CN110148549A - 等离子处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。本发明的等离子处理装置可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。
Description
技术领域
本发明涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种等离子处理装置。
背景技术
等离子处理装置依靠电能会产生高压、高频能量，这些能量在喷枪中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体，喷枪借助压缩空间将等离子体喷向处理表面，使处理表面产生相应的物理变化和化学变化。现有的等离子处理装置存在一定的缺点，例如不能一次性、全方位对待处理产品进行处理，需要多次调整产品的摆放位置，导致处理效率较低；并且不能适应不同形状和类型的产品，限制了其应用范围。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种处理效率高且适应性强的等离子处理装置。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：
一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。
进一步的，所述喷枪机构包括等离子喷枪、固定件和第一驱动件，所述等离子喷枪固定设置于所述固定件上，所述第一驱动件驱动所述第一固定件沿Z轴方向运动。
进一步的，还包括第二驱动件和第三驱动件，所述第二驱动件驱动所述固定件沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构沿Y轴方向运动。
进一步的，所述固定机构还包括第一限位件和第二限位件，所述第一限位件和第二限位件分别相对于所述吸附件的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件和第二限位件分别位于所述吸附件的边缘，且所述待处理产品分别抵持所述第一限位件和第二限位件。
进一步的，所述第一限位件和第二限位件均为伸缩气缸。
进一步的，所述固定机构的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构间隔设置于所述机架上。
本发明的有益效果在于：由于旋转件相对于底座可转动设置，吸附件相对于旋转件可转动设置，且二者的转动轨迹存在夹角，可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。
附图说明
图1为本发明实施例一的等离子处理装置的整体结构示意图；
图2为本发明实施例一的等离子处理装置的部分结构示意图；
图3为本发明实施例一的等离子处理装置的另一部分结构示意图。
标号说明：
1、喷枪机构；11、等离子喷枪；12、固定件；13、第一驱动件；2、机架；3、固定机构；31、底座；32、旋转件；33、吸附件；34、第一限位件；35、第二限位件；4、待处理产品。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
本发明最关键的构思在于：由于旋转件相对于底座可转动设置，吸附件相对于旋转件可转动设置，且二者的转动轨迹存在夹角，处理效率高，适应性强。
请参照图1至图3，一种等离子处理装置，包括喷枪机构1、机架2和用于固定待处理产品4的固定机构3，所述喷枪机构1和固定机构3分别固定设置于所述机架2上，且所述喷枪机构1设置于所述固定机构3的上方，所述固定机构3包括底座31、旋转件32和用于吸附所述待处理产品4的吸附件33，所述旋转件32相对于所述底座31可转动设置，所述吸附件33相对于所述旋转件32可转动设置，且所述旋转件32相对于所述底座31的转动轨迹与所述吸附件33相对于所述旋转件32的转动轨迹存在夹角。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：由于旋转件相对于底座可转动设置，吸附件相对于旋转件可转动设置，且二者的转动轨迹存在夹角，可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。
进一步的，所述喷枪机构1包括等离子喷枪11、固定件12和第一驱动件13，所述等离子喷枪11固定设置于所述固定件12上，所述第一驱动件13驱动所述第一固定件12沿Z轴方向运动。
由上述描述可知，通过第一驱动件可以调整等离子喷枪的位置，便于更好地对待处理产品进行等离子处理，第一驱动件可以是驱动电机。
进一步的，还包括第二驱动件和第三驱动件，所述第二驱动件驱动所述固定件12沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构3沿Y轴方向运动。
由上述描述可知，通过第二驱动件可第三驱动件的配合可以丰富等离子喷枪和待处理产品的运动轨迹，处理效果更好，适应性更强。
进一步的，所述固定机构3还包括第一限位件34和第二限位件35，所述第一限位件34和第二限位件35分别相对于所述吸附件33的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件34和第二限位件35分别位于所述吸附件33的边缘，且所述待处理产品4分别抵持所述第一限位件34和第二限位件35。
由上述描述可知，通过第一限位件和第二限位件可以对待处理产品的放置位置进行固定，可提高同一批次的待处理产品的一致性。
进一步的，所述第一限位件34和第二限位件35均为伸缩气缸。
进一步的，所述固定机构3的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构3间隔设置于所述机架2上。
由上述描述可知，固定机构的数目可以根据需要进行设置。
请参照图1至图3，本发明的实施例一为：
一种等离子处理装置，如图1所示，包括喷枪机构1、机架2和用于固定待处理产品4的固定机构3，所述喷枪机构1和固定机构3分别固定设置于所述机架2上，且所述喷枪机构1设置于所述固定机构3的上方。本实施例中，所述固定机构3的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构3间隔设置于所述机架2上。
如图2所示，所述喷枪机构1包括等离子喷枪11、固定件12和第一驱动件13，所述等离子喷枪11固定设置于所述固定件12上，所述第一驱动件13驱动所述第一固定件12沿Z轴方向运动。所述等离子处理装置还包括第二驱动件和第三驱动件(图中未示)，所述第二驱动件驱动所述固定件12沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构3沿Y轴方向运动。第一驱动件13、第二驱动件和第三驱动件可以是驱动电机，也可以是驱动气缸等驱动装置。所述固定机构3包括底座31、旋转件32和用于吸附所述待处理产品4的吸附件33，所述旋转件32相对于所述底座31可转动设置，所述吸附件33相对于所述旋转件32可转动设置，且所述旋转件32相对于所述底座31的转动轨迹与所述吸附件33相对于所述旋转件32的转动轨迹存在夹角，即两个运动轨迹所在的平面呈夹角设置，并不是相互平行的。优选的，旋转件32相对于底座31的可转动角度为0～90°，吸附件33相对于旋转件32的可转动角度为-360～360°。
如图3所示，所述固定机构3还包括第一限位件34和第二限位件35，所述第一限位件34和第二限位件35分别相对于所述吸附件33的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件34和第二限位件35分别位于所述吸附件33的边缘，且所述待处理产品4分别抵持所述第一限位件34和第二限位件35。本实施例中，所述第一限位件34和第二限位件35均为伸缩气缸。假设吸附件33的形状为矩形，则第一限位件34和第二限位件35可以设置在吸附件33相邻两条边的边缘，且第一限位件34和第二限位件35的数目可以根据需要进行设置。
本实施例中，在对待处理产品4进行等离子处理前，第一限位件34和第二限位件35处于伸展状态，将待处理产品4放置在吸附件33上使待处理产品4分别抵持第一限位件34和第二限位件35，当吸附件33将待处理产品4吸附好后，控制第一限位件34和第二限位件35从伸展状态变为吸合状态，此时待处理产品4完全独立固定在吸附件33上，其四周无遮挡物。通过控制第一驱动件13、第二驱动件、第三驱动件的运动以及旋转件32和吸附件33的转动角度，可以很好地对待处理产品4进行立体式等离子处理。
综上所述，本发明提供的一种等离子处理装置，对待处理产品的定位效果好，可以多角度地对待处理产品进行等离子处理，处理效率高，适应性强。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，其特征在于，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。
2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述喷枪机构包括等离子喷枪、固定件和第一驱动件，所述等离子喷枪固定设置于所述固定件上，所述第一驱动件驱动所述第一固定件沿Z轴方向运动。
3.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，还包括第二驱动件和第三驱动件，所述第二驱动件驱动所述固定件沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构沿Y轴方向运动。
4.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述固定机构还包括第一限位件和第二限位件，所述第一限位件和第二限位件分别相对于所述吸附件的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件和第二限位件分别位于所述吸附件的边缘，且所述待处理产品分别抵持所述第一限位件和第二限位件。
5.根据权利要求4所述的等离子处理装置，其特征在于，所述第一限位件和第二限位件均为伸缩气缸。
6.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述固定机构的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构间隔设置于所述机架上。
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