CN110381657B - 消除静电的设备 - Google Patents
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Abstract
在本申请所提供的消除静电的设备中,所述消除静电的设备包括载台、管道和离子发生装置,所述载台用于承载基板,所述载台具有若干通孔,所述通孔贯穿所述载台,所述管道包括进气端和出气端,所述进气端用于输入气体,所述出气端连接所述载台的通孔,所述离子发生装置设置于所述管道的气流通路上,所述离子发生装置用于对进入所述管道的气体进行离子化,即形成离子化气体,所述离子化后的气体经过所述管道输送至所述载台承载基板的表面,与所述载台承载的基板表面所带有的电荷中和,从而提高消除静电的能力。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种消除静电的设备。
背景技术
在显示面板在制作过程中,基板和设备之间的相对运动会不可避免的产生静电,其危害表现为静电吸附引起基板破片和静电放电引起的器件击穿。当前消除静电的方法为通过加装X射线发生装置来进行消除静电,但是,这种消除静电的方法无法完全消除静电,且成本较高。
发明内容
本申请实施例提供一种消除静电的设备,以提高消除静电的能力。
本申请实施例提供一种消除静电的设备,包括:
载台,所述载台用于承载基板,所述载台具有若干通孔,所述通孔贯穿所述载台;
管道,所述管道包括进气端和出气端,所述进气端用于输入气体,所述出气端连接所述载台的通孔;以及
离子发生装置,所述离子发生装置设置于所述管道的气流通路上,所述离子发生装置用于对进入所述管道的气体进行离子化,所述离子化后的气体经过所述管道输送至所述载台,并通过所述通孔传输至所述载台承载基板的表面。
在本申请所提供的消除静电的设备中,所述管道分为一第一子管道、一第二子管道、若干第三子管道和若干第四子管道,所述第一子管道连接所述第二子管道,所述第二子管道连接若干所述第三子管道,每一所述第三子管道连接一个所述第四子管道,每一所述第四子管道连接若干所述通孔。
在本申请所提供的消除静电的设备中,所述第一子管道包括一第一进气子端和一第一出气子端,所述离子发生装置设置于所述第一进气子端和第一出气子端之间,所述第一出气子端连接所述第二子管道,所述第二子管道包括一第二进气子端和若干第二出气子端,所述第二进气子端连接所述第一出气子端,每一所述第二出气子端连接一个所述第三子管道。
在本申请所提供的消除静电的设备中,每一所述第三子管道包括一第三进气子端和一第三出气子端,若干所述第三进气子端与若干所述第二出气子端一一对应连接,每一所述第三出气子端连接一个所述第四子管道。
在本申请所提供的消除静电的设备中,每一所述第四子管道包括一第四进气子端和若干第四出气子端,若干所述第四进气子端和若干所述第三出气子端一一对应连接,若干所述第四出气子端和所述载台的通孔一一对应连接。
在本申请所提供的消除静电的设备中,所述消除静电的设备还包括第一压力容器,所述第一压力容器设置于所述第一子管道的气流通路上,所述第一压力容器位于所述第一进气子端和所述第一出气子端之间,所述离子发生装置设置于所述第一压力容器内。
在本申请所提供的消除静电的设备中,其特征在于,所述消除静电的设备还包括一第一阀门,所述第一阀门设置于所述第一压力容器和所述第一出气子端之间。
在本申请所提供的消除静电的设备中,其特征在于,所述管道还包括第五子管道,所述第五子管道包括第五进气子端和第五出气子端,所述第一子管道还包括第六出气子端,所述第六出气子端设置于所述第一阀门和所述第一出气子端之间,所述第五进气子端连通所述第六出气子端,所述第五出气子端用于排出气体。
在本申请所提供的消除静电的设备中,其特征在于,所述消除静电设备还包括第二压力容器,所述第二压力容器位于所述第五子管道的通路上。
在本申请所提供的消除静电设备中,其特征在于,所述消除静电设备还包括第二阀门,所述第二阀门设置于所述第五进气子端和所述第二压力容器之间。
本申请所提供的消除静电设备中,所述消除静电设备包括载台、管道和离子发生装置,所述载台用于承载基板,所述载台具有若干通孔,所述通孔贯穿所述载台,所述管道包括进气端和出气端,所述进气端用于输入气体,所述出气端连接所述载台的通孔,所述离子发生装置设置于所述管道的气流通路上,所述离子发生装置用于对进入所述管道的干燥气体进行离子化,即离子化气体,所述管道用于将所述离子化气体经过所述管道输送至所述载台,并通过所述通孔传输至所述载台承载基板的表面,本申请所提供的消除静电的设备利用所述离子发生装置,将所述干燥气体形成离子化气体,即形成带有正负电荷的气体,所述带有正负电荷的气体与所述基板所带有的电荷中和,从而提高消除静电的能力,并降低成本。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请提供的消除静电的设备示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
请参阅图1,图1为本申请提供的消除静电的设备示意图。所述消除静电的设备10包括载台100、管道1000和离子发生装置700。
所述载台100可以水平设置。所述载台100用于承载基板20。所述载台100具有若干通孔101。所述通孔101贯穿所述载台100。
在一种实施例中,所述通孔101可以垂直贯穿所述载台100用于承载基板20的表面30。在其他实施例中,所述通孔101的贯穿方向可以以合适的倾斜角度贯穿所述载台100,所述倾斜角度可以为50度、80度、150度等。所述通孔101与所述管道1000连接。
所述管道1000包括进气端1001和出气端1002。所述进气端1001用于输入气体。所述出气端1002连接所述通孔101。所述管道1000分为一第一子管道200、一第二子管道300、若干第三子管道400和若干第四子管道500。
所述第一子管道200包括第一进气子端201和第一出气子端203。所述第一进气子端201用于输入干燥气体。所述第一出气子端203连接所述第二子管道300。所述第一出气子端203用于将所述离子化气体传输至所述第二子管道300。
所述第二子管道300包括第二进气子端301和若干第二出气子端302。所述第二进气子端301与所述第一出气子端203连接。所述第二进气子端301用于将从所述第一出气子端203排出的所述离子化气体输入所述第二子管道300。每一所述第二出气子端302连接一个所述第三子管道400。所述第二出气子端302用于将所述离子化气体传输至所述第三子管道400。
每一所述第三子管道400包括第三进气子端401和第三出气子端402。若干所述第三进气子端401与若干所述第二出气子端302一一对应连接。所述第三进气子端401用于将从所述第二出气子端302流出的所述离子化气体输入所述第三子管道400。每一所述第三出气子端402连接一个所述第四子管道500。所述第三出气子端402用于将所述离子化气体传输至所述第四子管道500。
每一所述第四子管道500包括一第四进气子端501和若干第四出气子端502。若干所述第四进气子端501和若干所述第三出气子端402一一对应连接。所述第四进气子端501用于将从所述第三出气子端402流出的所述离子化气体输入所述第四子管道500。若干所述第四出气子端502和所述载台100的通孔101一一对应连接。所述第四出气子端502用于将所述离子化气体传输至所述载台100的通孔101。所述第四子管道500的管径比所述第三子管道400的管径小。在其他实施例中,所述第四子管道500的管径可以与所述第三子管道400的管径大小一样。
所述离子发生装置700设置于所述管道1000的气流通路上。具体的,所述离子发生装置700设置于所述第一子管道200的第一进气子端201和第一出气子端203之间。所述离子发生装置700用于对进入的干燥气体进行离子化,形成带有正负电荷的气体,即离子化气体。所述离子化气体经过所述管道1000输送至所述载台100承载基板20的表面30。
所述消除静电的设备10还包括第一压力容器801。所述第一压力容器801设置于所述第一子管道200的气流通路上。所述第一压力容器801位于所述第一进气子端201和所述第一出气子端203之间。所述离子发生装置700设置于所述第一压力容器801内。所述第一压力容器801用于对所述离子化气体进行缓冲。
所述消除静电的设备10还包括一第一阀门901。所述第一阀门901设置于所述第一压力容器801和所述第一出气子端203之间。所述第一阀门901用于控制所述离子化气体的传输速度,减少所述离子化气体高速流出时对所述载台100承载的基板20的破坏。所述消除静电的设备10在进行消除静电时,所述第一阀门901处于打开状态。所述消除静电的设备10在进行消除静电后,所述第一阀门901处于关闭状态。
所述管道1000还包括第五子管道600,所述第五子管道600包括第五进气子端601和第五出气子端602。所述第五子管道600用于输送剩余的气体。所述第一子管道200还包括第六出气子端202。所述第六出气子端202设置于所述第一阀门901和所述第一出气子端203之间。所述第五进气子端601连通所述第六出气子端203,所述第五进气子端601用于将传输至所述第一子管道200的第六出气子端202的剩余的气体输入所述第五子管道600。所述第五出气子端602用于排出所述剩余的气体。
所述消除静电的设备10还包括第二压力容器802。所述第二压力容器802位于所述第五子管道600的通路上。具体的,所述第二压力容器802设置于所述第五子管道600的第五进气子端601和第五出气子端602之间。所述第二压力容器802用于对所述剩余的气体进行缓冲。
所述消除静电的设备10还包括第二阀门902,所述第二阀门902设置于所述第五进气子端601和第二压力容器802之间。所述第二阀门902用于防止所述离子化气体排出。所述消除静电的设备10在进行消除静电时,所述第二阀门902处于关闭状态。所述消除静电的设备10在进行消除静电后,所述第二阀门902处于打开状态。
在本申请中,干燥气体从所述第一子管道200的第一进气子端201进入所述离子发生装置700,形成离子化的气体,即离子化气体,此时,所述第一阀门901打开,所述第二阀门902关闭,所述离子化气体经所述第一子管道200的第一出气子端203传输至所述第二子管道300,所述离子化气体从所述第二进气子端301输入所述第二子管道300,所述离子化气体经所述第二出气子端302传输至所述第三子管道400,所述离子化气体从所述第三进气子端401输入所述第三子管道400,所述离子化气体经所述第三出气子端402传输至所述第四子管道500,所述离子化气体从所述第四进气子端501输入所述第四子管道500,所述离子化气体经所述第四出气子端502传输至所述载台100的通孔101,所述离子化气体经所述载台100的通孔101传输至所述载台100承载基板20的表面30,所述离子化气体与所述载台100承载的基板20所带有的电荷进行中和,从而达到消除静电的目的,此时,所述第一阀门901关闭,所述第二阀门902打开,所述离子化气体与所述载台100承载的基板20所带有的电荷进行中和后,剩余的气体依次经所述第四子管道500、第三子管道400、第二子管道300和第一子管道200流至所述第六出气子端202,所述剩余的气体经所述第六出气子端202流至所述第五进气子端601,所述剩余的气体流经第五子管道600上设置的第二压力容器至所述第五出气子端602,所述剩余的气体从所述第五出气子端602排出。
本申请所提供的消除静电的设备中,所述消除静电的设备包括载台、管道和离子发生装置,所述载台用于承载基板,所述载台具有若干通孔,所述通孔贯穿所述载台,所述管道包括进气端和出气端,所述进气端用于输入干燥气体,所述出气端连接所述载台的通孔,所述离子发生装置设置于所述管道的气流通路上,所述离子发生装置用于对进入所述管道的干燥气体进行离子化,即离子化气体,所述管道用于将离子化气体经过所述管道输送至所述载台,并通过所述通孔至所述载台承载基板的表面,本申请提供的消除静电的设备利用所述离子发生装置,将所述干燥气体形成离子化气体,即形成带有正负电荷的气体,所述带有正负电荷的气体与所述基板所带有的电荷中和,从而提高消除静电的能力,并降低成本。
以上对本申请实施方式提供了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施方式的说明只是用于帮助理解本申请。同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (3)
1.一种消除静电的设备,其特征在于,包括:
载台,所述载台用于承载基板,所述载台具有若干通孔,所述通孔贯穿所述载台;
管道,所述管道包括进气端和出气端,所述进气端用于输入气体,所述出气端连接所述载台的通孔;以及
离子发生装置,所述离子发生装置设置于所述管道的气流通路上,所述离子发生装置用于对进入所述管道的气体进行离子化,所述离子化后的气体经过所述管道输送至所述载台,并通过所述通孔传输至所述载台承载基板的表面;
所述管道分为一第一子管道、一第二子管道、若干第三子管道和若干第四子管道,所述第一子管道连接所述第二子管道,所述第二子管道连接若干所述第三子管道,每一所述第三子管道连接一个所述第四子管道,每一所述第四子管道连接若干所述通孔;
所述第一子管道包括一第一进气子端和一第一出气子端,所述离子发生装置设置于所述第一进气子端和第一出气子端之间,所述第一出气子端连接所述第二子管道,所述第二子管道包括一第二进气子端和若干第二出气子端,所述第二进气子端连接所述第一出气子端,每一所述第二出气子端连接一个所述第三子管道;
所述消除静电的设备还包括第一压力容器,所述第一压力容器设置于所述第一子管道的气流通路上,所述第一压力容器位于所述第一进气子端和所述第一出气子端之间,所述离子发生装置设置于所述第一压力容器内;
所述消除静电的设备还包括一第一阀门,所述第一阀门设置于所述第一压力容器和所述第一出气子端之间;
所述管道还包括第五子管道,所述第五子管道包括第五进气子端和第五出气子端,所述第一子管道还包括第六出气子端,所述第六出气子端设置于所述第一阀门和所述第一出气子端之间,所述第五进气子端连通所述第六出气子端,所述第五出气子端用于排出气体;
所述消除静电的设备还包括第二压力容器,所述第二压力容器位于所述第五子管道的通路上;
所述消除静电的设备还包括第二阀门,所述第二阀门设置于所述第五进气子端和所述第二压力容器之间。
2.根据权利要求1所述的消除静电的设备,其特征在于,每一所述第三子管道包括一第三进气子端和一第三出气子端,若干所述第三进气子端与若干所述第二出气子端一一对应连接,每一所述第三出气子端连接一个所述第四子管道。
3.根据权利要求2所述的消除静电的设备,其特征在于,每一所述第四子管道包括一第四进气子端和若干第四出气子端,若干所述第四进气子端和若干所述第三出气子端一一对应连接,若干所述第四出气子端和所述载台的通孔一一对应连接。
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Citations (1)
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WO2014015485A1 (zh) * | 2012-07-25 | 2014-01-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 器件承载装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100713815B1 (ko) * | 2005-07-08 | 2007-05-02 | 주식회사 태성기연 | 판유리 이송장치 |
JP2010225640A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び排気方法 |
CN201828743U (zh) * | 2010-10-25 | 2011-05-11 | 北京京东方光电科技有限公司 | 基台装置及液晶显示器的生产设备 |
CN104715995A (zh) * | 2013-12-17 | 2015-06-17 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种气体供应装置及其等离子体反应装置 |
CN105188245B (zh) * | 2015-10-22 | 2017-03-15 | 四川大学 | 静电消除器 |
CN205864832U (zh) * | 2016-06-29 | 2017-01-04 | 昆山国显光电有限公司 | 一种玻璃基板静电去除装置以及显示面板检测*** |
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