CN110267471A - 膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。该膜层结构包括第一膜层组件和第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层；第二膜层组件包括第二膜材和设置在第二膜材上的色带单元，第二膜层组件层叠于第一膜层组件上，色带单元靠近第一膜材设置，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上。上述膜层结构的图案样式丰富。

Description

膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备

技术领域

本发明涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。

背景技术

随着电子设备产品多样性的发展，用户对电子设备的外观提出了更高的要求。如何提升电子设备的外观效果是业界普遍关注的研究方向。一些研究采用胶印工艺将图案转移至电子设备，以使电子设备呈现图案。然而，此种方式得到的图案效果单一。

发明内容

基于此，有必要提供一种图案效果丰富的膜层结构。

此外，还提供一种膜层结构的制备方法、壳体机构和电子设备。

一种膜层结构，包括：

第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层；及

第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元靠近所述第一膜材设置，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。

上述膜层结构包括第一膜层组件和第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层，纹理层的设置能够使第一膜层组件呈现发亮的纹理图案效果，第二膜层组件包括第二膜材和设置在第二膜材上的色带单元，色带单元的分辨率较高，使得第二膜层组件呈现细腻的颜色效果，第二膜层组件层叠于第一膜层组件上，色带单元靠近第一膜材设置，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上，色带单元和纹理层的叠加使得膜层结构具有颜色、发亮且分辨率较高的图案效果。上述膜层结构的图案效果丰富。

在其中一个实施例中，所述纹理层具有第一纹理区，所述第一纹理区具有多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条，多个所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置，每个所述第二凸条的高度小于每个所述第一凸条的高度。

在其中一个实施例中，相邻所述第一凸条和所述第二凸条无间隙设置。

在其中一个实施例中，所述纹理层具有第一纹理区，所述第一纹理区具有多个间隔设置的凸条组，每个所述凸条组包括平行且拼接的第一凸条和第二凸条，所述第二凸条的高度小于所述第一凸条的高度。

在其中一个实施例中，多个所述凸条组呈矩阵排列。

在其中一个实施例中，每个所述第一凸条在垂直于所述第一凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形；

及/或，每个所述第二凸条在垂直于所述第二凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

在其中一个实施例中，每个所述第一凸条在垂直于所述第一凸条的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形；

及/或，每个所述第二凸条在垂直于所述第二凸条的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。

在其中一个实施例中，所述第一凸条和所述第二凸条的高度差为2μm～4μm。

在其中一个实施例中，所述第一凸条的宽度与所述第二凸条的宽度相等。

在其中一个实施例中，所述色带单元具有第一色带区，所述第一色带区的位置与所述第一纹理区的位置相对应，所述第一色带区在所述第一纹理区的正投影落在所述第一纹理区上。

在其中一个实施例中，所述色带单元在所述第一色带区处具有第一单色层和渐变色层，所述第一单色层设置在所述第二膜材上，所述渐变色层设置在所述第一单色层远离所述第二膜材的一侧。

在其中一个实施例中，所述第一色带区在所述第一纹理区的正投影与所述第一纹理区完全重合。

在其中一个实施例中，所述纹理层还具有第二纹理区，所述第二纹理区具有多个平行的第三凸条。

在其中一个实施例中，每个所述第三凸条在垂直于所述第三凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

在其中一个实施例中，所述色带单元具有第二色带区，所述第二色带区的位置与所述第二纹理区的位置相对应，所述第二色带区在所述第二纹理区的正投影落在所述第二纹理区上。

在其中一个实施例中，所述第二色带区在所述第二纹理区的正投影与所述第二纹理区完全重合。

在其中一个实施例中，所述色带单元在所述第二色带区处具有多个第二单色层，多个所述第二单色层依次层叠设置在所述第二基材上。

在其中一个实施例中，所述第一膜层组件还包括反射单元，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧。

在其中一个实施例中，所述反射单元包括附着层、第一折射层和第二折射层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率小于所述第一折射层的折射率。

在其中一个实施例中，所述第一折射层的折射率为0.68～0.72，所述第二折射层的折射率为2.55～2.76。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括间隔层，所述间隔层位于所述第一折射层和所述第二折射层之间，所述间隔层为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，所述附着层为氧化铝层，所述附着层的厚度为30nm～40nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述间隔层为氧化铝层，所述间隔层的厚度为30nm～40nm，所述第二折射层为二氧化钛层，所述第二折射层的厚度为3nm～7nm。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第三折射层，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率。

在其中一个实施例中，所述第三折射层的折射率为2.55～2.76。

在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第一保护层和第二保护层，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述第一保护层为氧化铝层或二氧化硅层，所述第二保护层为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，所述附着层为二氧化硅层，所述附着层的厚度为8nm～12nm，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第三折射层的厚度为7nm～17nm，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一保护层的厚度为10nm～20nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二保护层的厚度为20nm～30nm，所述第二折射层为五氧化三钛层，所述第二折射层的厚度为5nm～9nm。

在其中一个实施例中，所述第一膜材组件还包括油墨层，所述油墨层覆盖在所述反射单元远离所述纹理层的一侧上。

一种膜层结构的制备方法，包括如下步骤：

提供第一膜层组件，所述第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层；

在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元，得到第二膜层组件；及

将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合，且使所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上，得到膜层结构。

在其中一个实施例中，所述将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合的步骤之前，还包括制备所述第一膜层组件的步骤：采用UV转印工艺在所述第一膜材上形成所述纹理层，得到所述第一膜层组件。

在其中一个实施例中，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤包括：在所述第一膜材上形成多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条，形成第一纹理区，得到所述纹理层，其中，所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置，所述第二凸条的高度小于所述第一凸条的高度。

在其中一个实施例中，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成第一单色层和渐变色层，所述渐变色层设置在所述第一单色层远离所述第二膜材的一侧，以形成第一色带区，得到所述色带单元，所述第一色带区的位置与所述第一纹理区的位置相对应。

在其中一个实施例中，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤还包括：在所述第一膜材上形成多个平行的第三凸条，形成第二纹理区，得到所述纹理层。

在其中一个实施例中，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成多个依次层叠设置的第二单色层，以形成第二色带区，得到所述色带单元，所述第二色带区的位置与所述第二纹理区的位置相对应。

一种壳体机构，包括：

基底；及

上述膜层结构，所述膜层结构设置在所述基底上，且所述膜层结构靠近所述第二基材的一侧与所述基底相对。

一种电子设备，包括：

上述壳体机构，

显示机构，与所述壳体机构连接，所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间；及

电路板，设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。

附图说明

图1为一实施方式的电子设备的结构示意图；

图2为图1所示的壳体机构的截面示意图；

图3为图2所示的壳体机构中第一膜材的截面示意图；

图4为图2所示的壳体机构中纹理层的结构示意图；

图5为图4所示的壳体机构中纹理层沿A-A线的截面示意图；

图6为图4所示的壳体机构中纹理层沿B-B线的截面示意图；

图7为图2所示的壳体机构中反射单元的截面示意图；

图8为图2所示的壳体机构中第二膜材的截面示意图；

图9为图2所示的壳体机构中第二膜材和色带单元的结构示意图；

图10为图9所示的色带单元在第一色带区的截面示意图；

图11为图9所示的色带单元在第二色带区的截面示意图；

图12为另一实施例的纹理层在第一纹理区的截面示意图；

图13为另一实施例的多个凸条组的排布方式示意图；

图14为另一实施例的纹理层在第一纹理区的截面示意图；

图15为另一实施例的纹理层在第二纹理区的截面示意图；

图16为另一实施例的反射单元的截面示意图；

图17为实施例1的壳体机构在第一色带区对应的图案的实物图片；

图18为实施例1的壳体机构在第二色带区对应的图案的实物图片。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1所示，一实施方式的电子设备包括壳体机构1a和显示机构1b。显示机构1b与壳体机构1a连接。电子设备正常运行时，显示机构1b能够显示图案。显示机构1b与壳体机构1a之间限定出安装空间(图未示)。电子设备还包括电路板(图未示)。电路板控制电路能够控制电子设备正常运行。电路板设置在安装空间内，且与显示机构1b电连接。进一步地，电子设备为各种能够从外部获取数据并对该数据进行处理的设备，或者，各种内置有电池，并能够从外部获取电流对该电池进行充电的设备。电子设备例如可以为手机、平板电脑、计算设备或信息显示设备等。在图示实施例中，电子设备为手机。壳体机构1a为手机的后盖。显示机构1b与壳体机构1a固接。

请一并参阅图2，壳体机构1a包括基底10和膜层结构20。膜层结构20设置在基底10上。

基底10为透明玻璃板。需要说明的是，基底10不限于为透明玻璃板，也可以为透明塑料板。

在其中一个实施例中，基底10的厚度为0.5nm～0.7nm。

膜层结构20包括第一膜层组件100和第二膜层组件200。第一膜层组件100包括依次层叠设置的第一膜材110和纹理层120。第二膜层组件200包括第二膜材210和设置在第二膜材210上的色带单元220。第二膜层组件200层叠于第一膜层组件100上。色带单元220靠近第一膜材110设置。色带单元220在纹理层120上的正投影落在纹理层120上。

上述膜层结构20中，纹理层120的设置能够使第一膜层组件100呈现发亮的图案效果，色带单元220的分辨率较高，使得第二膜层组件200呈现细腻的颜色效果，色带单元220和纹理层120的叠加使得膜层结构20具有颜色、发亮且分辨率较高的图案效果，外观效果较好。

请一并参阅图3，第一膜材110能够增强第一膜层组件100的机械强度。在其中一个实施例中，第一膜材110包括层叠设置的功能层112和胶粘层114。胶粘层114位于功能层112远离纹理层120的一侧。胶粘层114使得第一膜材110具有粘性，能够与其他部件粘接。

进一步地，功能层112为PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸类塑料)层。胶粘层114的材料为OCA(Optically Clear Adhesive，光学胶)。需要说明的是，功能层112不限于上述指出的材料，还可以为其他材料。胶粘层114的材料不限于上述指出材料，也可以为其他材料。在图示实施例中，第一膜材110为条形板状。

在其中一个实施例中，功能层112的厚度为48μm～52μm。胶粘层114的厚度为20μm～30μm。进一步地，功能层112的厚度为50μm。胶粘层114的厚度为25μm。

纹理层120具有折射效果和图案效果，使得第一膜层组件100呈现发亮的图案效果。

请一并参阅图4～5，纹理层130至少部分覆盖第一膜材110靠近纹理层130的一侧。纹理层120具有第一纹理区122。第一纹理区122具有多个平行的第一凸条1221和多个平行的第二凸条1223。多个第一凸条1221和多个第二凸条1223交替设置。每个第二凸条1223的高度小于每个第一凸条1221的高度。通过第二凸条1223和第一凸条1221的高度差，增加纹理层120对光的折射和反射，使得纹理层120在第一纹理区122具有较强的亮度。

进一步地，纹理层130完全覆盖第一膜材110靠近纹理层130的一侧。此时，壳体机构1a远离基底10的一侧能够呈现整面纹理的效果。

在其中一个实施例中，相邻第一凸条1221和第二凸条1223无间隙设置。此种设置，能够提高纹理层120在第一纹理区122，使得纹理层120在第一纹理区122能够呈现整片发亮的效果。

在其中一个实施例中，每个第一凸条1221在垂直于第一凸条1221的延伸方向上的截面的形状为三角形。进一步地，每个第一凸条1221在垂直于第一凸条1221的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。此种设置，使得纹理层120在第一纹理区122具有深度感。更进一步地，每个第一凸条1221在垂直于第一凸条1221的延伸方向上的截面的形状为等边三角形。

在其中一个实施例中，每个第二凸条1223在垂直于第二凸条1223的延伸方向上的截面的形状为三角形。进一步地，每个第二凸条1223在垂直于第二凸条1223的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。此种设置，使得纹理层120在第一纹理区122具有深度感。更进一步地，每个第二凸条1223在垂直于第二凸条1223的延伸方向上的截面的形状为等边三角形。

在其中一个实施例中，第一凸条1221和第二凸条1223的高度差为2μm～4μm。第一凸条1221的高度即为第一凸条1221远离第一膜材110的一侧到功能层112远离胶粘层114一侧的距离。定义第一凸条1221的高度为H1。第二凸条1223的高度即为第二凸条1223远离第一膜材110的一侧到功能层112远离胶粘层114一侧的距离。定义第二凸条1223的高度为H2。进一步地，H1为8μm～10μm。H2为5μm～7μm。

在其中一个实施例中，第一凸条1221的宽度与第二凸条1223的宽度相等。此种设置，使得纹理层120能够呈现较为均一的亮度效果。定义第一凸条1221的宽度为D1。定义第二凸条1223的宽度为D2。进一步地，D1为6μm～10μm。D2为6μm～10μm。

在其中一个实施例中，每个第一凸条1221为三棱柱形。每个第一凸条1221的一个侧面朝向第一膜材110。第二凸条1223为三棱柱形。每个第二凸条1223的一个侧面朝向第一膜材110。在图示实施例中，每个第一凸条1221具有第一侧面1221a和两个第二侧面1221b。第一侧面1221a朝向第一膜材110。两个第二侧面1221b与第一侧面1221a形成的夹角相等。第一凸条1221与第二凸条1223平行。每个第二凸条1223具有第三侧面1223a和两个第四侧面1223b。第三侧面1223a朝向第一膜材110。两个第四侧面1223b与第三侧面1223a形成的夹角相等。两个第二侧面1221b的相交线到第一侧面1221a的距离大于两个第四侧面1223b的相交线到第三侧面1223a的距离。

此种设置能够通过第一凸条1221和第二凸条1223的高度差以提高对光线的反射，使得第一纹理区122的发亮较强，以实现局部发亮。

两个第二侧面1221b的相交线到第一侧面1221a的距离即为H1。两个第四侧面1223b的相交线到第三侧面1223a的距离即为H2。进一步地。H1大于H2。H1和H2的差值为2μm～4μm。此种设置使得第一纹理区122的发亮较强，以实现局部发亮效果。在其中一个实施例中，第一侧面1221a的宽度与第三侧面1223a的宽度相等。第一侧面1221a的宽度即为D1。第三侧面1223a的宽度即为D2。

定义第一凸条1221的延伸方向与第一膜材110的延伸方向的夹角为A1。在其中一个实施例中，A1为85°～95°。此种设置，使得从垂直于第一膜材110的延伸方向的角度观察第一纹理区122的亮度更高。在图示实施例中，A1为90°。需要说明的是，A1不限于为上述指出角度范围，也可以其他角度，可以根据实际需要进行设置。

在一个具体示例中，第一纹理区122的轮廓形状呈人形。其中，人形可以为水浒英雄或者艺术家小人等。需要说明的是，第一纹理区122的轮廓形状不限于为人形，也可以为动物形状，例如可以为十二生肖的形状。可以根据实际的需要进行设定。

在图示实施例中，第一纹理区122为一个。

请一并参阅图6，在其中一个实施例中，纹理层120还具有第二纹理区124。第二纹理区124具有多个平行的第三凸条1242。此种设置得到的第二纹理区124具有一定的增亮效果。进一步地，第二纹理区124与第一纹理区122无间隔设置。

在其中一个实施例中，每个第三凸条1242在垂直于第三凸条1242的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。进一步地，每个第三凸条1242在垂直于第三凸条1242的延伸方向上的截面的形状为等边三角形。此种设置得到的第二纹理区124具有一定的增亮效果，且使得第二纹理区124的增亮效果与第一纹理区122的增亮效果不同，使得膜层结构20的不同区域具有不同的增亮效果，从而实现局部发亮的效果。

在其中一个实施例中，定义第三凸条1242的高度为H3。H3为5μm～6μm。此种设置，使得第二纹理区124更有深度感。

在其中一个实施例中，定义第三凸条1242的宽度为D3。D3为6μm～10μm。此种设置，使得第二纹理区124更有深度感。

在图示实施例中，第三凸条1242的高度与第二凸条1223的高度相等。此种设置得到的第二纹理区124具有一定的增亮效果，且使得第二纹理区124的增亮效果与第一纹理区122的增亮效果不同，使得膜层结构20的不同区域具有不同的增亮效果，从而实现局部发亮的效果。进一步地，第三凸条1242的宽度与第二凸条1223的宽度相等。此种设置，使得第二纹理区124更有深度感。需要说明的是，D3不限于与D2相等，D3也可以小于D2，也可以大于D2。H3不限于与H2相等，H3也可以小于H2，也可以大于H2。可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，第三凸条1242为三棱柱形。第三凸条1242的一个的一个侧面朝向第一膜材120。在图示实施例中，第三凸条1242具有第五侧面1242a和两个第六侧面1242b。第五侧面1242a朝向第一膜材110。两个第六侧面1242b与第五侧面1242a形成的夹角相等。两个第六侧面1242b的相交线到第五侧面1242a的距离即为H3。第五侧面1242a的宽度即为D3。

在其中一个实施例中，第三凸条1242的延长线与第一凸条1221的延长线相交。此种设置，使得从同一角度观察纹理层120时，第一纹理区122与第二纹理区124的亮度不同。进一步地，定义第三凸条1242的延伸方向与第一膜材110的延伸方向的夹角为A3。A3为25°～35°。此种设置，还能够避免第二纹理区124产生摩尔纹现象。在图示实施例中，A3为30°。需要说明的是，A3不限于为上述指出角度范围，也可以其他角度，可以根据实际需要进行设置。

在其中一个实施例中，第二纹理区124呈可变化的原型设计。可变化的原型设计为可变化的图案。进一步地，第二纹理区124的轮廓形状呈图腾形状。需要说明的是，第二纹理区124呈的轮廓形状不限于为图腾形状，也可以为人形，也可以为动物形状，例如可以为十二生肖的形状。可以根据实际的需要进行设定。

在图示实施例中，第二纹理区124为一个。第二纹理区124围绕第一纹理122设置。

在其中一个实施例中，通过UV转印工艺在第一膜材110上形成纹理层120。进一步地，使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays)，将特制模具上的纹理转印至第一基材上，以在第一基材上形成纹理层120。

请一并参阅图7，在其中一个实施例中，第一膜层组件100还包括反射单元130。反射单元130覆盖纹理层120远离第一膜材110的一侧。进一步地，反射单元130包括附着层131、第一折射层133和第二折射层135。附着层131设置在纹理层120远离第一膜材110的一侧，第一折射层133设置在附着层131远离纹理层120的一侧，第二折射层135设置在第一折射层133远离附着层131的一侧。第二折射层135的折射率大于第一折射层133的折射率。

通过设置附着层131使得反射单元130能够与纹理层120牢固地结合，第一折射层133和第二折射层135的结合，使得反射单元130具有反射效果，以将光线反射至第一膜材110上，以增加纹理层120的亮度。

在其中一个实施例中，第一折射层133的折射率为0.68～0.72。第二折射层135的折射率为2.55～2.76。此种设置有利于提高反射单元130对光线的反射，提高第一膜层组件100的亮度。进一步地，第一折射层133为铟层。第二折射层135为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元130具有较好的反射效果。

在其中一个实施例中，附着层131为氧化铝层或二氧化硅层。此种设置有利于提高反射单元130的附着力，保证第一膜层组件100的结构稳定性。

在其中一个实施例中，反射单元130还包括间隔层137。间隔层137设置在第一折射层133和第二折射层135之间。间隔层137为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层137与附着层131结合能够保护第一折射层133，降低第一折射层133的氧化。

进一步地，附着层131为氧化铝层，附着层131的厚度为30nm～40nm。第一折射层133为铟层，第一折射层133的厚度为10nm～30nm。间隔层137为氧化铝层，间隔层137的厚度为30nm～40nm。第二折射层135为二氧化钛层，第二折射层135的厚度为3nm～7nm。需要说明的是，第一折射层133的厚度越厚，反射单元130的反射效果越好，纹理层120的亮度越高。但是第一折射层133的厚度越厚，越容易被氧化。上述设置的第一折射层133能够保证反射单元130的增亮效果，也能够降低第一折射层133的氧化。

进一步地，第一折射层133的厚度为10nm～20nm。此种设置能够保证反射单元130的增亮效果，也能够保护第一折射层133，降低第一折射层133的氧化。

在其中一个实施例中，通过电子蒸镀方式在纹理层120上形成反射单元130。需要说明的是，在纹理层120上形成反射单元130的方式不限于为上述指出的方式，还可以为其他镀膜方式，例如磁控溅射。

在其中一个实施例中，第一膜层组件100还包括油墨层140。油墨层140覆盖反射单元130远离纹理层120的一侧。油墨层140能够避免进入第一膜层组件100的光线从油墨层140穿过，以而使纹理层120显现。

在其中一个实施例中，油墨层140的厚度为5μm～24μm。此种设置，能够有效地避免光线穿过油墨层140，使得进入第二膜层组件200内的光线能够被反射单元130反射或者被油墨层140吸收。

在其中一个实施例中，采用丝网印刷工艺在纹理层120上形成油墨层140。进一步地，采用丝网印刷工艺在纹理层120上多次印刷油墨材料而得到油墨层140。具体地，印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm～8μm。需要说明的是，印刷的次数不限于三次，也可以为两次，还可以为四次，可以根据需要进行设定。其中，油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地，干燥温度为80℃～90℃。

请一并参阅图8，第二膜材210能够增强第二膜层组件200的机械强度。在其中一个实施例中，第二膜材210包括层叠设置的防爆层212和粘接层214。粘接层214位于防爆层212远离色带单元220的一侧。粘接层214使得第二膜材210具有粘性，能够与其他部件粘接。进一步地，防爆层212为PET层。粘接层214的材料为OCA。需要说明的是，防爆层212不限于上述指出的材料，还可以为其他材料。粘接层214的材料不限于上述指出材料，也可以为其他材料。在图示实施例中，第二膜材210为条形板状。

在其中一个实施例中，第二膜层210的延伸方向与第一膜材110的延伸方向平行。

在其中一个实施例中，防爆层212的厚度为21μm～25μm。粘接层214的厚度为15μm～25μm。进一步地，防爆层212的厚度为23μm。粘接层214的厚度为15μm。

色带单元220和纹理层120的叠加，使得膜层结构20呈现发亮的图案效果，且图案的分辨率较高，颜色饱和度较高。

请一并参阅图9，在其中一个实施例中，色带单元220具有第一色带区222。第一色带区222的位置与第一纹理区122的位置相对应。第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122上。此种设置，使得膜层结构20在第一纹理区122处具有颜色、发亮的图案效果，且分辨率较高。

在其中一个实施例中，第一色带区222在第一纹理区122的正投影的轮廓形状与第一纹理区122的轮廓形状一致。此种设置能够提高膜材结构20的外观效果。

在其中一个实施例中，第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122内。此种设置使得第一色带区222对应的图案均能够呈现发亮效果。进一步地，第一色带区222在第一纹理区122的正投影的边缘与第一纹理区122的边缘的距离大于0.2mm。此种设置，使得膜层结构在第一纹理区122和第一色带区222叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在第一色带区222未与第一纹理区122叠加处呈现细腻的颜色效果。更进一步地，第一色带区222在第一纹理区122的正投影的边缘与纹理层130的边缘的距离为0.2mm～0.3mm。

在图示实施例中，第一色带区222为一个。第一色带区222在第一纹理区122的正投影与第一纹理区122完全重合。

需要说明的是，第一色带区222在第一纹理区122的正投影不限于落在第一纹理区122内，第一色带区222在第一纹理区122的正投影也可以覆盖第一纹理区122。此种设置，使得膜层结构在第一色带区222和第一纹理区122叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在第一纹理区122未与第一色带区222叠加处呈现纹理效果。

请一并参阅图10，在其中一个实施例中，色带单元220在第一色带区222具有第一单色层222a和渐变色层222b。第一单色层222a靠近第二膜材210设置。渐变色层222b设置在第一单色层222a远离第二膜层210的一侧上。此种设置使得色带单元220在第一色带区222的颜色更加丰富。

在其中一个实施例中，色带单元220在第一色带区222的色带为CMYK色系的色带。C为Cyan(青色)；M为Magenta(洋红色)；Y为Yellow(黄色)黄色；K为黑色。

进一步地，第一单色层222a的色带为Cyan(青色)色带或者Magenta(洋红色)色带。渐变色层222b的色带包括为Cyan(青色)色带、黄色色带及Magenta(洋红色)色带中的至少一种。需要说明的是，第一单色层222a的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。渐变色层222b的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，第一单色层222a为多层。多层第一单色层222a依次层叠设置，且均位于第二膜材210与渐变色层222b之间。

在其中一个实施例中，渐变色层222b为多层。多层渐变色层222b层叠设置在第一单色层222a远离第二膜材210的一侧。

在其中一个实施例中，第一单色层222a为多层。多层第一单色层222a依次层叠设置。渐变色层222b为多层。多层渐变色层222b依次层叠在最远离第二膜材210的第一单色层222a上。

在图示实施例中，第一单色层222a为两层。两层第一单色层222a依次层叠设置在第二膜材210上。渐变色层222b为五层。五层渐变色层222b依次层叠在最远离第二膜材210的第一单色层222a上。此种设置使得色带单元220在第一色带区222的颜色更加丰富。

需要说明的是，第一单色层222a不限于为两层，也可以为一层，还可以为三层，可以根据需要进行设置。需要说明的是，渐变色层222b不限于为五层，也可以为一层，还可以为三层，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，色带单元220具有第二色带区224。第二色带区224的位置与第二纹理区124的位置相对应。第二色带区224在第二纹理区124的正投影落在第二纹理区124上。进一步地，第二色带区224与第一色带区222无间隔设置。

进一步地，第二色带区224在第二纹理区124的正投影的轮廓形状与第二纹理区124的轮廓形状一致。此种设置能够提高膜材结构20的外观效果。

在其中一个实施例中，第二色带区224在第二纹理区124的正投影落在第二纹理区124内。此种设置使得第二色带区224对应的图案均能够呈现发亮效果。进一步地，第二色带区224在第二纹理区124的正投影的边缘与第二纹理区124的边缘的距离大于0.2mm。此种设置，使得膜层结构在第二色带区224和第二纹理区124叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在第二色带区224未与第二纹理区124叠加处呈现细腻的颜色效果。更进一步地，第二色带区224在第二纹理区124的正投影的边缘与第二纹理区124的边缘的距离为0.2mm～0.3mm。

在图示实施例中，第二色带区224为一个。第二色带区224在第二纹理区124的正投影与第二纹理区124完全重合。

需要说明的是，第二色带区224在第二纹理区124的正投影不限于落在第二纹理区124内，第二色带区224在第二纹理区124的正投影也可以覆盖第二纹理区124。此种设置，使得膜层结构在第二色带区224和第二纹理区124叠加处呈现纹理和细腻颜色的效果，且使得膜层结构在第二色带区224未与第二纹理区124叠加处呈现细腻颜色的效果。

请一并参阅图11，在其中一个实施例中，色带单元220在第二色带区224具有多个第二单色层224a。多个第二单色层224a依次层叠设置在第二基材210上。此种设置，使得第二色带区224对应的图案的颜色与第一色带区222对应图案的颜色形成对比，能够更加突显第一色带区222对应图案的颜色，从而使得膜层结构20在不同区域具有不同的颜色。

在图示实施例中，第二单色层224a为两层。两层第二单色层224a依次层叠设置在第二膜材210上。需要说明的是，第二单色层224a不限于为两层，也可以为一层，还可以为三层，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，色带单元220在第二色带区224的色带为CMYK色系的色带。

进一步地，第二单色层224a的色带为Cyan(青色)色带或者Magenta(洋红色)色带。需要说明的是，第二单色层224a的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，第一膜层组件100设有第一对准部。第二膜层组件200设有与第一对准部相对应的第二对准部。第一对准部与第二对准部相对，以使第一膜层组件100和第二膜层组件200精准贴合，而使色带单元220在纹理层120上的正投影落在纹理层120上。其中，第一对准部可以为对准线。第二对准部可以为对准线。第一对准部和第二对准部重叠，以使第一膜层组件100和第二膜层组件200精准贴合。

在其中一个实施例中，采用色带转印工艺在第二膜材210上形成色带单元220。进一步地，转印温度为60℃～70℃。

膜层结构20设置在基底10上。且膜层结构20靠近第二基材210的一侧与基底10相对。在图示实施例中，第二基材210通过粘接层214与基底10贴合。

上述壳体机构1a的膜层结构20中，纹理层120的设置能够使第一膜层组件100呈现发亮的图案效果，色带单元220的分辨率较高，使得第二膜层组件200呈现细腻的颜色效果，色带单元220和纹理层120的叠加使得膜层结构20具有颜色、发亮且分辨率较高的图案效果，图案效果丰富，外观效果较好。

其次，上述壳体机构1a的膜层结构20中，第一凸条1221的高度大于第二凸条1223的高度，能够使膜层结构20在第一纹理区122的图案更加凸显，并使得膜层结构20在第一纹理区122的增亮效果优于膜层结构20在第二纹理区124的增亮效果，使得膜层结构20的不同区域具有不同的增亮效果，从而实现局部发亮的效果。

再者，上述壳体机构1a的膜层结构20中，色带单元220在第一色带区222具有层叠设置的第一单色层222a和渐变色层222b，色带单元220在第二色带区224具有多个第二单色层224a，使得第二色带区224对应的图案的颜色与第一色带区222对应图案的颜色形成对比，能够更加突显第一色带区222对应图案的颜色，从而使得膜层结构20在不同区域具有不同的颜色。

综上，上述壳体机构1a包括具有颜色、发亮的图案效果的膜层结构20，外观效果较好，膜层结构20的厚度较薄，使得壳体机构1a能够用于制备具有较好外观效果的电子设备，例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

可以理解，纹理层120不限于上述设置，也可以为其他设置，能够使膜层结构20具有纹理效果即可。

可以理解，第二纹理区124和第二色带区224可以省略。此时，第一纹理区122和第一色带区222的叠加能够使膜层结构20呈现发光和颜色的图案效果。

可以理解，第一纹理区122和第一色带区222可以省略。此时，膜层结构20在第二纹理区124能够呈现一定发光的图案效果。

可以理解，油墨层140可以省略。此时，可以从壳体机构1a处观察到显示组件20和电路板的结构。

可以理解，反射单元130可以省略。此时，油墨层140覆盖纹理层120。

可以理解，相邻第一凸条1221和第二凸条1223不限于无间隙设置，相邻第一凸条1221和第二凸条1223也可以间隔设置。可以理解，第一纹理区122不限于上述设置，还可以为其他设置方式，例如：请一并参阅图12，其他实施方式的第一纹理区122’的结构与第一纹理区122大致相同，不同之处在于，第一纹理区122’具有多个凸条组122a。每个凸条组122a包括平行且拼接的第一凸条1221’和第二凸条1223’。每个第一凸条1221’的高度大于第二凸条1223’的高度。

在图示实施例中，第一凸条1221’为三棱柱形。第二凸条1223’为三棱柱形。第一凸条1221’具有第一侧面1221a’和两个第二侧面1221b’。第一侧面1221a’朝向第一膜材上。两个第二侧面1221b’与第一侧面1221a’形成的夹角相等。第二凸条1223’具有第三侧面1223a’和两个第四侧面1223b’。第三侧面1223a’朝向第一膜材上。两个第四侧面1223b’与第三侧面1223a’形成的夹角相等。两个第二侧面1221b’的相交线到第一侧面1221a’的距离大于两个第四侧面1223b’的相交线到第三侧面1223a’的距离。

在其中一个实施例中，多个凸条组122a间隔设置。且每个凸条组122a的第一凸条1221’平行。

在其中一个实施例中，多个凸条组122a沿垂直于第一凸条1221’的延伸方向间隔设置。

进一步地，每个凸条组122a中的第一凸条1221’和第二凸条1223’均为多个，多个第一凸条1221’和多个第二凸条1223’交替设置。需要说明的是，每个凸条组122a中的第一凸条1221’和第二凸条1223’可以均为两个，也可以均为三个，可以根据需要进行设置。需要说明的是，每个凸条组122a中的第一凸条1221’和第二凸条1223’的个数可以相等，也可以不相等，可以根据需要进行设置。

上述第一纹理区122’的设置能够使第一膜层组件呈现发亮的图案效果，与色带单元配合使得膜层结构具有颜色、发亮且分辨率较高的图案效果，外观效果较好。

需要说明的是，多个凸条组122a不限于为上述设置方式，还可以为其他设置方式，请一并参阅图13，多个凸条组122a’也可以呈矩阵排列。

可以理解，第一凸条1221和第二凸条1223不限于为三棱柱形，第一凸条1221和第二凸条1223也可以为其他形状，例如：折线形、波浪线形或者圆弧形等。

可以理解，第三凸条1242不限于为三棱柱形，第三凸条1242也可以为其他形状，例如：折线形、波浪线形或者圆弧形等。

可以理解，每个第一凸条1221在垂直于第一凸条1221的延伸方向上的截面的形状不限于为三角形，每个第二凸条1223在垂直于第二凸条1223上的截面的形状不限于为三角形，请一并参阅图14，第一凸条2221在垂直于第一凸条2221的延伸方向上的截面的形状为梯形，第二凸条2223在垂直于第二凸条2223上的截面的形状为梯形。每个第一凸条2221的高度为H1’。每个第二凸条2223的高度为H3’。每个第一凸条2221的宽度为D1’。每个第二凸条2223的宽度为D2’。H1’为8μm～10μm。H2’为5μm～7μm。D1’为6μm～10μm。D2’为6μm～10μm。

在图示实施例中，第一凸条2221在垂直于第一凸条2221的延伸方向上的截面的形状为等腰梯形，第二凸条2223在垂直于第二凸条2223上的截面的形状为等腰梯形。

可以理解，每个第三凸条1242在垂直于第三凸条1242的延伸方向上的截面的形状不限于为三角形，请一并参阅图15，在其他实施例中，每个第三凸条2242在垂直于第三凸条2242的延伸方向上的截面的形状为梯形。每个第三凸条2242的高度为H3’。每个第三凸条2242的宽度为D3’。H3’为5μm～6μm。D3’为6μm～10μm。在图示实施例中，每个第三凸条2242在垂直于第三凸条2242的延伸方向上的截面的形状为等腰梯形。

可以理解，反射单元130的结构不限于上述指出的结构，还可以为其他结构，请一并参阅图16，在其他实施例中，反射单元还包括第三折射层139’。第三折射层139’位于附着层131’和第一折射层133’之间。第三折射层139’的折射率大于第一折射层133’的折射率。此种设置通过第三折射层139’、第一折射层133’和第二折射层135’的配合，能够进一步提高反射单元的增亮效果。进一步地，第三折射层139’的折射率为2.55～2.76。更进一步地，第三折射层139’为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

在其中一个实施例中，反射单元还包括第一保护层132’和第二保护层136’。第一保护层132’位于第一折射层133’与第三折射层139’之间。第二保护层136’位于第一折射层133’与第二折射层135’之间。第一保护层132’为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层136’为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层132’和第二保护层136’能够保护第一折射层133’，能够降低第一折射层133’的氧化，还能够增加反射单元的机械强度。

进一步地，附着层131’为二氧化硅层，附着层131’的厚度为8nm～12nm。第三折射层139’为五氧化三钛层，第三折射层139’的厚度为7nm～17nm。第一保护层132’为二氧化硅层，第一保护层132’的厚度为10nm～20nm。第一折射层133’为铟层，第一折射层133的厚度为10nm～20nm。第二保护层136’为二氧化硅层，第二保护层136’的厚度为20nm～30nm。第二折射层135’为五氧化三钛层，第二折射层135’的厚度为5nm～9nm。此种设置能够降低第一折射层133’的氧化，增加反射单元的机械强度。

可以理解，纹理层130不限于完全覆盖第一膜材110靠近纹理层130的一侧，纹理层130部分覆盖第一膜材110靠近纹理层130的一侧。此时，壳体机构1a远离基底10的一侧能够呈现局部纹理的效果。

可以理解，第一纹理区122不限于为一个，也可以为多个。相应地，第一色带区222不限于为一个，也可以为多个。此时，多个第一纹理区122间隔设置。相邻第一纹理区122之间设有第二纹理区124。多个第一色带区222分别与多个第一纹理区122对应，以使一个第一色带区222对应一个第一纹理区122。相邻第一色带区222之间设有第二色带区224。

可以理解，第一色带区222不限于为一个，也可以为多个。第一纹理区122为一个，第一色带区222为多个时，多个第一色带区222间隔设置。相邻第一色带区222之间设有遮光部。遮光部能够降低光的透过。多个第一色带区222均与第一纹理区122对应。多个第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122上。进一步地，遮光部为黑色色带或者蓝色色带等深色带。在一个具体示例中，相邻第一色带区222之间形成有第二色带区224。

请再次参阅图1～11，此外，一实施方式的膜层结构20的制备方法，能够制备具有颜色、发亮的图案效果的膜层结构20。具体地，膜层结构20的制备方法包括如下步骤S110～S120：

S110、提供第一膜层组件100，第一膜层组件100包括依次层叠设置的第一膜材110和纹理层120。

需要说明的是，第一膜层组件100的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

在其中一个实施例中，膜层结构20的制备方法包括制备第一膜层组件100的步骤：采用UV转印工艺在第一膜材110上形成纹理层120，得到第一膜层组件100。进一步地，使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays)，将特制模具上的纹理转印至第一膜材110上，以在第一膜材110上形成纹理层120。需要说明的是，第一膜层组件100不限于通过上述步骤制备得到，也可以采用市售的第一膜层组件100。

在其中一个实施例中，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

在其中一个实施例中，在第一膜材110上形成纹理层120的步骤包括：在第一膜材110上形成第一纹理区122和第二纹理区124，得到纹理层120。

在其中一个实施例中，在第一膜材110上形成第一纹理区122的步骤包括：在第一膜材110上形成多个平行的第一凸条1221及多个平行的第二凸条1223，形成第一纹理区122。进一步地，采用UV转印工艺在第一膜材110上第一纹理区122。需要说明的是，第一纹理区122的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

在其中一个实施例中，在第一膜材110上形成第二纹理区124的步骤包括：在第一膜材110上形成多个平行的第三凸条1242，形成第二纹理区124。进一步地，采用UV转印工艺在第一膜材110上第二纹理区124。需要说明的是，第三凸条1242的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

在其中一个实施例中，第二纹理区124围绕第一纹理区122设置。第二纹理区124与第一纹理区122无间隔设置。进一步地，在第一膜材110上形成纹理层120的步骤包括：在第一膜材110上同时形成第一纹理区122和第二纹理区124，得到纹理层120。

更进一步地，在第一膜材110上形成纹理层120的步骤包括S111～S112：

S111、提供具有第一纹理图案和第二纹理图案的模具，第一纹理图案具有多个第一凸起和多个第二凸起，多个第一凸起与多个第二凸起交替设置，第一纹理图案能够与第一纹理区122相互啮合；第二纹理图案具有多个第三凸起，第二纹理图案能够与第二纹理区124相互啮合。进一步地，第二纹理图案围绕第一纹理图案设置。第二纹理图案与第一纹理图案无间隔设置。

在其中一个实施例中，S111包括S1111～S1114：

S1111、制备具有纹理的第一母模，第一母模的纹理与第二纹理区124的纹理相同。

具体地，采用CNC机台，以6个刀同时加工的方式在第一基底上进行加工，得到具有纹理的第一母模。进一步地，第一基底为平面钢板。

S1112、制备具有纹理的第二母模，第二母模的纹理与第一纹理区122的纹理相同。

具体地，采用CNC机台，以6个刀同时加工的方式在第二基底上进行加工，得到具有纹理的第二母模。进一步地，第二基底为滚轮。

S1113、将第一母模的纹理复制到模具上，得到形成有多个第三凸起的模具；去除部分第三凸起，形成具有缺口的第二纹理图案，得到具有第二纹理图案的模具。

其中，模具为PC板(聚碳酸酯板)。

进一步地，去除部分第三凸起的方式为蚀刻。

S1114、将第二母模的纹理复制到具有第二纹理图案的模具上，形成第一纹理图案，且使第一纹理图案位于缺口中，得到具有第一纹理图案和第二纹理图案的模具。

进一步地，将第二母模的纹理复制到具有第二纹理图案的模具上的方式为Rollto Roll。

S112、在具有第一纹理图案和第二纹理图案的模具上涂覆UV胶，以使UV胶位于相邻第一凸起和第二凸起之间，且位于相邻第三凸起之间；将模具上的UV胶转印至第一膜材110上，固化，得到纹理层120。

其中，与第一纹理图案对应的UV胶形成第一纹理区122。与第二纹理图案对应的UV胶形成第二纹理区124。

进一步地，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

在其中一个实施例中，在第一膜材110上形成纹理层120的步骤之后，还包括在纹理层120上形成反射单元130的步骤：在纹理层120上形成依次层叠的附着层131、第一折射层133和第二折射层135，得到反射单元130。第一折射层133的折射率小于第二折射层135的折射率。通过设置附着层131使得反射单元130能够与纹理层120牢固地结合，第一折射层133和第二折射层135的结合，使得反射单元130具有反射效果，以将光线反射至第一膜材110上，以增加纹理层120的亮度。进一步地，通过电子蒸镀工艺在纹理层120上形成依次层叠的附着层131、第一折射层133和第二折射层135，形成反射单元130。

在其中一个实施例中，第一折射层133的折射率为0.68～0.72。第二折射层135的折射率为2.55～2.76。进一步地，第一折射层133为铟层。第二折射层135为二氧化钛层、五氧化三钛或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元130具有较好的反射效果。

在其中一个实施例中，附着层131为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中，在纹理层120上形成反射单元130的步骤包括：在纹理层120上形成依次层叠的附着层131、第一折射层133、间隔层137和第二折射层135，得到反射单元130。间隔层137为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层137与附着层131结合能够保护第一折射层133，降低第一折射层133的氧化。进一步地，通过电子蒸镀方式在纹理层120上形成依次层叠的附着层131、第一折射层133、间隔层137和第二折射层135，形成反射单元130。

具体地，附着层131为氧化铝层，附着层131的厚度为30nm～40nm。第一折射层133为铟层，第一折射层133的厚度为10nm～30nm。间隔层137为氧化铝层，间隔层137的厚度为30nm～40nm。第二折射层135为二氧化钛层，第二折射层135的厚度为3nm～7nm。需要说明的是，第一折射层133的厚度越厚，反射单元130的反射效果越好，纹理层120的亮度越高。但是第一折射层133的厚度越厚，越容易被氧化。上述设置的第一折射层133能够保证反射单元130的增亮效果，也能够降低第一折射层133的氧化。

进一步地，第一折射层133的厚度为10nm～20nm。此种设置能够保证反射单元130的增亮效果，也能够保护第一折射层133，降低第一折射层133的氧化。

在其中一个实施例中，在纹理层120上形成反射单元130的步骤之后，还包括在反射单元130上形成油墨层140的步骤。进一步地，在反射单元130上形成油墨层140的方式为丝网印刷。更进一步地，油墨层140的厚度为5μm～24μm。

进一步地，采用丝网印刷工艺在纹理层120上多次印刷油墨材料而得到油墨层140。具体地，印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm～8μm。需要说明的是，印刷的次数不限于三次，也可以为两次，还可以为四次，可以根据需要进行设定。其中，油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地，干燥温度为80℃～90℃。

在其中一个实施例中，在第一膜材110上形成依次层叠的纹理层120、反射单元130和油墨层140的步骤之后，还包括在油墨层140远离反射单元130的一侧贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜以对油墨层140起临时保护的作用。

S120、在第二膜材210上通过色带转印工艺形成色带单元220，得到第二膜层组件200。

需要说明的是，第二膜层组件200的结构请参见上文描述，此处不再赘述。

其中一个实施例中，在第二膜材210上通过色带转印工艺形成色带单元220的过程中，通过电脑程序控制在不同区域转印出不同的颜色效果的图案，得到色带单元220。需要说明的是，色带转印对环境要求较高，需要在百级环境内进行，以避免环境落尘而造成严重的白点和亮点等不良问题。

在其中一个实施例中，在第二膜材210上通过色带转印工艺形成色带单元220的过程中，采用CMYK色系色带。进一步地，在第二膜材210上通过色带转印工艺形成色带单元220的过程中，采用日本富士CMYK色系色带。该色带的分辨率为600DPI，精细度较高，有利于提高膜层结构20的外观效果。

在其中一个实施例中，S120包括S121～S122：

S121、通过色带转印工艺在第二膜材210上形成第一单色层222a和渐变色层222b，第一单色层222a设置在第二膜材210上，渐变色层222b设置在第一单色层222a远离第二膜材210的一侧，以形成第一色带区222，第一色带区222的位置与第一纹理区122的位置相对应。

在其中一个实施例中，转印温度为60℃～70℃。第一单色层222a的转印时间为2s～3s。渐变色层222b的转印时间为2s～3s。

在其中一个实施例中，第一单色层222a的色带为Cyan(青色)色带或者Magenta(洋红色)色带。渐变色层222b的色带包括为Cyan(青色)色带、黄色色带及Magenta(洋红色)色带中的至少一种。需要说明的是，第一单色层222a的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。渐变色层222b的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。

S122、通过色带转印工艺在第二膜材210上形成多个依次层叠设置的第二单色层224a，以形成第二色带区224，得到色带单元220，第二色带区224的位置与第二纹理区124的位置相对应。

在其中一个实施例中，转印温度为60℃～70℃。第二单色层224a的转印时间为2s～3s。

在其中一个实施例中，第二单色层224a的色带为Cyan(青色)色带或者Magenta(洋红色)色带。需要说明的是，第二单色层224a的色带不限于上述指出的色带，也可以为其他颜色的色带，可以根据需要进行设置。

需要说明的是，S121与S122的顺序不限，可以先进行S121再进行S122，也可以先进行S122再进行S121，还可以为S121和S122并行。

在其中一个实施例中，在第二膜材210上通过色带转印工艺形成色带单元220的步骤之后，还包括在色带单元220远离第二膜材210的一侧上贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜能够对色带单元220起到临时保护的作用。

S130、将色带单元220远离第二膜材210的一侧与第一膜材110远离纹理层120的一侧贴合，以使色带单元220在纹理层120上的正投影落在纹理层120上，得到膜层结构20。

进一步地，S130包括：将色带单元220远离第二膜材210的一侧贴合在胶粘层114上，以使色带单元220在纹理层120上的正投影落在纹理层120上，得到膜层结构20。

在其中一个实施例中，第一膜层组件100设有第一对准部。第二膜层组件200设有与第一对准部相对应的第二对准部。S130包括：将第一对准部与第二对准部相对，并且将色带单元220与第一膜材110贴合，以使色带单元220在纹理层120上的正投影落在纹理层120上。

在其中一个实施例中，S130的步骤包括：将色带单元220远离第二膜材210的一侧贴合在胶粘层114上，以使第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122上。

在其中一个实施例中，S130的步骤包括：将色带单元220远离第二膜材210的一侧贴合在胶粘层114上，以使第二色带区224在第二纹理区124的正投影落在第二纹理区124上。

在其中一个实施例中，S130的步骤包括：将色带单元220远离第二膜材210的一侧贴合在胶粘层114上，以使第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122上，且使第二色带区224在第二纹理区124的正投影落在第二纹理区124上。

上述膜层结构20的制备方法通过色带转印工艺形成色带单元220，通过在第一膜材110上形成纹理层120，以使膜层结构20呈现具有颜色且发亮的图案，得到的膜层结构20能够用于制备具有较好外观效果的电子设备，例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

进一步地，上述膜层结构20的制备方法通过色带转印工艺制备第一色带区222和第二色带区224，以在不同区域呈现不同的颜色效果。并且上述膜层结构20的制备方法通过形成第一纹理区122和第二纹理区124，以使不同区域呈现不同的亮度，以实现局部发亮的图案效果。

一般的胶印工艺主要的流程为：四色胶印(即凹版印刷)直接在膜片上打印出深浅不同的蓝色区域；再进行UV转印形成纹理；在纹理上进行电子枪蒸发镀膜，形成硅钛增亮膜系；在硅钛增亮膜系上进行丝网印刷，得到油墨层。然而，采用胶印工艺形成图案的粗糙度较高，细腻度较差，且单层胶印方案对UV纹理的设计有局限性，UV纹理的深度不能太深(不能超过10μm)，镀膜后的颜色效果不好，亮度不足。

上述膜层结构20的制备方法中，通过第一膜层组件100和第二膜层组件200的贴合，能够提高膜层结构20的颜色饱满感，色带转印工艺制备的色带单元220的分辨率较高，精细度较好，纹理层120与第一膜材110的结合力较好，能够通过不同宽度和高度的纹理使得膜层结构20呈现不同的增亮效果。

可以理解，胶粘层114也可以省略。通过在功能层112上涂覆粘接剂，以将色带单元220与第一膜材110贴合。

可以理解，第一纹理区122不限于上述设置，还可以为其他设置方式，请一并参阅图12～15，例如可以为其他实施方式的第一纹理区的结构，请参阅上文，此处不再赘述。

可以理解，形成反射单元130的方式不限于上述方式，请一并参阅图16，在其他实施例中，在纹理层上形成反射单元的步骤包括：在纹理层上形成依次层叠的附着层131’、第三折射层139’、第一折射层133’和第二折射层135’，得到反射单元。第三折射层139’的折射率大于第一折射层133’的折射率。此种设置中，通过第三折射层139’、第一折射层133’和第二折射层135’的配合，能够进一步提高反射单元的增亮效果。进一步地，第三折射层139’的折射率为2.55～2.76。更进一步地，第三折射层139’为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

进一步地，在纹理层上形成依次层叠的附着层131’、第三折射层139’、第一折射层133’和第二折射层135’，得到反射单元的步骤包括：在纹理层上形成依次层叠的附着层131’、第三折射层139’、第一保护层132’、第一折射层133’、第二保护层136’和第二折射层135’。第一保护层132’为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层136’为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层132’和第二保护层136’能够保护第一折射层133’，以降低第一折射层133’的氧化，还能够增加反射单元的机械强度。

具体地，附着层131’为二氧化硅层，附着层131’的厚度为8nm～12nm。第三折射层139’为五氧化三钛层，第三折射层139’的厚度为7nm～17nm。第一保护层132’为二氧化硅层，第一保护层132’的厚度为10nm～20nm。第一折射层133’为铟层，第一折射层133的厚度为10nm～20nm。第二保护层136’为二氧化硅层，第二保护层136’的厚度为20nm～30nm。第二折射层135’为五氧化三钛层，第二折射层135’的厚度为5nm～9nm。此种设置能够降低第一折射层133’的氧化，增加反射单元的机械强度。

需要说明的是，S111可以省略。此时，纹理层120包括多个平行的第三凸条1242。

需要说明的是，S112可以省略。此时，纹理层120包括多个平行的第一凸条1221及多个平行的第二凸条1223。

需要说明的是，S121可以省略。此时，色带单元220包括多个层叠设置的第二单色层224a。

需要说明的是，S122可以省略。此时，色带单元220依次层叠的第一单色层222a和渐变色层222b。

可以理解，第一色带区222不限于为一个，也可以为多个。第一纹理区122为一个，第一色带区222为多个时，多个第一色带区222间隔设置。相邻第一色带区222之间形成有遮光部。遮光部能够降低光的透过。多个第一色带区222均与第一纹理区122对应。多个第一色带区222在第一纹理区122的正投影落在第一纹理区122上。此种设置降低了第一色带区222和第一纹理区122的对位精度要求，操作更加简便。进一步地，遮光部为黑色色带或者蓝色色带等深色带。在一个具体示例中，相邻第一色带区222之间形成有第二色带区224。

可以理解，第二纹理图案的缺口不限于为一个，也可以为多个。相应地，第一纹理图案不限于为一个，也可以为多个。第一纹理区122不限于为一个，也可以为多个。此时，第一色带区222也为多个。多个第一色带区222分别与多个第一纹理区122对应，以使一个第一色带区222对应一个第一纹理区122。相邻第一色带区222之间设有第二色带区224。可以理解，在第一膜材110上形成纹理层120的过程中，不限于在第一膜材110上同时形成第一纹理区122和第二纹理区124；也可以通过先在第一膜材110上形成第一纹理区122，再在第一膜材110上形成第二纹理区124；还可以先在第一膜材110上形成第二纹理区124，再在第一膜材110上形成第一纹理区122。

进一步地，形成第一纹理区122的操作包括：采用CNC机台，以6个刀同时加工的方式在第一基底上进行加工，得到具有纹理的母模，母模的纹理与第一纹理区122的纹理相同；将母模的纹理复制到PC板(聚碳酸酯板)上；接着在PC板上涂覆UV胶，将PC板上的UV胶转印到第一膜材110，固化，形成第一纹理区122。第一基底为滚轮。将母模的纹理复制到PC板上的方式为Roll to Roll。进一步地，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

形成第二纹理区124的操作包括：采用CNC机台，以6个刀同时加工的方式在第二基底上进行加工，得到具有纹理的母模，母模的纹理与第二纹理区124的纹理相同；将母模的纹理复制到PC板上；在PC板上涂覆UV胶，将PC板上的UV胶转印到第一膜材110，固化，形成第二纹理区124。第二基底为平面钢板。进一步地，UV转印的能量为500mj/cm²～1000mj/cm²。

可以理解，第一纹理区122与第二纹理区124不限于为无间隔设置，第一纹理区122与第二纹理区124也可以为间隔设置。

此外，还提供一实施方式的壳体机构1a的制备方法，能够制备外观效果较好的壳体机构1a。壳体机构1a的制备方法包括如下步骤：将基底10与上述实施方式的膜层结构20贴合，以使第二基材210与基底10相对，得到壳体机构1a。

进一步地，将附在粘接层214上的保护膜撕除，将基底10贴合在粘接层214，得到壳体机构1a。

在其中一个实施例中，将基底10与膜层结构20贴合的步骤之后，还包括对贴合有膜层结构20的基底10进行脱泡处理。进一步地，脱泡处理的方式为真空脱泡。更进一步地，脱泡温度为45℃～55℃。压力为7kg～12kg。脱泡时间为30min～50min。具体地，脱泡时间为40min。

在其中一个实施例中，对贴合有膜层结构20的基底10进行脱泡处理的步骤之后，还包括如下步骤：切割贴合有膜层结构20的基底10。通过切割得到所需大小的壳体机构1a。进一步地，切割的方式为镭射。更进一步地，将一个贴合有膜层结构20的基底10制成6～8个壳体机构1a。需要说明的是，不限于将一个贴合有膜层结构20的基底10制成6～8个壳体机构1a，也可以将一个贴合有膜层结构20的基底10制成1个壳体机构1a，还可以将一个贴合有膜层结构20的基底10制成10个壳体机构1a，可以根据需要进行设置。

以下为具体实施例部分：

如无特别说明，以下实施例中，油墨层的油墨材料为市售的PET低温油墨，干燥温度为80℃～90℃。色带转印工艺中所用的色带为日本富士CMYK色系色带。按照上文中S121～S122的操作，通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。

实施例1

本实施例的壳体机构的结构如图1～11所示，其制备过程如下：

(1)第一膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为50μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为25μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为90°。D1为8μm。H1为9μm。D2为8μm。H2为6μm。A3为30°。D3为8μm。H3为5.5μm。UV转印的能量为800mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为35nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为15nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为35nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为5nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为23μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，形成第一色带区。转印温度为65℃。每层第一单色层的转印时间为2s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为65℃。每层第二单色层的转印时间为2s。每层渐变色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.6nm。脱泡处理中，脱泡温度为50℃，压力为9kg，脱泡时间为40min。

经制备，得到实施例1的壳体机构的实物图如图17～18所示。图17表示壳体机构在第一色带区对应的图案。图18表示壳体机构在第二色带区对应的图案。从图17～18可以看出，壳体机构在第一色带区对应的图案的亮度高于壳体机构在第二色带区对应的图案的亮度，且壳体机构在第一色带区对应的图案的分辨率高于壳体机构在第二色带区对应的图案的的分辨率。

实施例2

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为48μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为20μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为85°。D1为6μm。H1为8μm。D2为6μm。H2为5μm。A3为25°。D3为6μm。H3为5μm。UV转印的能量为500mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为30nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为10nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为30nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为3nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为8μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为21μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，得到第一色带区。转印温度为60℃。每层第一单色层的转印时间为3s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为60℃。每层第二单色层的转印时间为3s。每层渐变色层的转印时间为3s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.5nm。脱泡处理中，脱泡温度为45℃，压力为7kg，脱泡时间为30min。

实施例3

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为52μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为30μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为95°。D1为10μm。H1为10μm。D2为10μm。H2为7μm。A3为35°。D3为10μm。H3为6μm。UV转印的能量为1000mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层，得到反射单元。附着层为氧化铝层。附着层的厚度为40nm。第一折射层为铟层。第一折射层的厚度为30nm。间隔层为氧化铝层。间隔层的厚度为40nm。第二折射层为二氧化钛层。第二折射层的厚度为7nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为一次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为25μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为25μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，得到第一色带区。转印温度为70℃。每层第一单色层的转印时间为2s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为70℃。每层第二单色层的转印时间为2s。每层渐变色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.7nm。脱泡处理中，脱泡温度为55℃，压力为12kg，脱泡时间为50min。

实施例4

本实施例的壳体机构如图1～6、图8～11和图16所示，其制备过程如下：

(1)第一膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为50μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为25μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为90°。D1为8μm。H1为9μm。D2为8μm。H2为6μm。A3为30°。D3为8μm。H3为5.5μm。UV转印的能量为800mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为10nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为12nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为15nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为15nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为25nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为7nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为23μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，形成第一色带区。转印温度为65℃。每层第一单色层的转印时间为2s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为65℃。每层第二单色层的转印时间为2s。每层渐变色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.6nm。脱泡处理中，脱泡温度为50℃，压力为9kg，脱泡时间为40min。

实施例5

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为48μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为20μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为85°。D1为6μm。H1为8μm。D2为6μm。H2为6μm。A3为25°。D3为6μm。H3为5μm。UV转印的能量为500mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为8nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为7nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为10nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为10nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为20nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为5nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为21μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，得到第一色带区。转印温度为60℃。每层第一单色层的转印时间为3s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为60℃。每层第二单色层的转印时间为3s。每层渐变色层的转印时间为3s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.5nm。脱泡处理中，脱泡温度为45℃，压力为7kg，脱泡时间为30min。

实施例6

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同，不同之处在于：壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下：

(1)第一膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第一膜材包括层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为52μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为30μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为95°。D1为10μm。H1为10μm。D2为10μm。H2为6μm。A3为35°。D3为10μm。H3为6μm。UV转印的能量为1000mj/cm²。

(2)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层，得到反射单元。附着层为二氧化硅层，附着层的厚度为12nm。第三折射层为五氧化三钛层，第三折射层的厚度为17nm。第一保护层为二氧化硅层，第一保护层的厚度为20nm。第一折射层为铟层，第一折射层的厚度为20nm。第二保护层为二氧化硅层，第二保护层的厚度为30nm。第二折射层为五氧化三钛层，第二折射层的厚度为9nm。

(3)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料，形成油墨层，得到第一膜层组件。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为7μm。

(4)第二膜材为PET防爆膜(购于SKC公司)。第二膜材包括层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。功能层的厚度为25μm。粘接层的材料为OCA。粘接层的厚度为17μm。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第一单色层，通过色带转印工艺在最远离第二膜材的第一单色层上形成五层层叠的渐变色层，得到第一色带区。转印温度为70℃。每层第一单色层的转印时间为2s。通过色带转印工艺在第二膜材上形成两层层叠的第二单色层，以形成第二色带区，得到变色单元。转印温度为70℃。每层第二单色层的转印时间为2s。每层渐变色层的转印时间为2s。

(5)撕除第一膜材的保护膜，将色带单元贴合在胶粘层上，以使第一色带区在第一纹理区的正投影落在第一纹理区上，且使第二色带区在第二纹理区的正投影落在第二纹理区上，得到膜层结构。

(6)撕除第二膜材的保护膜，将基底与粘接层贴合，真空脱泡处理，镭射切割，得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.7nm。脱泡处理中，脱泡温度为55℃，压力为12kg，脱泡时间为50min。

实施例7

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例5大致相同，不同之处在于，H1为8μm。H2为7μm。

实施例8

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例6大致相同，不同之处在于，H1为10μm。H2为5μm。

实施例9

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同，不同之处在于，D1为4μm。D2为4μm。

实施例10

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例3大致相同，不同之处在于，D1为12μm。D2为12μm。

实施例11

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同，不同之处在于，第一折射层的厚度为5nm。

实施例12

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例3大致相同，不同之处在于，第一折射层的厚度为35nm。

实施例13

本实施例的壳体机构的结构与实施例1的大致相同，不同之处在于，第一凸条、第二凸条和第三凸条的结构如图14～15所示，第一凸条在垂直于第一凸条的延伸方向的截面的形状为等腰梯形，第二凸条在垂直于第二凸条的延伸方向的截面的形状为等腰梯形，第三凸条在垂直于第三凸条的延伸方向的截面的形状为等腰梯形。D1’为8μm。H1’为9μm。D2’为8μm。H2’为6μm。D3’为8μm。H3’为5.5μm。

实施例14

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，每个第一凸条在垂直于第一凸条的延伸方向上的截面为直径为8μm的半圆形，且每个第一凸条的凸面远离第一膜材。每个第二凸条在垂直于第二凸条的延伸方向上的截面为直径为8μm的半圆形，且每个第二凸条的凸面远离第一膜材。

实施例15

本实施例的壳体的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，每个第三凸条在垂直于第三凸条的延伸方向上的截面为直径为8μm的半圆形，且每个第三凸条的凸面远离第一膜材。

实施例16

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同，不同之处在于，通过胶印工艺在第二膜材上形成间隔的第一胶印层和第二胶印层，得到颜色单元。撕除第一膜材的保护膜，将颜色单元贴合在胶粘层上，以使第一胶印层在第一纹理区的正投影落入第一纹理区内，第二胶印层在第二纹理区的正投影落入第二纹理区内。

测试：

测定实施例1～16的壳体机构在第一色带区对应的图案和在第二色带区对应的图案的亮度和分辨率。测定实施例1～16的壳体机构中纹理层与第一膜材的拉拔力。其中，采用色差仪测定图案在垂直于第一膜材延伸方向上的亮度(即L)；采用分辨率测试卡测定图案的分辨率；采用拉拔力检测仪测定拉拔力。测定结果详见表1。其中，图案的分辨率指在图像中每英寸所表达的像素数目。“第一色带区对应的图案”是指壳体机构在第一色带区对应的图案的分辨率。“第二色带区对应的图案”是指壳体机构在第二色带区对应的图案的分辨率。

表1表示的是实施例1～16的壳体机构在第一色带区对应的图案和在第二色带区对应的图案的亮度和分辨率、纹理层与第一膜材的结合力。

表1

从表1可以看出，实施例1～15中第一色带区对应的图案的分辨率为600DPI，高于实施例16(300DPI)，并且实施例1～15中第二色带区对应的图案的分辨率为600DPI，高于实施例16(300DPI)，说明上述实施方式的壳体机构的图案的分辨率较高，颜色效果更加细腻。实施例1～15的壳体机构中纹理层与第一膜材的拉拔力均大于16N，说明上述实施方式的壳体机构中纹理层与第一膜材的结合力较好，不会因纹理层脱落或者移位而影响壳体机构的外观效果。实施例1～15中第一色带区对应的图案的亮度大于70，第二色带区对应的图案的亮度为大于35，由此可见，上述实施方式的壳体机构具有局部发亮的效果，并且第一色带区对应图案的亮度高于第二色带区对应图案的亮度，呈现不同发亮区域具有亮度差的效果，视觉效果更好。

综上所述，上述实施方式的壳体机构的图案的分辨率较高，具有细腻的颜色效果，纹理层与第一膜材的结合力较好，具有局部发亮的效果，呈现不同发亮区域具有亮度差的效果，图案样式丰富，视觉效果更好。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (35)

1.一种膜层结构，其特征在于，包括：

第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层；及

第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元靠近所述第一膜材设置，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。

2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述纹理层具有第一纹理区，所述第一纹理区具有多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条，多个所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置，每个所述第二凸条的高度小于每个所述第一凸条的高度。

3.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于，相邻所述第一凸条和所述第二凸条无间隙设置。

4.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述纹理层具有第一纹理区，所述第一纹理区具有多个间隔设置的凸条组，每个所述凸条组包括平行且拼接的第一凸条和第二凸条，所述第二凸条的高度小于所述第一凸条的高度。

5.根据权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，多个所述凸条组呈矩阵排列。

6.根据权利要求2～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，每个所述第一凸条在垂直于所述第一凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形；

及/或，每个所述第二凸条在垂直于所述第二凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

7.根据权利要求6所述的膜层结构，其特征在于，每个所述第一凸条在垂直于所述第一凸条的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形；

及/或，每个所述第二凸条在垂直于所述第二凸条的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。

8.根据权利要求2～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述第一凸条和所述第二凸条的高度差为2μm～4μm。

9.根据权利要求2～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述第一凸条的宽度与所述第二凸条的宽度相等。

10.根据权利要求2～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元具有第一色带区，所述第一色带区的位置与所述第一纹理区的位置相对应，所述第一色带区在所述第一纹理区的正投影落在所述第一纹理区上。

11.根据权利要求10所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元在所述第一色带区处具有第一单色层和渐变色层，所述第一单色层设置在所述第二膜材上，所述渐变色层设置在所述第一单色层远离所述第二膜材的一侧。

12.根据权利要求10所述的膜层结构，其特征在于，所述第一色带区在所述第一纹理区的正投影与所述第一纹理区完全重合。

13.根据权利要求2～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述纹理层还具有第二纹理区，所述第二纹理区具有多个平行的第三凸条。

14.根据权利要求13所述的膜层结构，其特征在于，每个所述第三凸条在垂直于所述第三凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

15.根据权利要求13所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元具有第二色带区，所述第二色带区的位置与所述第二纹理区的位置相对应，所述第二色带区在所述第二纹理区的正投影落在所述第二纹理区上。

16.根据权利要求15所述的膜层结构，其特征在于，所述第二色带区在所述第二纹理区的正投影与所述第二纹理区完全重合。

17.根据权利要求15所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元在所述第二色带区处具有多个第二单色层，多个所述第二单色层依次层叠设置在所述第二基材上。

18.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述第一膜层组件还包括反射单元，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧。

19.根据权利要求18所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元包括附着层、第一折射层和第二折射层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率小于所述第一折射层的折射率。

20.根据权利要求19所述的膜层结构，其特征在于，所述第一折射层的折射率为0.68～0.72，所述第二折射层的折射率为2.55～2.76。

21.根据权利要求19所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元还包括间隔层，所述间隔层位于所述第一折射层和所述第二折射层之间，所述间隔层为氧化铝层或二氧化硅层。

22.根据权利要求21所述的膜层结构，其特征在于，所述附着层为氧化铝层，所述附着层的厚度为30nm～40nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述间隔层为氧化铝层，所述间隔层的厚度为30nm～40nm，所述第二折射层为二氧化钛层，所述第二折射层的厚度为3nm～7nm。

23.根据权利要求19所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元还包括第三折射层，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率。

24.根据权利要求23所述的膜层结构，其特征在于，所述第三折射层的折射率为2.55～2.76。

25.根据权利要求23所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元还包括第一保护层和第二保护层，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述第一保护层为氧化铝层或二氧化硅层，所述第二保护层为氧化铝层或二氧化硅层。

26.根据权利要求25所述的膜层结构，其特征在于，所述附着层为二氧化硅层，所述附着层的厚度为8nm～12nm，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第三折射层的厚度为7nm～17nm，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一保护层的厚度为10nm～20nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二保护层的厚度为20nm～30nm，所述第二折射层为五氧化三钛层，所述第二折射层的厚度为5nm～9nm。

27.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述第一膜材组件还包括油墨层，所述油墨层覆盖在所述反射单元远离所述纹理层的一侧上。

28.一种膜层结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供第一膜层组件，所述第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层；

在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元，得到第二膜层组件；及

将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合，且使所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上，得到膜层结构。

29.根据权利要求28所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合的步骤之前，还包括制备所述第一膜层组件的步骤：采用UV转印工艺在所述第一膜材上形成所述纹理层，得到所述第一膜层组件。

30.根据权利要求29所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤包括：在所述第一膜材上形成多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条，形成第一纹理区，得到所述纹理层，其中，所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置，所述第二凸条的高度小于所述第一凸条的高度。

31.根据权利要求30所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成第一单色层和渐变色层，所述渐变色层设置在所述第一单色层远离所述第二膜材的一侧，以形成第一色带区，得到所述色带单元，所述第一色带区的位置与所述第一纹理区的位置相对应。

32.根据权利要求30所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤还包括：在所述第一膜材上形成多个平行的第三凸条，形成第二纹理区，得到所述纹理层。

33.根据权利要求32所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成多个依次层叠设置的第二单色层，以形成第二色带区，得到所述色带单元，所述第二色带区的位置与所述第二纹理区的位置相对应。

34.一种壳体机构，其特征在于，包括：

基底；及

权利要求1～33任一项所述的膜层结构，所述膜层结构设置在所述基底上，且所述膜层结构靠近所述第二基材的一侧与所述基底相对。

35.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求34所述的壳体机构，

显示机构，与所述壳体机构连接，所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间；及

电路板，设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。