叔氨基或含氮杂环的碱性官能团的高分子分散剂，例如可举出DISPERBYK(注册商标)164、167、BYK-LP N6919或BYK-LP N21116或SOLSPERSE(注册商标)20000。
作为具有胺值及酸值的高分子分散剂，例如可举出DISPERBYK(注册商标)142、145、2001、2010、2020、2025或9076、Anti-Terra(注册商标)-205(以上均为BYK Chemie公司制)、AJISPER(注册商标)PB821、PB880或PB881(以上均为Ajinomoto Fine-Techno Co.，Inc.制)或SOLSPERSE(注册商标)9000、11200、13650、24000、24000SC、24000GR、32000、32500、32550、326000、33000、34750、35100、35200、37500、39000或56000(以上均为Lubrizol公司制)。
为了在维持耐热性的同时提高分散稳定性，分散剂相对于着色剂的比例优选为1质量％以上，更优选为3质量％以上。另外，优选为100质量％以下，更优选为50质量％以下。
本发明的感光性树脂组合物优选含有有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出醚类、乙酸酯类、酯类、酮类、芳香族烃类、酰胺类或醇类化合物。
更具体而言，例如可举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丙基醚、乙二醇单正丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单正丙基醚、二乙二醇单正丁基醚、三乙二醇单甲基醚、三乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单正丙基醚、丙二醇单正丁基醚、二丙二醇单甲基醚、二丙二醇单乙基醚、二丙二醇单正丙基醚、二丙二醇单正丁基醚、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇甲基正丁基醚、三丙二醇单甲基醚、三丙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚或四氢呋喃等醚类、乙酸丁酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、乙酸环己醇酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯(以下记为“PGMEA”)、二丙二醇甲基醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基-3-甲基-1-丁酯、1，4-丁二醇二乙酸酯、1，3-丁二醇二乙酸酯或1，6-己二醇二乙酸酯等乙酸酯类、甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮或3-庚酮等酮类、2-羟基丙酸甲酯或2-羟基丙酸乙酯等乳酸烷基酯类、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯或2-氧代丁酸乙酯等其他酯类、甲苯或二甲苯等芳香族烃类、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺或N，N-二甲基乙酰胺等酰胺类、或丁醇、异丁醇、戊醇、4-甲基-2-戊醇、3-甲基-2-丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇或二丙酮醇等醇类。
使用颜料作为着色剂的情况下，为了将颜料分散稳定化，优选使用乙酸酯类化合物作为有机溶剂。乙酸酯类化合物在本发明的感光性树脂组合物所含有的全部有机溶剂中所占的比例优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上。另外，优选为100质量％以下，更优选为90质量％以下。
伴随基板的大型化，利用模涂装置进行的涂布逐渐成为主流，为了在该涂布中实现合适的挥发性及干燥性，混合二种以上化合物而得到的有机溶剂是优选的。为了使本发明的感光性树脂组合物的感光性树脂膜的膜厚均匀、且使得表面的平滑性及粘合性良好，沸点为120～180℃的化合物在全部有机溶剂中所占的比例优选为30质量％以上。另外，优选为95质量％以下。
有机溶剂相对于本发明的感光性树脂组合物的全部固态成分的比例(相对于100质量份的全部固态成分而言)优选为50质量份以上，更优选为100质量份以上。另外，优选为2000质量份以下，更优选为1000质量份以下。
本发明的感光性树脂组合物可含有链转移剂。通过含有链转移剂，从而能够使加热固化后的膜的截面形状成为更低的锥度。对于本发明的感光性树脂组合物而言，在曝光时通过由光聚合引发剂所产生的自由基从而使得(B)自由基聚合性化合物发生链式反应而进行聚合物化，由此曝光部固化。链转移剂从增长的聚合物链接受自由基而终止聚合物的伸长，但接受了自由基的链转移剂可进攻单体而使得聚合再次开始。因此，通过含有链转移剂，从而能够将(B)自由基聚合性化合物发生链式反应而生成的聚合物的分子量抑制在相对低的水平，由此能够提高加热固化时的膜流动性，因此能够使加热固化后的膜的截面形状成为更低的锥度。
作为链转移剂，可举出多官能硫醇。作为多官能硫醇，只要为具有2个以上硫醇(SH)基的化合物即可。
作为多官能硫醇化合物的例子，可举出乙二醇双硫代丙酸酯(EGTP)、丁二醇双硫代丙酸酯(BDTP)、三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯(TMTP)、季戊四醇四硫代丙酸酯(PETP)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(硫代乙醇酸酯)、Karenz(注册商标，以下同样)MT BD1、Karenz MTPE1、Karenz MT NR1(以上为昭和电工(株)制)等。
相对于100质量份的(A)碱溶性树脂而言，链转移剂的含量优选为0.1质量份以上，更优选为0.5质量份以上。另外，优选为20质量份以下，更优选为10质量份以下。通过使链转移剂的含量为0.1质量份以上，从而能够使加热固化后的截面形状成为更低的锥度，通过使其为20质量份以下，从而能够维持高耐热性。
本发明的感光性树脂组合物可含有阻聚剂。所谓阻聚剂，是指可通过捕获曝光时产生的自由基或者聚合物链(所述聚合物链是通过曝光时的自由基聚合而得到的)的聚合物增长末端的自由基并以稳定自由基的形式保持从而终止自由基聚合的化合物。
通过含有适量的阻聚剂，从而可抑制显影后的残渣产生，提高显影后的分辨率。推测其原因在于，阻聚剂捕获曝光时产生的过量自由基或者高分子量的聚合物链的增长末端的自由基，由此抑制过量的自由基聚合的进行。
作为阻聚剂，优选为酚系阻聚剂。作为酚系阻聚剂，可举出例如4-甲氧基苯酚、1，4-氢醌、1，4-苯醌、2-叔丁基-4-甲氧基苯酚、3-叔丁基-4-甲氧基苯酚、4-叔丁基邻苯二酚、2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基-1，4-氢醌或2，5-二叔戊基-1，4-氢醌或“IRGANOX”(注册商标)1010、1035、1076、1098、1135、1330、1726、1425、1520、245、259、3114、565或295(以上均为BASF公司制)。
相对于100质量份的(A)碱溶性树脂而言，阻聚剂的含量优选为0.01质量份以上，更优选为0.03质量份以上。另外，优选为10质量份以下，更优选为5质量份以下。通过使阻聚剂的含量为0.01质量份以上，从而能够提高显影后的分辨率，通过使其为10质量份以下，从而能够将曝光时的敏感度维持在高水平。
本发明的感光性树脂组合物可含有密合改良剂。作为密合改良剂，可举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、环氧环己基乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷等硅烷偶联剂、钛螯合剂、铝螯合剂、使芳香族胺化合物与含有烷氧基的硅化合物反应而得到的化合物等。可以含有它们中的两种以上。通过含有这些密合改良剂，能够在对感光性树脂膜进行显影时等情况下提高与硅晶片、ITO、SiO2、氮化硅等基底基材的密合性。另外，能够提高对洗涤等中使用的氧等离子体、UV臭氧处理的耐受性。相对于100质量份的(A)碱溶性树脂而言，密合改良剂的含量优选为0.1质量份以上，更优选为0.3质量份以上。另外，优选为10质量份以下，更优选为5质量份以下。
出于提高与基板的润湿性的目的，本发明的感光性树脂组合物可根据需要含有表面活性剂。表面活性剂可使用市售的化合物，具体而言，作为有机硅系表面活性剂，可举出Toray-Dowconing silicone公司的SH系列、SD系列、ST系列、BYK Chemie·Japan公司的BYK系列、信越有机硅公司的KP系列、Toshiba有机硅公司的TSF系列等，作为氟系表面活性剂，可举出大日本油墨工业公司的“MEGAFAC(注册商标)”系列、住友3M公司的Fluorad系列、旭硝子公司的“Surflon(注册商标)”系列、“AsahiGuard(注册商标)”系列、新秋田化成公司的EF系列、OMNOVA Solutions公司的Polyfox系列等，作为由丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系聚合物形成的表面活性剂，可举出共荣社化学公司的PolyFlow系列、楠本化成公司的“Disparlon(注册商标)”系列等，但并不限定于它们。
相对于100质量份的(A)碱溶性树脂而言，表面活性剂的含量优选为0.001质量份以上，更优选为0.002质量份以上。另外，优选为1质量份以下，更优选为0.5质量份以下。
接下来，对本发明的感光性树脂组合物的制造方法进行说明。例如，通过将上述(A)～(D)成分、及根据需要添加的(E)热交联剂、(F)分散剂、阻聚剂、热交联剂、密合改良剂、表面活性剂等溶解于有机溶剂中，从而能够得到感光性树脂组合物。作为溶解方法，可举出搅拌、加热。进行加热的情况下，加热温度优选在不损害树脂组合物的性能的范围内进行设定，通常为室温～80℃。另外，各成分的溶解顺序没有特别限定，例如有从溶解性低的化合物开始依次溶解的方法。另外，对于表面活性剂、一部分密合改良剂等在搅拌溶解时容易产生气泡的成分而言，通过在溶解其他成分后最后进行添加，能够防止由气泡的产生导致的其他成分的溶解不良。
另外，使用颜料作为(D)着色剂的情况下，可举出下述方法：使用分散机，使包含颜料的着色剂分散于(A)成分的树脂溶液中。
作为分散机，可举出例如球磨机、珠磨机、砂磨机、三辊轧机或高速冲击磨机，为了提高分散效率并实现微分散，优选为珠磨机。作为珠磨机，可举出例如双锥形球磨机(co-ball mill)、篮式砂磨机、针磨机或卧式砂磨机(DYNO mill)。作为珠磨机的珠，可举出例如二氧化钛珠、氧化锆珠或锆珠。作为珠磨机的珠直径，优选为0.01mm以上，更优选为0.03mm以上。另外，优选为5.0mm以下，更优选为1.0mm以下。着色剂的一次粒径及一次粒子凝集而形成的二次粒子的粒径小时，优选为0.03mm以上且0.10mm以下的微小珠。在该情况下，具备基于离心分离方式的分离器(其可将微小珠和分散液分离)的珠磨机是优选的。
另一方面，在使包含亚微米级别的粗大粒子的着色剂分散的情况下，0.10mm以上的珠是优选的，这是因为可得到充分的粉碎力。
优选使用过滤器将得到的树脂组合物过滤，除去灰尘、粒子。过滤器孔径包括例如0.5μm、0.2μm、0.1μm、0.05μm等，但并不限定于此。过滤器的材质包括聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、尼龙(NY)、聚四氟乙烯(PTFE)等，优选为聚乙烯、尼龙。在感光性树脂组合物中含有颜料的情况下，优选使用孔径大于颜料粒径的过滤器。
接下来，对使用了本发明的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法详细地进行说明。
固化膜的制造方法包括下述工序：
工序(1)，将上述的感光性树脂组合物涂布于基板上，形成感光性树脂膜；
工序(2)，对该感光性树脂膜进行干燥；
工序(3)，隔着光掩模对经干燥的感光性树脂膜进行曝光；
工序(4)，对经曝光的感光性树脂膜进行显影；及
工序(5)，对经显影的感光性树脂膜进行加热处理。
形成感光性树脂膜的工序中，利用旋涂法、狭缝涂布法、浸涂法、喷涂法、印刷法等涂布本发明的感光性树脂组合物，得到感光性树脂组合物的感光性树脂膜。可以在涂布之前预先利用上述的密合改良剂对要涂布感光性树脂组合物的基材进行预处理。例如，可举出下述方法：使用在异丙醇、乙醇、甲醇、水、四氢呋喃、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、乳酸乙酯、己二酸二乙酯等溶剂中溶解0.5～20重量％的密合改良剂而得到的溶液，对基材表面进行处理。作为基材表面的处理方法，可举出旋涂、缝模涂布、棒涂、浸涂、喷涂、蒸气处理等方法。
在对感光性树脂膜进行干燥的工序中，根据需要对经涂布的感光性树脂膜实施减压干燥处理，然后使用加热板、烘箱、红外线等，在50℃～180℃的范围内实施1分钟～数小时的热处理，由此得到感光性树脂膜。
接下来，对隔着光掩模对经干燥的感光性树脂膜进行曝光的工序进行说明。在感光性树脂膜上，透过具有所期望的图案的光掩模照射光化射线。作为曝光中使用的光化射线，有紫外线、可见光线、电子射线、X射线等，本发明中，优选使用汞灯的i线(365nm)、h线(405nm)、g线(436nm)。照射光化射线后，可以进行曝光后烘烤。通过进行曝光后烘烤，可期待显影后的分辨率提高或显影条件的允许范围增大等的效果。曝光后烘烤中可以使用烘箱、加热板、红外线、闪光退火装置或激光退火装置等。作为曝光后烘烤温度，优选为50～180℃，更优选为60～150℃。曝光后烘烤时间优选为10秒～数小时。曝光后烘烤时间在上述范围内时，反应良好地进行，有时能够缩短显影时间。
在对经曝光的感光性树脂膜进行显影而形成图案的工序中，使用显影液对经曝光的感光性树脂膜进行显影，除去曝光部以外的部分。作为显影液，优选为四甲基氢氧化铵、二乙醇胺、二乙基氨基乙醇、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、二乙胺、甲胺、二甲胺、乙酸二甲基氨基乙酯、二甲基氨基乙醇、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、环己胺、乙二胺、1，6-已二胺等显示碱性的化合物的水溶液。另外，可根据情况，将N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、二甲基丙烯酰胺等极性溶剂、甲醇、乙醇、异丙醇等醇类、乳酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等酯类、环戊酮、环己酮、异丁基酮、甲基异丁基酮等酮类等单独或组合数种添加至这些碱性水溶液中。作为显影方式，可以是喷雾、旋覆浸没式(puddle)、浸渍、超声波等方式。
接下来，优选地，用蒸馏水对通过显影而形成的图案进行漂洗处理。此处，也可以将乙醇、异丙醇等醇类、乳酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等酯类等加入至蒸馏水中而进行漂洗处理。
接下来，实施对已显影的感光性树脂膜进行加热处理的工序。由于能够通过加热处理将残留溶剂、耐热性低的成分除去，因此能够提高耐热性及耐化学药品性。本发明的感光性树脂组合物含有聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物的情况下，能够通过加热处理而形成酰亚胺环、噁唑环，因此，能够提高耐热性及耐化学药品性。另外，含有热交联剂时，能够通过加热处理使热交联反应进行，能够提高耐热性及耐化学药品性。该加热处理中，在选择温度并阶段性地升温、或者选择某一温度范围并连续地升温的同时，实施5分钟～5小时。作为一例，可举出于150℃、250℃分别各进行30分钟的热处理。或者，可举出经2小时从室温直线升温至300℃等方法。作为本发明中的加热处理条件，优选为180℃以上，更优选为200℃以上，进一步优选为230℃以上，尤其优选为250℃以上。另外，加热处理条件优选为400℃以下，更优选为350℃以下，进一步优选为300℃以下。
使用了本发明的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法中，作为光掩模，优选使用半色调光掩模。
所谓半色调光掩模，例如如图3所示，是具有包含透光部16及遮光部15的图案的光掩模，并且是指在透光部16与遮光部15之间具有半透光部14的光掩模，所述半透光部14的透射率低于透光部16的值且高于遮光部15的值。通过使用半色调光掩模进行曝光，从而能够在显影后及热固化后形成具有阶差形状的图案。需要说明的是，隔着上述透光部照射活性光化射线而得到的固化部相当于上述厚膜部，隔着上述半透光部照射活性光化射线而得到的半色调曝光部相当于上述薄膜部。
作为半色调光掩模，在将上述透光部的透射率设为(％TFT)的情况下，上述半透光部的透射率(％THT)优选为(％TFT)的10％以上，更优选为15％以上，进一步优选为20％以上，尤其优选为25％以上。半透光部的透射率(％THT)在上述范围内时，能够降低形成具有阶差形状的固化图案时的曝光量，由此能够缩短节拍时间。另一方面，半透光部的透射率(％THT)优选为(％TFT)的60％以下，更优选为55％以下，进一步优选为50％以下，尤其优选为45％以下。半透光部的透射率(％THT)在上述范围内时，能够充分地增大厚膜部与薄膜部的膜厚差、及在任意阶差的两侧邻接的薄膜部间的膜厚差，由此能够抑制发光元件的劣化。
使用了本发明的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法中，作为光掩模，可以使用透光部的区域不同的两个以上的光掩模。
通过使用透光部的区域不同的两个以上的光掩模而分两次以上进行曝光，能够形成相当于使用半色调光掩模时的固化部和半色调曝光部的两个以上的曝光部。因此，能够形成具有阶差形状的固化膜。
将由本发明的感光性树脂组合物得到的、具有阶差数为2的阶差形状的固化膜的截面的一例示于图1。在基板1上形成有具有阶差形状的固化膜2，厚膜部3相当于隔着上述半色调光掩模进行曝光时的透光部区域，具有固化图案的最大膜厚。另一方面，薄膜部4、5相当于隔着上述半色调光掩模进行曝光时的半透光部区域，具有比厚膜部3的厚度小的膜厚。
基板1与固化膜的薄膜部4、5的倾斜角分别以锥角θA、θD表示，固化膜的薄膜部4、5与厚膜部3的倾斜角分别以锥角θB、θC表示。从抑制电极的边缘部分处的电场集中的方面考虑，上述θA、θB、θC、θD优选为60°以下，更优选为50°以下，进一步优选为40°以下，从能够高密度地配置有机EL显示元件的方面考虑，上述θA、θB、θC、θD优选为5°以上，进一步优选为10°以上。
由本发明的感光性树脂组合物得到的、具有阶差形状的固化膜的阶差数为2以上，优选为5以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。阶差数在上述范围内时，能够充分地增大厚膜部与薄膜部的膜厚差、及在任意阶差的两侧邻接的薄膜部间的膜厚差，由此能够减少形成发光层时的与蒸镀掩模的接触面积，由此，能够抑制因颗粒产生而导致的面板的成品率降低，并且能够抑制发光元件的劣化。此处，例如阶差数为3时，存在：具有最大膜厚的厚膜部；具有比厚膜部小的膜厚的薄膜部；和具有更小膜厚的薄膜部。
将由本发明的感光性树脂组合物得到的、具有阶差形状的固化膜2的厚膜部3的膜厚设为(TFT)μm、将薄膜部4的膜厚设为(THT)μm、并将厚膜部3的膜厚(TFT)与薄膜部4(THT)的膜厚差设为(ΔTFT-HT)μm时，上述(TFT)、(THT)及(ΔTFT-HT)优选满足式(α)～(γ)表示的关系。
此处，厚膜部3的膜厚(TFT)为厚膜部3的最厚部分的膜厚，薄膜部4的膜厚为薄膜部4的相对基板呈水平的部分的平均膜厚。而且，所谓相对基板呈水平的部分，是指相对于基板的倾斜角为3°以下的区域。需要说明的是，阶差数具有3个以上的情况下，优选全部的薄膜部满足式(α)～(γ)表示的关系。
1.0≤(TFT)≤5.0(α)
0.2≤(THT)≤4.0(β)
0.5≤(ΔTFT-HT)≤4.0(γ)
厚膜部的膜厚(TFT)优选为1.0μm以上，更优选为1.2μm以上，进一步优选为1.5μm以上，尤其优选为1.7μm以上，最优选为2.0μm以上。厚膜部的膜厚(TFT)在上述范围内时，容易确保与薄膜部的膜厚差。另一方面，厚膜部的膜厚(TFT)优选为5.0μm以下，更优选为4.5μm以下，进一步优选为4.0μm以下，尤其优选为3.5μm以下，最优选为3.0μm以下。厚膜部的膜厚(TFT)在上述范围内时，能够减薄感光性树脂膜的膜厚，因此，能够降低曝光量，能够缩短节拍时间。
与厚膜部3隔着至少一个阶差形状而配置的薄膜部4的膜厚(THT)优选为0.2μm以上，更优选为0.3μm以上，进一步优选为0.5μm以上，尤其优选为0.7μm以上，最优选为1.0μm以上。薄膜部的膜厚(THT)在上述范围内时，能够确保作为像素分割层的充分的膜厚，因此能够防止因绝缘不足而导致的发光异常等有机EL元件的不良情况。另一方面，薄膜部4的膜厚(THT)优选为4.0μm以下，更优选为3.5μm以下，进一步优选为3.0μm以下，尤其优选为2.5μm以下，最优选为2.0μm以下。薄膜部的膜厚(THT)在上述范围内时，容易确保与厚膜部的膜厚差。
厚膜部的膜厚(TFT)与薄膜部的膜厚(THT)的膜厚差(ΔTFT-HT)μm优选为0.5μm以上，更优选为0.7μm以上，进一步优选为1.0μm以上，尤其优选为1.2μm以上，最优选为1.5μm以上。厚膜部的膜厚与薄膜部的膜厚的膜厚差在上述范围内时，能够防止形成发光层时的蒸镀掩模与像素分割层的薄膜部的接触，能够抑制因颗粒产生而导致的面板的成品率降低。另一方面，厚膜部的膜厚与薄膜部的膜厚的膜厚差(ΔTFT-HT)μm优选为4.0μm以下，更优选为3.5μm以下，进一步优选为3.0μm以下，尤其优选为2.5μm以下，最优选为2.0μm以下。厚膜部的膜厚与薄膜部的膜厚的膜厚差在上述范围内时，能够减薄感光性树脂膜的膜厚，因此，能够降低曝光量，能够缩短节拍时间。
厚膜部在由本发明的感光性树脂组合物得到的固化膜的总面积中所占的比例优选为5％以上，更优选为7％以上，进一步优选为10％以上，尤其优选为12％以上，最优选为15％以上。此处所谓厚膜部的面积，是指以图1的厚膜部3所示的区域、即相对基板为水平的区域与相对基板具有倾斜的区域的总面积。厚膜部的面积的比例在上述范围内时，能够在有机EL显示装置中充分确保玻璃盖板等密封部与像素分割层的厚膜部的接触面积，能够提高机械强度。另一方面，厚膜部的面积在固化膜的总面积中所占的比例优选为50％以下，更优选为45％以下，进一步优选为40％以下，尤其优选为35％以下，最优选为30％以下。厚膜部的面积的比例在上述范围内时，能够防止形成发光层时的蒸镀掩模与像素分割层的薄膜部的接触，能够抑制因颗粒产生而导致的面板的成品率降低。由本发明的感光性树脂组合物得到的固化膜可合适地用作依次具有形成了TFT的基板、驱动电路上的平坦化层、第一电极上的像素分割层及显示元件的显示装置的平坦化层、像素分割层。即，平坦化层及/或像素分割层成为具备固化膜的元件。作为该构成的显示装置，可举出液晶显示装置、有机EL显示装置等。其中，尤其适合用于对平坦化层、像素分割层要求高耐热性、低逸气性的有机EL显示装置。将本发明的感光性树脂组合物固化而得到的固化膜可以仅用于平坦化层、像素分割层中的任一者，也可以用于两者，尤其合适地用于尤其要求阶差形状的像素分割层。即，本发明的感光性树脂组合物优选用于一次性形成有机EL显示装置中的像素分割层的阶差形状。
此外，本发明的感光性树脂组合物由于含有(D)着色剂，因此能够防止电极布线的可见或者减少外部光反射，能够提高图像显示中的对比度。因此，通过将由本发明的感光性树脂组合物得到的固化膜用作有机EL显示装置的像素分割层，从而能够于不在发光元件的光取出侧形成偏光板及1/4波长板的情况下提高对比度。
就由本发明的感光性树脂组合物得到的固化膜而言，厚度为1.0μm时的光密度(OD值)宜优选为0.3以上，更优选为0.5以上，进一步优选为1.0以上，且优选为3.0以下，更优选为2.5以下，进一步优选为2.0以下。通过使光密度为0.3以上，有助于提高显示装置的对比度，通过使光密度为3.0以下，能够减少图案开口部残渣。
由本发明的感光性树脂组合物得到的固化膜的压入弹性模量宜优选为7.0GPa以上，更优选为7.5GPa以上，进一步优选为8.0GPa以上，且优选为12.0GPa以下，更优选为11.0GPa以下，进一步优选为10.0GPa以下。通过使压入弹性模量在上述范围内，能够提高固化膜的耐损伤性，在将固化膜用于有机EL显示装置的像素分割层的情况下，能够抑制使蒸镀掩模与像素分割层接触时的颗粒产生。压入弹性模量利用纳米压痕法，以遵照ISO14577的方法算出。测定在固化膜的厚膜部进行。作为测定条件的优选例，可举出以下的方法。
作为测定装置，使用Elionix公司制超微小压入硬度试验机ENT-2100，作为压头，使用伯克维奇(Berkovich)压头(三角锥，双面角115°)，于25℃的测定温度以试验数n＝5进行测定，算出平均值。最大试验负荷在压头的压入深度成为固化膜的膜厚的10％以下这样的条件下进行。其原因在于，超过10％时，会受到基底基材的影响，固化膜的压入弹性模量变得不准确。
对于有源矩阵型的显示装置而言，在玻璃等基板上具有TFT和位于TFT的侧方部并与TFT连接的布线，在其上以覆盖凹凸的方式具有平坦化层，进而在平坦化层上设置有显示元件。显示元件与布线经由形成于平坦化层中的接触孔连接。
图2中示出形成有平坦化层和像素分割层的TFT基板的剖视图。在基板6上以行列状设置有底栅型或顶栅型的TFT7，以覆盖该TFT7的状态形成有TFT绝缘膜8。另外，在该TFT绝缘膜8的下方设置有与TFT7连接的布线9。进而，在TFT绝缘膜8上，设置有开口于布线9的接触孔10，并且以将它们掩埋的状态设置有平坦化层11。在平坦化层11中，以达到布线9的接触孔10的方式设置有开口部。而且，以经由该接触孔10与布线9连接的状态，在平坦化层11上形成有电极12。此处，电极12成为显示元件(例如有机EL元件)的电极。而且，以覆盖电极12的周缘的方式形成像素分割层13。该有机EL元件可以是从与基板6相反的一侧释放所发出的光的顶部发光型，也可以是从基板6侧提取出光的底部发光型。
实施例
以下举出实施例等对本发明进行说明，但本发明并不受这些例子的限定。需要说明的是，实施例中的感光性树脂组合物的评价利用以下的方法进行。
(1)平均分子量测定
就实施例中使用的树脂(P1)～(P4)的分子量而言，使用GPC(凝胶渗透色谱)装置Waters2690-996(日本WATERS(株)制)，将N-甲基-2-吡咯烷酮(以下称为NMP)作为洗脱溶剂而进行测定，计算以聚苯乙烯换算计的数均分子量(Mn)。
(2)膜厚测定
使用表面粗糙度·轮廓形状测定机(SURFCOM1400D；东京精密(株)制)，使测定倍率为10,000倍、测定长度为1.0mm、测定速度为0.30mm/s，测定预烘烤后、显影后及固化后的膜厚。
(3)敏感度评价
利用旋涂法，以任意的转速将各实施例的感光性树脂组合物涂布于OA-10玻璃板(日本电气硝子(株)制)上，得到感光性树脂膜，作为干燥工序，在100℃的加热板上预烘烤2分钟，得到膜厚为3.5μm的感光性树脂膜。接下来，使用双面对准单面曝光装置(掩模对准器PEM-6M；Union Optical(株)制)，隔着敏感度测定用的灰阶掩模(光掩模)，利用超高压汞灯的i线(波长为365nm)、h线(波长为405nm)及g线(波长为436nm)进行图案曝光。然后，使用自动显影装置(泷泽产业(株)制AD-2000)，用2.38质量％的四甲基氢氧化铵水溶液对经曝光的感光性树脂膜进行喷淋显影90秒，接着用纯水漂洗30秒。使用FDP显微镜MX61(Olympus(株)公司制)，以50倍的倍率对利用上述方法得到的经显影的感光性树脂膜的图案进行观察，求出以1比1的宽度形成20μm的线与间隙图案的曝光量(将其称为最佳曝光量)，将其作为敏感度。
(4)固化膜的截面形状评价
将带有(3)敏感度评价中得到的经显影的感光性树脂膜的基板在氮气氛下、在250℃的烘箱中进行60分钟固化(加热处理)，得到固化膜。针对得到的固化膜的20μm图案线，使用扫描电子显微镜(日立制作所(株)制，“S-4800型”)对截面形状进行观察，将图4中的基板17与绝缘层18的斜面部分所成的角度中最大的角度作为锥角θ，测量θ值。
(5)固化膜的阶差形状评价
利用旋涂法，以任意的转速将各实施例的感光性树脂组合物涂布于OA-10玻璃板(日本电气硝子(株)制)上，于100℃的加热板上预烘烤2分钟，得到膜厚为3.5μm的膜。接下来，使用双面对准单面曝光装置(掩模对准器PEM-6M；Union Optical(株)制)，隔着具有图3所示的透光部16及遮光部15、且半透光部14的透射率为30％的半色调光掩模，利用超高压汞灯的i线(波长365nm)、h线(波长405nm)及g线(波长436nm)，以(3)敏感度评价中得到的最佳曝光量进行图案曝光。就使用的半色调光掩模的线宽度而言，半透光部14、遮光部15、透光部16各自为12μm。然后，使用自动显影装置(泷泽产业(株)制AD-2000)，用2.38质量％四甲基氢氧化铵水溶液进行90秒喷淋显影，接着用纯水漂洗30秒。接下来，将得到的带有经显影的感光性树脂膜的基板在氮气氛下的烘箱中以下述3个条件分别进行固化。
条件1：250℃/60分钟
条件2：270℃/60分钟
条件3：300℃/60分钟
使用扫描电子显微镜(日立制作所(株)制，“S-4800型”)，观察得到的固化膜的截面形状，将可得到阶差形状、薄膜部中包含相对于基板的倾斜角为3°以下的区域的情况判断为“良好”，将因固化时的图案流动而丧失阶差形状、薄膜部中不包含相对于基板的倾斜角为3°以下的区域的情况判断为“不良”。将可得到阶差形状的“良好”的例子示于图5，将丧失阶差形状的“不良”的例子示于图6。将在条件1～3下均为“良好”的情况判定为A，将仅在条件1、2下为“良好”的情况判定为B，将仅在条件1下为“良好”的情况判定为C，将在全部条件下为“不良”的情况判定为D。
(6)具有阶差形状的固化膜的膜厚评价
在(5)固化膜的阶差形状评价中通过条件1的固化而得到的固化膜中，利用(2)膜厚测定中记载的方法，对厚膜部的膜厚(TFT)、薄膜部的膜厚(THT)及厚膜部与薄膜部的膜厚差(ΔTFT-HT)进行测定。但是，仅限于(5)固化膜的阶差形状评价中可得到“良好”的阶差形状的情况，这以外的情况下无法测定。
(7)固化前后的图案尺寸变化
在(5)固化膜的阶差形状评价的固化膜制作工序中，将显影后的开口部的图案尺寸设为(CDDEV)、将条件1的固化后的同一部分的图案尺寸设为(CDCURE)的情况下，使用FDP显微镜MX61(OLYMPUS(株)公司制)，以50倍的倍率对显影后和固化后的图案尺寸变化量(CDDEV-CDCURE)进行测定。
(8)固化膜的压入弹性模量评价
使用超微小压入硬度试验机ENT-2100((株)ELIONIX制)，在以下的条件下，以测量数n＝5对(4)固化膜的截面形状评价中得到的固化膜的压入弹性模量进行测定，算出其平均值。
压头形状：伯克维奇压头(Berkovich)
负荷速度：0.02mN/秒
最大试验负荷：0.1mN
最大试验负荷保持时间：10秒
负荷去除速度：0.02mN/秒
测定温度：25℃。
(9)固化膜的吸水率评价
利用旋涂法，以任意的转速将各实施例的感光性树脂组合物涂布于预先测定了重量W0的6英寸硅晶片上，得到带有感光性树脂膜的基板，作为干燥工序，在100℃的加热板上预烘烤2分钟，得到带有膜厚为3.5μm的感光性树脂膜的基板。接下来，使用双面对准单面曝光装置(掩模对准器PEM-6M；Union Optical(株)制)，隔着敏感度测定用的灰阶掩模(光掩模)，利用超高压汞灯的i线(波长365nm)、h线(波长405nm)及g线(波长436nm)，以(3)敏感度评价中得到的最佳曝光量对得到的带有感光性树脂膜的基板整面进行曝光。然后，使用自动显影装置(泷泽产业(株)制AD-2000)，用2.38质量％四甲基氢氧化铵水溶液，对带有经曝光的感光性树脂膜的基板喷淋显影90秒，接着用纯水漂洗30秒。接下来，将带有经显影的感光性树脂膜的基板在氮气氛下、在250℃的烘箱中固化(加热处理)60分钟，得到带有固化膜的基板。对得到的带有固化膜的基板的重量W1进行测定，然后在超纯水中在23℃条件下浸渍24小时。从超纯水中取出后，充分地擦去附着于带有固化膜的基板上的水分，然后测定重量W2。而后，由以下的式(X)求出吸水率(％)。
吸水率＝(W2-W1)/(W1-W0)×100···式(X)。
(10)固化膜的光密度评价
使用光密度计(361TVisual；X-Rite公司制)，对在(5)固化膜的阶差形状评价的条件1(250℃/60分钟)下得到的固化膜的入射光及透射光的强度分别进行测定，由以下的式(Y)算出遮光性OD值。
OD值＝log10(I0/I)···式(Y)
I0：入射光强度
I：透射光强度。
(11)有机EL显示特性
<有机EL显示装置的制作方法>
图7中示出使用的有机EL显示装置的概略图。首先，利用溅射法，在38×46mm的无碱玻璃基板19的整个面上形成ITO透明导电膜10nm，进行蚀刻，形成第一电极20，同时也形成了用于取出第二电极的辅助电极21。用“Semico Clean 56”(商品名，Furuuchi Chemical(株)制)，将得到的基板超声波洗涤10分钟，然后用超纯水进行洗涤。接下来，利用旋涂法，将按照各实施例制作的感光性树脂组合物涂布于该基板整面，在100℃的加热板上预烘烤2分钟而形成膜。隔着光掩模对该膜进行UV曝光，然后用2.38％TMAH水溶液进行显影，使仅曝光部分溶解，然后用纯水进行漂洗，得到图案。将得到的图案在氮气氛下于250℃的烘箱中固化60分钟。以这样的方式，在宽度方向上以155μm的间距、并在长度方向上以465μm的间距配置了宽度为70μm且长度为260μm的开口部，并以限定于基板有效区域内的方式形成了像素分割层22，所述像素分割层22具有从各开口部露出第一电极的形状。需要说明的是，该开口部最终成为发光像素。另外，基板有效区域为16mm见方，像素分割层的厚度为约1.0μm。
接下来，使用形成有第一电极20、辅助电极21、像素分割层22的无碱玻璃基板19，进行有机EL显示装置的制作。作为前处理，进行氮等离子体处理，然后利用真空蒸镀法形成包含发光层的有机EL层23。需要说明的是，蒸镀时的真空度为1×10-3Pa以下，蒸镀中，使基板相对于蒸镀源旋转。首先，蒸镀10nm的化合物(HT-1)作为空穴注入层，蒸镀50nm的化合物(HT-2)作为空穴传输层。接下来，以掺杂浓度成为体积比10％的方式，在发光层上以40nm的厚度蒸镀作为主材料的化合物(GH-1)和作为掺杂材料的化合物(GD-1)。然后，将作为电子传输材料的化合物(ET-1)和(LiQ)以1：1的体积比层叠成40nm的厚度。有机EL层23中使用的化合物的结构如下所示。
[化学式9]
接下来，蒸镀2nm的LiQ，然后以10∶1的体积比蒸镀10nm的Mg和Ag而制成第2电极24。最后，通过在低湿氮气氛下使用环氧树脂系粘接剂将盖状玻璃板粘接，从而进行密封，在1片基板上制作4个5mm见方的发光装置。需要说明的是，此处所谓的膜厚是晶体振荡式膜厚监控器所显示的值。
<初始发光评价>
以10mA/cm2用直流驱动使利用上述方法制作的有机EL显示装置发光，确认是否有不发光、亮度不均、发光面积的缩小等发光特性异常。
<耐久性评价>
对利用上述方法制作的有机EL显示装置实施于80℃保持500小时的耐久性试验，然后以10mA/cm2用直流驱动使其发光，确认是否有不发光、亮度不均、发光面积的缩小等发光特性异常。
实施例及比较例中使用的化合物如下所示。
<(A)碱溶性树脂>
合成例1含有羟基的二胺化合物的合成
将18.3g(0.05摩尔)的2，2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷(以下称为BAHF)溶解于100mL的丙酮、17.4g(0.3摩尔)的环氧丙烷中，冷却至-15℃。向其中滴加将20.4g(0.11摩尔)的3-硝基苯甲酰氯溶解于100mL的丙酮中而得到的溶液。滴加结束后，于-15℃反应4小时，然后恢复至室温。将析出的白色固体过滤，于50℃进行真空干燥。
将30g固体放入到300mL的不锈钢高压釜中，使其分散于250mL的甲基溶纤剂中，添加2g的5％钯-碳。用气球向其中导入氢，于室温进行还原反应。约2小时后，确认气球不再继续软缩，结束反应。反应结束后，进行过滤从而除去作为催化剂的钯化合物，用旋转蒸发器进行浓缩，得到下式表示的含有羟基的二胺化合物。
[化学式10]
合成例2碱溶性树脂(P1)的合成
在干燥氮气流下，将58.6g(0.16摩尔)BAHF、8.7g(0.08摩尔)作为封端剂的3-氨基苯酚溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)300g中。向其中，与100g NMP一同加入62.0g(0.20摩尔)ODPA，于20℃搅拌1小时，接着于50℃搅拌4小时。然后，添加15g二甲苯，在使水与二甲苯一起共沸的同时，于150℃搅拌5小时。搅拌结束后，将溶液投入5L水中，收集白色沉淀。通过过滤收集该沉淀，用水洗涤3次后，利用80℃的真空干燥机干燥24小时，得到目标聚酰亚胺(P1)。聚酰亚胺(P1)的数均分子量为8200。
合成例3碱溶性树脂(P2)的合成
在干燥氮气流下，将62.0g(0.20摩尔)的3，3’，4，4’-二苯基醚四甲酸二酐(以下称为ODPA)溶解于500g的N-甲基-2-吡咯烷酮(以下称为NMP)中。向其中一并加入96.7g(0.16摩尔)的合成例1中得到的含有羟基的二胺化合物和100g的NMP，于20℃反应1小时，接着于50℃反应2小时。接下来，一并加入8.7g(0.08摩尔)作为封端剂的3-氨基苯酚和50g的NMP，于50℃反应2小时。然后，经10分钟滴加利用100g的NMP将47.7g(0.40摩尔)的N，N-二甲基甲酰胺二甲基缩醛进行稀释而得到的溶液。滴加后，于50℃搅拌3小时。搅拌结束后，将溶液冷却至室温，然后将溶液投入至5L水中，得到白色沉淀。通过过滤来收集该沉淀，用水洗涤3次后，利用80℃的真空干燥机干燥24小时，得到目标聚酰亚胺前体(P2)。聚酰亚胺前体(P2)的数均分子量为11000。
合成例4碱溶性树脂(P3)的合成
在干燥氮气流下，将0.16摩尔的二羧酸衍生物的混合物(其是使41.3g(0.16摩尔)的二苯基醚-4，4’-二甲酸与43.2g(0.32摩尔)的1-羟基-1，2，3-苯并***反应而得到的)和73.3g(0.20摩尔)的BAHF溶解于570g的NMP中，然后于75℃反应12小时。接下来，添加溶解于70g的NMP中的5-降冰片烯-2，3-二甲酸酐13.1g(0.08摩尔)，进一步搅拌12小时，结束反应。将反应混合物过滤后，将反应混合物投入至水/甲醇＝3/1(容积比)的溶液中而得到白色沉淀。通过过滤收集该沉淀，用水洗涤3次后，利用80℃的真空干燥机干燥24小时，得到目标聚苯并噁唑(PBO)前体(P3)。PBO前体(P3)的数均分子量为8500。
合成例5碱溶性树脂(P4)的合成
利用已知的方法(日本专利第3120476号；实施例1)，合成甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(质量比30/40/30)。使40质量份的甲基丙烯酸缩水甘油酯与100质量份的该共聚物进行加成，用纯化水使其再沉淀，并进行过滤及干燥，由此得到重均分子量(Mw)为15000、酸值为110(mgKOH/g)的丙烯酸树脂(P4)(其为包含自由基聚合性单体的聚合物)。
合成例6光产酸剂的合成
在干燥氮气流下，将21.22g(0.05摩尔)的TrisP-PA(商品名，本州化学工业(株)制)和36.27g(0.135摩尔)的二叠氮基萘醌-5-磺酰氯溶解于450g的1，4-二氧杂环己烷中，使其为室温。以体系内不达到35℃以上的方式向其中滴加与1，4-二氧杂环己烷50g混合的三乙胺15.18g。滴加后于30℃搅拌2小时。将三乙胺盐过滤，将滤液投入至水中。然后，通过过滤收集析出的沉淀。利用真空干燥机将该沉淀干燥，得到下式表示的光产酸剂。
[化学式11]
其他碱溶性树脂
V259ME：Cardo树脂的PGMEA溶液(固态成分浓度为56.5质量％，New Nippon SteelChemical Co.，Ltd.制)。
<(B)自由基聚合性化合物>
ADDM：1，3-金刚烷二甲基丙烯酸酯(Mitsubishi Gas Chemical Company，Inc.制)均聚物的Tg为245[℃]，官能团数为2
DCP-A：“Light Acrylate”(注册商标)DCP-A(二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯，共荣社化学(株)制)均聚物的Tg为190[℃]，官能团数为2
DCP-M：Light Ester DCP-M(二羟甲基三环癸烷二甲基丙烯酸酯，共荣社化学(株)制)，均聚物的Tg为214[℃]，官能团数为2
DPCA-60：“KAYARAD”(注册商标)DPCA-60(在分子中具有6个亚戊基羰基结构的己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯，日本化药(株)制)，均聚物的Tg为60[℃]，官能团数为6
DPHA：“KAYARAD”(注册商标)DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯，日本化药(株)制)，均聚物的Tg为80[℃]，官能团数为6
M-315：“ARONIX”(注册商标)M-315(异氰脲酸环氧乙烷改性三丙烯酸酯，东亚合成(株)制)，均聚物的Tg为272[℃]，官能团数为3
PE-4A：“Light Acrylate”(注册商标)PE-4A(季戊四醇四丙烯酸酯，共荣社化学(株)制)，均聚物的Tg为103[℃]，官能团数为4。
<(C)光聚合引发剂>
NCI-831：“ADEKA ARKLS”(注册商标)NCI-831(肟酯系光聚合引发剂，(株)ADEKA制)。
<(D)着色剂>
BLACK S0084：“IRGAPHOR”(注册商标)BLACK S0084(苝系黑色颜料，BASF制)
BLACK S0100CF：“IRGAPHOR”(注册商标)BLACK S0100CF(苯并呋喃酮系黑色颜料，BASF制)
D.Y.201：C.I.分散黄201(黄色染料)
P.B.15：6；C.I颜料蓝15：6(蓝色颜料)
P.R.254：C.I颜料红254(红色颜料)
P.Y.139：C.I颜料黄139(黄色颜料)
S.B.63：C.I.溶剂蓝63(蓝色染料)
S.R.18：C.I.溶剂红18(红色染料)
TPK-1227：进行了导入磺酸基的表面处理的炭黑(CABOT制)。
<(E)热交联剂>
HMOM-TPHAP：(具有6个甲氧基甲基的化合物，本州化学工业(株)制)
MW-100-LM：“NIKALAC”(注册商标)MW-100-LM(具有6个甲氧基甲基的化合物，NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.，INC.制)
MX-270：“NIKALAC”(注册商标)MX-270(具有4个甲氧基甲基的化合物，NIPPONCARBIDE INDUSTRIES CO.，INC.制)
VG3101L：“TECHMORE”(注册商标)VG3101L(具有3个环氧基的化合物，PrintecCorporation制)。
<(F)分散剂>
S-20000：“SOLSPERSE”(注册商标)20000(聚醚系分散剂，Lubrizol制)。
<溶剂>
GBL：γ-丁内酯
MBA：乙酸-3-甲氧基丁酯。
<颜料分散液的制备>
制备例1
称量33.3g作为碱溶性树脂的合成例2中得到的(P1)和117g作为溶剂的MBA，进行混合，得到树脂溶液。称量33.3g作为分散剂的SOLSPERSE 20000、828g作为溶剂的MBA、100g作为着色剂的Irgaphor Black S0100CF，将它们混合至上述树脂溶液中，使用高速分散机(均质分散器2.5型；PRIMIX(株)制)，搅拌20分钟，得到预分散液。向具备离心分离器(所述离心分离器中填充有75％的直径为0.30mm的氧化锆粉碎球(YTZ；TOSOH(株)制)作为颜料分散用的陶瓷珠)的Ultra Apex Mill(UAM-015；寿工业(株)制)中供给得到的预分散液，以转子的圆周速度为7.0m/s的条件处理3小时，得到固态成分浓度为15质量％、着色剂/树脂＝60/40(质量比)的颜料分散液(Dsp-1)。
制备例2～8
利用与制备例1同样的方法，得到化合物的类型和量如表1记载的分散液Dsp-2～8。
实施例1
在黄色灯下，称量8.0g作为(A)碱溶性树脂的合成例2中得到的(P1)、作为(B)自由基聚合性化合物的DCP-M 3.0g和DPCA-603.0g、1.5g作为(C)光聚合引发剂的NCI-831、2.0g作为(E)热交联剂的MW-100-LM，向其中添加99.1g MBA，进行搅拌，使其溶解，得到预调和液。接下来，称量66.7g制备例1中得到的颜料分散液(Dsp-1)，向其中添加上文中得到的预调和液，进行搅拌，形成均匀溶液。此处，称量的颜料分散液(Dsp-1)中包含的作为(A)碱溶性树脂的(P1)为2.0g，作为(D)着色剂的BLACK S0100CF为6.0g，作为(F)分散剂的S-20000为2.0g，MBA为56.7g。然后，用孔径为1μm的过滤器将得到的溶液过滤，得到感光性树脂组合物A。使用得到的感光性树脂组合物，实施上述(3)～(10)的评价。
实施例2～15、17～20、比较例1～4
利用与实施例1同样的方法，得到了化合物的类型和量如表2～4中记载的感光性树脂组合物B～P、R～U、感光性树脂组合物a～d。使用得到的感光性树脂组合物，实施上述(3)～(10)的评价。
实施例16
在黄色灯下，称量10.0g作为(A)碱溶性树脂的合成例2中得到的(P1)、作为(B)自由基聚合性化合物的DCP-M 3.0g和DPCA-603.0g、1.5g作为(C)光聚合引发剂的NCI-831、作为(D)着色剂的染料的S.B.63 3.0g、S.R.18 2.0g、D.Y.201 1.0g、2.0g作为(E)热交联剂的MW-100-LM，向其中添加144.5g GBL，进行搅拌，使其溶解。然后，用孔径为1μm的过滤器将得到的溶液过滤，得到感光性树脂组合物Q。使用得到的感光性树脂组合物，实施上述(3)～(10)的评价。
比较例5
在黄色灯下，称量10.0g作为(A)碱溶性树脂的合成例2中得到的(P1)、作为(D)着色剂的染料的S.B.63 3.0g、S.R.18 2.0g、D.Y.201 1.0g、2.0g作为(E)热交联剂的MW-100-LM、以及1.5g合成例6中得到的光酸产生剂，向其中添加102.0g GBL，进行搅拌，使其溶解。然后，用孔径为1μm的过滤器将得到的溶液过滤，得到感光性树脂组合物e。使用得到的感光性树脂组合物，实施上述(3)～(10)的评价。
将实施例及比较例的评价结果示于表2～4。
就实施例1～20而言，250℃的固化中均得到了良好的阶差形状的固化膜。此外，就将(B)自由基聚合性化合物形成聚合物时的玻璃化转变温度为110℃以上的实施例1～16、18～20而言，即使是270℃的固化也可得到良好的阶差形状的固化膜，就将(B)自由基聚合性化合物形成聚合物时的玻璃化转变温度为120℃以上的实施例1、3～16、18～20而言，即使是300℃的固化也可得到良好的阶差形状的固化膜。与此相对，就使用除聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物以外的树脂作为(A)碱溶性树脂的比较例1、2、以及仅含有(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物作为(B)自由基聚合性化合物的比较例3而言，250℃的固化中，因固化时的图案流动而丧失阶差形状。另外，就仅含有(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物作为(B)自由基聚合性化合物的比较例4而言，虽然可得到良好的阶差形状的固化膜，但是在有机EL显示特性的初始发光评价中为不发光。认为是锥角高达72°，发生了第二电极的断线等不良情况。
就使用了正型感光性树脂组合物的比较例5而言，在250、270、300℃的任意固化条件下均可得到良好的阶差形状的固化膜，但与实施例相比，敏感度大幅恶化。
另外，就含有(E-1)具有合计6个以上且20个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物作为(E)热交联剂的实施例1～8、12～21的固化膜而言，与不含有(E-1)化合物的实施例9～11的固化膜相比，压入弹性模量更高。这表示得到了更高硬度的固化膜，认为能够抑制使蒸镀掩模与像素分割层接触时的颗粒产生。
另外，就含有具有仅由碳原子和氢原子构成的脂环式结构的(甲基)丙烯酸类化合物作为(B-1)成分的实施例1、2、3而言，与含有具有含杂原子的脂环式结构的(甲基)丙烯酸类化合物的实施例4相比，敏感度更高，得到的固化膜的吸水率更低。
另外，就使用了具有甲基丙烯酰基作为自由基聚合性基团的自由基聚合性化合物作为(B-1)成分的实施例1、3而言，与使用了仅具有丙烯酰基作为自由基聚合性基团的自由基聚合性化合物的实施例2、4相比，敏感度更高，且得到的固化膜的吸水率更低。
另外，就含有内酯改性(甲基)丙烯酸类化合物作为(B-2)成分的实施例1而言，与含有未进行内酯改性的(甲基)丙烯酸类化合物的实施例5、6相比，敏感度更高。
此外，从有机EL显示装置的耐久性评价结果来看，就实施例1～20而言，在耐久性评价后也显示出良好的发光特性，与此相对，就关于树脂使用了除聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物以外的树脂作为(A)碱溶性树脂的比较例1、2而言，在耐久性评价后观察到发光面积的缩小。认为因由耐热性低的树脂成分产生的气体成分而使得有机发光材料发生劣化。
附图标记说明
1：基板
2：固化膜
3：厚膜部
4：薄膜部
5：薄膜部
6：基板
7：TFT
8：TFT绝缘膜
9：布线
10：接触孔
11：平坦化层
12：电极
13：像素分割层
14：半透光部
15：遮光部
16：透光部
17：基板
18：绝缘层
19：无碱玻璃基板
20：第一电极
21：辅助电极
22：像素分割层
23：有机EL层
24：第二电极

Claims (20)

1.感光性树脂组合物，其含有(A)碱溶性树脂、(B)自由基聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)着色剂，所述(A)碱溶性树脂含有聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑前体及/或它们的共聚物，所述(B)自由基聚合性化合物含有：(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物；及(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物含有脂环式结构。
3.如权利要求2所述的感光性树脂组合物，其中，所述脂环式结构为由三环癸基、金刚烷基、羟基金刚烷基、五环十五烷基及异氰脲酸酯基组成的组中的任一种。
4.如权利要求1～3中任一项所述的感光性树脂组合物，其用于一次性形成有机EL显示装置中的像素分割层的阶差形状。
5.如权利要求1～4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物包含含有通式(3)表示的结构的(甲基)丙烯酸类化合物，
[化学式1]
通式(3)中，R29表示氢或碳原子数1～10的烃基；Z表示氧原子或N-R30中的任一者；R30表示氢原子或碳原子数1～10的烃基；a表示1～10的整数，b表示1～10的整数，c表示0或1，d表示1～4的整数，e表示0或1；c为0时，d为1。
6.如权利要求5所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物包含具有内酯改性链及/或内酰胺改性链的(甲基)丙烯酸类化合物。
7.如权利要求1～6中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物含有甲基丙烯酰基。
8.如权利要求1～7中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B-1)形成均聚物时的玻璃化转变温度为150℃以上的2官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物在所述(B)自由基聚合性化合物100质量份中所占的含量为20～80质量份，并且所述(B-2)除(B-1)以外的4官能以上的(甲基)丙烯酸类化合物在所述(B)自由基聚合性化合物100质量份中所占的含量为20～80质量份。
9.如权利要求1～8中任一项所述的感光性树脂组合物，其还含有(E)热交联剂。
10.如权利要求9所述的感光性树脂组合物，其中，所述(E)热交联剂含有(E-1)具有合计6个以上且20个以下的羟甲基及/或烷氧基甲基的化合物。
11.如权利要求1～10中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(D)着色剂含有具有苯并呋喃酮结构的黑色颜料及/或苝系黑色颜料。
12.固化膜，其是由权利要求1～11中任一项所述的感光性树脂组合物的固化物形成的。
13.如权利要求12所述的固化膜，其中，所述固化膜具有阶差形状。
14.如权利要求12或13所述的固化膜，其中，所述固化膜的压入弹性模量在7.0GPa以上且12.0GPa以下的范围内。
15.如权利要求13或14所述的固化膜，其中，在具有所述阶差形状的固化膜中，将厚膜部的膜厚设为(TFT)、将薄膜部的膜厚设为(THT)μm并将所述厚膜部的膜厚(TFT)与薄膜部的膜厚(THT)的膜厚差设为(ΔTFT-HT)μm时，所述厚膜部的膜厚(TFT)、所述薄膜部的膜厚(THT)以及所述厚膜部的膜厚与薄膜部的膜厚的膜厚差(ΔTFT-HT)满足式(α)～(γ)表示的关系，
1.0≤(TFT)≤5.0 (α)
0.2≤(THT)≤4.0 (β)
0.5≤(ΔTFT-HT)≤4.0 (γ)。
16.元件，其具备权利要求12～～15中任一项所述的固化膜。
17.有机EL显示装置，其具备权利要求12～15中任一项所述的固化膜。
18.固化膜的制造方法，其包括下述工序：
工序(1)，将权利要求1～11中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基板上，形成感光性树脂膜；
工序(2)，对所述感光性树脂膜进行干燥；
工序(3)，隔着光掩模对经干燥的感光性树脂膜进行曝光；
工序(4)，对经曝光的感光性树脂膜进行显影；及
工序(5)，对经显影的感光性树脂膜进行加热处理。
19.如权利要求18所述的固化膜的制造方法，其中，所述光掩模为具有包含透光部及遮光部的图案的光掩模，并且所述光掩模为在所述透光部与遮光部之间具有半透光部的半色调光掩模，所述半透光部的透射率低于透光部的值且高于遮光部的值。
20.有机EL显示装置的制造方法，其包括利用权利要求18或19所述的方法形成固化膜的工序。
CN201880019517.1A 2017-03-28 2018-03-16 感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机el显示装置、固化膜的制造方法及有机el显示装置的制造方法 Pending CN110462513A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-062368 2017-03-28
JP2017062368 2017-03-28
PCT/JP2018/010458 WO2018180592A1 (ja) 2017-03-28 2018-03-16 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機ｅｌ表示装置、硬化膜の製造方法、および有機ｅｌ表示装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110462513A true CN110462513A (zh) 2019-11-15

Family

ID=63675521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880019517.1A Pending CN110462513A (zh) 2017-03-28 2018-03-16 感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机el显示装置、固化膜的制造方法及有机el显示装置的制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20200012191A1 (zh)
JP (1) JP6891880B2 (zh)
KR (1) KR102254366B1 (zh)
CN (1) CN110462513A (zh)
TW (1) TWI757457B (zh)
WO (1) WO2018180592A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115768832A (zh) * 2020-06-05 2023-03-07 富士胶片株式会社 树脂组合物及其制造方法以及图案形成用组合物的制造方法
CN115916526A (zh) * 2020-06-24 2023-04-04 日东电工株式会社 光学层叠体、带粘合剂层的光学层叠体以及图像显示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7163741B2 (ja) * 2018-11-28 2022-11-01 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタおよび液晶表示装置
CN110190098B (zh) * 2019-05-28 2022-06-10 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示模组和显示装置
CN114127638A (zh) * 2019-07-10 2022-03-01 东丽株式会社 负型感光性树脂组合物、固化膜、有机el显示器及固化膜的制造方法
WO2021010683A1 (ko) * 2019-07-12 2021-01-21 주식회사 삼양사 감광성 수지 조성물
CN111613649A (zh) * 2020-05-18 2020-09-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
JP7491116B2 (ja) 2020-07-22 2024-05-28 Ｈｄマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物、パターン硬化物の製造方法、及び電子部品
WO2022118619A1 (ja) 2020-12-02 2022-06-09 三菱瓦斯化学株式会社 感光性ポリイミド樹脂組成物、樹脂膜及び電子装置
WO2022203071A1 (ja) * 2021-03-26 2022-09-29 リンテック株式会社 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた硬化樹脂層
JPWO2022270182A1 (zh) 2021-06-22 2022-12-29
KR20230027438A (ko) * 2021-08-19 2023-02-28 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물 및 표시 소자

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0590984A1 (en) * 1992-09-30 1994-04-06 Sharp Kabushiki Kaisha A polymer dispersed liquid crystal complex film, a liquid crystal display device, and a method for producing the same
JP2009229934A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法
US20130203920A1 (en) * 2012-02-03 2013-08-08 Jnc Petrochemical Corporation Polymer composition having photoalignable group, liquid crystal alignment film formed of the polymer composition, and liquid crystal display device having phase difference plate formed of the liquid crystal alignment film
JP2015004000A (ja) * 2013-06-21 2015-01-08 東レ株式会社 樹脂組成物
CN104981737A (zh) * 2013-02-12 2015-10-14 东丽株式会社 感光性树脂组合物、使其热固化而成的保护膜或绝缘膜、使用其的触摸面板及其制造方法
JP2016086000A (ja) * 2014-10-22 2016-05-19 太陽インキ製造株式会社 ドライフィルムおよびプリント配線板
WO2016140024A1 (ja) * 2015-03-04 2016-09-09 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜の製造方法および半導体装置
WO2016194769A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 ポリイミド前駆体組成物、感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、半導体デバイスおよびポリイミド前駆体組成物の製造方法
WO2017002859A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4300847B2 (ja) * 2003-04-01 2009-07-22 Ｊｓｒ株式会社 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜
US20080306180A1 (en) * 2003-12-22 2008-12-11 Chika Amishima Polyamide Acid Resin Containing Unsaturated Group, Photosensitive Resin Composition Using Same, and Cured Product Thereof
JP2005322564A (ja) 2004-05-11 2005-11-17 Sony Corp 表示装置の製造方法および表示装置
TWI398724B (zh) 2005-03-15 2013-06-11 Toray Industries 感光性樹脂組成物
JP2007294118A (ja) 2006-04-21 2007-11-08 Toppan Printing Co Ltd 有機ｅｌ表示素子及びその製造方法
JP4640505B2 (ja) 2006-09-12 2011-03-02 日立化成工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリクスの形成方法、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ
WO2012008736A2 (ko) 2010-07-14 2012-01-19 주식회사 엘지화학 파지티브 타입 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 블랙 뱅크
WO2013035298A1 (ja) 2011-09-08 2013-03-14 シャープ株式会社 表示装置及びその製造方法
JP5639284B2 (ja) * 2011-12-06 2014-12-10 株式会社カネカ 黒色感光性樹脂組成物及びその利用
JP6373571B2 (ja) * 2013-11-14 2018-08-15 東京応化工業株式会社 ブラックカラムスペーサ形成用感光性樹脂組成物
EP3270664A4 (en) * 2015-03-11 2018-10-31 Toray Industries, Inc. Organic el display device and method for manufacturing same
JP2016177190A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 三菱化学株式会社 着色スペーサー形成用感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP6172395B2 (ja) * 2015-03-30 2017-08-02 東レ株式会社 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル
KR102121343B1 (ko) * 2015-09-30 2020-06-10 도레이 카부시키가이샤 네가티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 표시 장치, 및 그의 제조 방법

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0590984A1 (en) * 1992-09-30 1994-04-06 Sharp Kabushiki Kaisha A polymer dispersed liquid crystal complex film, a liquid crystal display device, and a method for producing the same
JP2009229934A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法
US20130203920A1 (en) * 2012-02-03 2013-08-08 Jnc Petrochemical Corporation Polymer composition having photoalignable group, liquid crystal alignment film formed of the polymer composition, and liquid crystal display device having phase difference plate formed of the liquid crystal alignment film
CN104981737A (zh) * 2013-02-12 2015-10-14 东丽株式会社 感光性树脂组合物、使其热固化而成的保护膜或绝缘膜、使用其的触摸面板及其制造方法
JP2015004000A (ja) * 2013-06-21 2015-01-08 東レ株式会社 樹脂組成物
JP2016086000A (ja) * 2014-10-22 2016-05-19 太陽インキ製造株式会社 ドライフィルムおよびプリント配線板
WO2016140024A1 (ja) * 2015-03-04 2016-09-09 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜の製造方法および半導体装置
WO2016194769A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 ポリイミド前駆体組成物、感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、半導体デバイスおよびポリイミド前駆体組成物の製造方法
WO2017002859A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115768832A (zh) * 2020-06-05 2023-03-07 富士胶片株式会社 树脂组合物及其制造方法以及图案形成用组合物的制造方法
CN115916526A (zh) * 2020-06-24 2023-04-04 日东电工株式会社 光学层叠体、带粘合剂层的光学层叠体以及图像显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP6891880B2 (ja) 2021-06-18
US20200012191A1 (en) 2020-01-09
WO2018180592A1 (ja) 2018-10-04
TWI757457B (zh) 2022-03-11
JPWO2018180592A1 (ja) 2020-02-06
KR102254366B1 (ko) 2021-05-24
KR20190125983A (ko) 2019-11-07
TW201841983A (zh) 2018-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110462513A (zh) 感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备固化膜的有机el显示装置、固化膜的制造方法及有机el显示装置的制造方法
CN108027562B (zh) 负型着色感光性树脂组合物、固化膜、元件及显示装置
CN107409457B (zh) 有机el显示装置及其制造方法
CN100555078C (zh) 感光树脂组合物及用其制备的电子元件和显示装置
CN108027561B (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件及显示装置、以及其制造方法
JP6172395B2 (ja) 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル
KR101314513B1 (ko) 감광성 수지 조성물
CN108885399A (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的显示装置、及其制造方法
CN110392864A (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件及有机el显示器、以及其制造方法
CN109804310A (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件及显示装置、以及其制造方法
CN108604062A (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具有固化膜的显示装置、及其制造方法
JP7106863B2 (ja) 有機ｅｌ表示装置用感光性樹脂組成物
KR102658207B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자, 경화막을 구비하는 유기 el 표시 장치, 경화막의 제조 방법, 및 유기 el 표시 장치의 제조 방법
CN110024485A (zh) 有机el显示装置
JP4360168B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
WO2021182499A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置および感光性樹脂組成物
CN109328322A (zh) 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件、具备元件的显示装置、及有机el显示器
KR102090286B1 (ko) 포토레지스트 조성물, 이를 이용하는 포토리소그라피 공정, 및 이를 이용하여 제조된 화소 구획 층
JPWO2020175150A1 (ja) 樹脂組成物、黒色樹脂膜、積層体および表示装置
WO2018025417A1 (ja) 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20191115

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication