CN110238948A - 釉液自动循环供给控制装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种釉浆自动循环供给控制装置，涉及陶瓷烟嘴生产加工领域。本发明包括一浸釉箱体，所述浸釉箱体的侧壁上设置有一釉液供给管，所述釉液供给管的另一端连接一蠕动泵，所述浸釉箱体的外部设置有一釉液收集箱，所述釉液收集箱的侧壁环绕地设置在所述进釉箱体的***，所述蠕动泵通过一进液管连接一储料罐；所述储料罐与所述釉液收集箱通过一回流收集管连通。其中，陶瓷烟嘴的浸釉结构设置在所述浸釉箱体内。本发明通过釉液循环的方式，有利于釉液的回收与再次利用，减少原料的浪费和对环境的污染，几乎不需要人工操作，提高了生产效率，降低了人工成本和人员安全健康隐患。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷烟嘴生产加工领域，特别涉及一种釉浆自动循环供给控制装置。
背景技术
目前，在许多工厂，陶瓷烟嘴的表面处理是通过喷釉进行，整个过程需要人工对陶瓷烟嘴进行人工取料，再用人工将产品上料到喷釉工装夹具上进行位置矫正和姿势调整，通过喷枪将釉浆喷涂到产品的表面，最后再将喷完釉的产品通过人工进行取料到烧结的工装上进行下一步烧结处理。为满足日常的生产需求，采用这种方式往往需要投入大量的人力进行集中生产作业，对人工的依赖程度大，人工的成本投入很高。并且，通过喷釉的方式对产品进行表面处理，容易造成粉尘污染,长期在这样的环境下工作对人工的健康有很大的影响。另外，若要对粉尘进行处理，还需要投入高额的除尘设备费用，不利于成本的节约。
发明内容
本发明提供了一种釉浆自动循环供给控制装置，其目的是为了对自动化生产流水线上的陶瓷烟嘴进行上釉，并持续循环地对上釉装置补充釉液，使得整个上釉过程能自动地进行，避免了依靠人工操作带来的问题。
为了达到上述目的，本发明提供了一种釉浆自动循环供给控制装置，包括一浸釉箱体，所述浸釉箱体的侧壁上设置有一釉液供给管，所述釉液供给管的另一端连接一蠕动泵，所述浸釉箱体的外部设置有一釉液收集箱，所述釉液收集箱的侧壁环绕地设置在所述进釉箱体的***，所述蠕动泵通过一进液管连接一储料罐；所述储料罐与所述釉液收集箱通过一回流收集管连通；
所述浸釉箱体内设置有多根立柱，所述立柱的上方设置有一压板，所述压板与所述立柱的顶端固定连接，每根所述立柱分别滑动地插设在一直线轴承内，所述直线轴承底部设置有一压弹簧，所述压板的上表面设置有多排浸釉孔，每个所述浸釉孔内均插设有一浸釉柱，在每个所述浸釉柱上均设置有一浸釉头。
其中，所述浸釉头的上表面高度与所述浸釉箱体的侧壁高度相一致。
其中，所述浸釉箱体的其中一个侧壁顶部还设置有第一液面传感器。
其中，所述釉液收集箱的其中一个侧壁上还设置有第二液面传感器。
其中，所述储料罐的内侧壁上还设置有第三液面传感器。
其中，所述进液管和所述回流收集管上还分别设置有一电控球阀。
其中，所述第一液面传感器、第二液面传感器、第三液面传感器以及两个所述电控球阀均与一控制***电连接。
其中，所述储料罐的侧壁上还设置有一搅拌机，所述搅拌机的搅拌端设置在所述储料罐内部。
本发明的上述方案有如下的有益效果：
本发明的釉浆自动循环供给控制装置，釉液可在浸釉箱体、釉液收集箱、储料罐和蠕动泵之间循环地流动，并通过储料罐对整个***添加釉液，有利于釉液的回收与再次利用，减少原料的浪费和对环境的污染；
本发明的釉浆自动循环供给控制装置，通过控制***，控制整个装置的釉液流动以及循环过程，使得浸釉箱体内的釉液液面始终保持在最高位置，以便陶瓷烟嘴的充分浸釉，同时也能确保釉液收集箱内的釉液及时地回流至储料罐内，对釉液回收、循环再利用，防止釉液溢出釉液收集箱，另外还能监控储料罐内的釉液液面高度，以便及时地对整个装置补充釉液。整个装置可持续地对陶瓷烟嘴浸釉，几乎不需要人工操作，提高了生产效率，降低了人工成本和人员安全健康隐患。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图；
图2为本发明的浸釉箱体内结构放大示意图。
【附图标记说明】
1-浸釉箱体；2-釉液供给管；3-蠕动泵；4-釉液收集箱；5-进液管；6-储料罐；7-立柱；8-压板；9-直线轴承；10-浸釉孔；11-浸釉柱；12-浸釉头；13-陶瓷烟嘴；14-电控球阀；15-搅拌机。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
如图1、图2所示，本发明的实施例提供了一种釉浆自动循环供给控制装置，包括一浸釉箱体1，所述浸釉箱体1的侧壁上设置有一釉液供给管2，所述釉液供给管2的另一端连接一蠕动泵3，所述浸釉箱体1的外部设置有一釉液收集箱4，所述釉液收集箱4的侧壁环绕地设置在所述进釉箱体1的***，所述蠕动泵3通过一进液管5连接一储料罐6；所述储料罐6与所述釉液收集4箱通过一回流收集管连通；所述浸釉箱体1内设置有多根立柱7，所述立柱7的上方设置有一压板8，所述压板8与所述立柱7的顶端固定连接，每根所述立柱7分别滑动地插设在一直线轴承9内，所述直线轴承9底部设置有一压弹簧，所述压板8的上表面设置有多排浸釉孔10，每个所述浸釉孔10内均插设有一浸釉柱11，在每个所述浸釉柱11上均设置有一浸釉头12。
本发明的上述实施例所述的釉浆自动循环供给控制装置，浸釉箱体1作为陶瓷烟嘴13浸釉釉液的容器，在浸釉箱体1的内部设置一压板8，通过多根立柱7将压板8支撑，并且压板8可随立柱7在直线轴承9内的滑动向下移动，将压弹簧压缩。压板8的上表面开设多个浸釉孔10，在每个浸釉孔10内插设一浸釉柱11，并且在浸釉柱11上设置一浸釉头12。浸釉时，向下移动陶瓷烟嘴13使得其底端与浸釉头12接触，继续向下移动陶瓷烟嘴13并将浸釉头12、浸釉柱11和压板8等向下挤压，陶瓷烟嘴13的整体将逐渐地没入浸釉箱体1的釉液液面以下，陶瓷烟嘴13全部的外表面完成浸釉。当陶瓷烟嘴13、压板8等逐渐没入浸釉箱体1的釉液液面以下时，液面将逐渐地升高，最终溢出浸釉箱体1，流入浸釉箱体1外侧的釉液收集箱4内。釉液收集箱4与储料罐6通过一回流收集管连通，当釉液收集箱4内的釉液液面上升至一定高度时，釉液将通过回流收集管回流至储料罐6内。当陶瓷烟嘴13完成浸釉后将会向上移动，逐渐地与浸釉头12分离，压板8将会在压弹簧的作用下上移复位，重新浮出釉液液面。由于浸釉箱体1内的部分釉液已经排至釉液收集箱4，因此浸釉箱体1内的液面高度已低于初始液面高度。因此，为保证陶瓷烟嘴13的浸釉效果，蠕动泵3将储料罐6内的釉液通过釉液供给管2重新压入浸釉箱体1内，保证每组陶瓷烟嘴13浸釉前，浸釉箱体1内的釉液液面在同一预设高度。本发明的釉浆自动循环供给控制装置，采用釉液在浸釉箱体1、釉液收集箱4、储料罐6和蠕动泵3的循环流动模式，有利于釉液的回收与再次利用，减少原料的浪费和对环境的污染。
其中，所述浸釉头12的上表面高度与所述浸釉箱体1的侧壁高度相一致。所述浸釉箱体1的其中一个侧壁顶部还设置有第一液面传感器。所述釉液收集箱4的其中一个侧壁上还设置有第二液面传感器。所述储料罐6的内侧壁上还设置有第三液面传感器。所述进液管5和所述回流收集管上还分别设置有一电控球阀14。其中，所述第一液面传感器、第二液面传感器、第三液面传感器以及两个所述电控球阀14均与一控制***电连接。
本发明的上述实施例所述的釉浆自动循环供给控制装置，第一液面传感器设置在浸釉箱体1的侧壁最高处，用于检测浸釉箱体1内的釉液是否装满，当釉液液面高度低于浸釉箱体1的侧壁最高处时，第一液面传感器将反馈至控制***，控制***控制进液管5上的电控球阀14打开，将浸釉箱体1和蠕动泵3连通，蠕动泵3将储料罐6内的釉液通过进液管5吸入蠕动泵3内，再通过釉液供给管2将釉液压入浸釉箱体1内，使得浸釉箱体1内的液面始终保持在最高位置，即满装的状态，便于陶瓷烟嘴13的充分浸釉。当釉液收集箱4内的釉液液面升高至第二液面传感器的高度位置时，第二液面传感器反馈至控制***，控制***控制回流收集管上的电控球阀14打开，釉液收集箱4内的釉液将回流至储料罐6内，以便及时地对釉液回收、循环再利用，防止釉液溢出釉液收集箱4。其中，储料罐6内的第三液面传感器，用于检测储料罐6内的釉液液面高度，由于陶瓷烟嘴13的浸釉是连续进行的，整个***的釉液将会不断地消耗，因此当储料罐6内的釉液液面低于第三液面传感器的高度位置时，第三液面传感器反馈至控制***，控制***控制其他装置或发出信号提醒工人将新的釉液添加至储料罐6内，保证整个装置的釉液可持续地对各组陶瓷烟嘴13浸釉。
其中，所述储料罐6的侧壁上还设置有一搅拌机15，所述搅拌机15的搅拌端设置在所述储料罐6内部。搅拌机15采用持续工作的模式，其搅拌端在储料罐6内持续地对釉液进行搅拌，确保储料罐6内釉液的成分均匀，防止发生沉淀现象。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，包括一浸釉箱体，所述浸釉箱体的侧壁上设置有一釉液供给管，所述釉液供给管的另一端连接一蠕动泵，所述浸釉箱体的外部设置有一釉液收集箱，所述釉液收集箱的侧壁环绕地设置在所述进釉箱体的***，所述蠕动泵通过一进液管连接一储料罐；所述储料罐与所述釉液收集箱通过一回流收集管连通；
所述浸釉箱体内设置有多根立柱，所述立柱的上方设置有一压板，所述压板与所述立柱的顶端固定连接，每根所述立柱分别滑动地插设在一直线轴承内，所述直线轴承底部设置有一压弹簧，所述压板的上表面设置有多排浸釉孔，每个所述浸釉孔内均插设有一浸釉柱，在每个所述浸釉柱上均设置有一浸釉头。
2.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述浸釉头的上表面高度与所述浸釉箱体的侧壁高度相一致。
3.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述浸釉箱体的其中一个侧壁顶部还设置有第一液面传感器。
4.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述釉液收集箱的其中一个侧壁上还设置有第二液面传感器。
5.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述储料罐的内侧壁上还设置有第三液面传感器。
6.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述进液管和所述回流收集管上还分别设置有一电控球阀。
7.根据权利要求1-6任一项所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述第一液面传感器、第二液面传感器、第三液面传感器以及两个所述电控球阀均与一控制***电连接。
8.根据权利要求1所述的釉浆自动循环供给控制装置，其特征在于，所述储料罐的侧壁上还设置有一搅拌机，所述搅拌机的搅拌端设置在所述储料罐内部。
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