CN110092671A - 具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法 - Google Patents

具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法。抛釉砖由坯体层、化妆土层、装饰层、闪光层、抛釉层构成；闪光层内含云母片；闪光层由透明釉粉、水和云母片组成，按重量份：透明釉粉100份，水45～50份，云母片0.3～1份。制备方法：(1)将坯体压制成型、干燥；(2)施化妆土层；(3)施装饰层：采用喷墨打印工艺装饰砖坯表面，形成装饰层；(4)施闪光层：采用钟罩淋釉器淋闪光层；(5)施抛釉层：采用刀型淋釉器淋抛釉层；(6)烧成：烧成温度1165～1210℃，烧成时间55～80分钟；(7)抛光：抛光后光泽度控制在75～85度。

Description

具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷砖技术领域，特别涉及一种具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法。
背景技术
目前的陶瓷地砖市场上，最流行的是2011年左右面世的抛釉砖产品，该类产品因其表面丰富的图案变化和富有光泽的抛釉效果而深受市场欢迎。现有抛釉砖的生产工艺一般有三种：一是丝网印刷，即陶瓷砖坯经过丝网印抛釉后烧成；二是淋(喷)釉，即通过淋釉或喷釉工艺将抛釉施在砖坯表面后烧成；三是堆干粒，即用干法或湿法将干粒堆在砖坯表面后烧成。
以上三种工艺生产的抛釉砖产品，在烧成抛光以后，形成光泽亮丽的抛光面。但是此抛光面存在光泽度过于均匀，产品缺乏层次的不足。在抛釉砖上市多年的现在，该类产品略显平淡。
CN公开了一种，它的目的是提供一种。该技术方案：，其不足之处是：
发明内容
本发明所解决的技术问题是克服上述现有技术的不足而提供一种使抛釉砖局部具有荧光光泽，与大面积的抛光光泽效果有明显区别，从而产生不同光泽效果相互交错的视觉冲击力，具有荧光光泽的抛釉砖及制备方法。
本发明的技术解决方案是所述具有荧光光泽的抛釉砖，其特殊之处在于，由坯体层、化妆土层、装饰层、闪光层、抛釉层构成复合层结构；其中：闪光层内部含有云母片，烧成后云母片具有荧光光泽效果；所述闪光层由透明釉粉、水和云母片组成，按重量份由以下组份组成：透明釉粉100份，水45～50份，云母片0.3～1份。
作为优选：所述闪光层透明釉粉按重量份由以下组份组成：
作为优选：所述透明熔块的原料按重量份由以下组份组成：
作为优选：所述云母片包括金云母、银云母、黄云母、白云母多种颜色云母中的至少一种；所述云母片的粒径按标准筛目数控制，目数为10～60目。
本发明的另一技术解决方案是所述具有荧光光泽的抛釉砖的制备方法，其特殊之处在于，包括以下步骤：
(1)用压制成型方法将坯体压制成型，干燥；干燥温度130～180℃，干燥时间60～120分钟；
(2)施化妆土层：采用钟罩淋釉器淋化妆土，参数为：比重1.82±0.02，釉量600～900g/m2，恩氏粘度28～32s；
(3)施装饰层：采用喷墨打印工艺装饰砖坯表面，形成装饰层；
(4)施闪光层：采用钟罩淋釉器淋闪光层，参数为：比重1.75±0.02，釉量300～500g/m2，恩氏粘度28～32s；
(5)施抛釉层：采用刀型淋釉器淋抛釉层，参数为：比重1.50±0.02，釉量200～300g/m2，恩氏粘度17～25s；
(6)烧成：烧成温度1165～1210℃，烧成时间55～80分钟；
(7)抛光：抛光后光泽度控制在75～85度。
作为优选：所述步骤(3)进一步包括：通过调整抛光模块的组合，仅抛光抛釉层，而不抛到闪光层。
作为优选：所述步骤(5)进一步包括：采用刀型淋釉器，以满足施釉量少且对抛釉层平整度高的要求。
与现有技术相比，本发明的有益效果：
(1)本发明是在常规抛釉砖中的抛釉层下增加一层闪光层，使产品在抛光后具有荧光光泽。其中闪光层内部含有云母片，烧成后云母片具有荧光光泽。
(2)本发明闪光层中的云母片有强烈的荧光光泽质感，与抛釉层的平整抛光光泽效果形成剧烈的反差，产生不同光泽效果相互交错的视觉冲击力，使产品的层次感更强。
(3)本发明所制得具有荧光光泽的抛釉砖的吸水率＜0.5％，符合瓷质砖标准，其性能完全符合陶瓷砖国家标准GB/T 4100-2016。本发明所制得具有荧光光泽的抛釉砖在耐化学腐蚀性、耐污染性等内质均符合国标要求。
(4)本发明抛光后的产品表面为抛釉层，而云母片在闪光层，没有暴露在产品表面，产品在使用过程中不会出现云母片剥落、被氧化失去光泽的现象。
(5)与钟罩淋釉器相比，本发明所施抛釉层的比重、釉量、恩氏粘度均更小，且抛釉层的均匀程度和平整度更高。
(6)本发明制备工艺中的烧成温度为1165～1210℃，远低于云母片能承受的1400℃，烧成后不会影响云母片的荧光光泽。
具体实施方式
本发明下面将结合实施例作进一步详述：
实施例一：
具有荧光光泽的抛釉砖由下到上包括：坯体层、化妆土层、装饰层、闪光层、抛釉层；其中闪光层内部含有云母片，烧成后云母片具有荧光光泽。所述闪光层由透明釉粉、水和云母片组成，按重量组成为透明釉粉100份，水48份，云母片0.4份。
所述云母片的粒径按标准筛目数控制，目数为15～30目。
所述云母片包括金云母、银云母共2种不同颜色的云母，金云母和银云母按重量组成为金云母40份、银云母60份。
所述闪光层透明釉粉的重量组成为：烧氧化锌1份、钠长石13份、钾长石15份、霞石16份、高岭土10份、烧滑石7份、煅烧高岭土8份、白云石4份、方解石6份、透明熔块20份、羧甲基纤维素0.3份、三聚磷酸钠0.35份。
所述透明熔块的原料重量组成为：长石38份、霞石23份、白云石13份、方解石8份、碳酸钡8份、氧化锌5份、硼酸5份。
制备方法包括以下步骤：
(1)使用压制成型方法将坯体压制成型，干燥；干燥温度140℃，干燥时间105分钟；
(2)施化妆土层：采用钟罩淋釉器淋化妆土，参数为：比重1.82±0.02，釉量650g/m2，恩氏粘度28～32s；
(3)施装饰层：采用喷墨打印工艺装饰砖坯表面，形成装饰层；
(4)施闪光层：采用钟罩淋釉器淋闪光层，参数为：比重1.75±0.02，釉量350g/m2，恩氏粘度28～32s；
(5)施抛釉层：采用刀型淋釉器淋抛釉层，参数为：比重1.50±0.02，釉量280g/m2，恩氏粘度17～25s；
(6)烧成：烧成温度1178℃，烧成时间76分钟；
(7)抛光：抛光后光泽度控制在75～85度。
实施例二：
具有荧光光泽的抛釉砖由下到上包括：坯体层、化妆土层、装饰层、闪光层、抛釉层。其中闪光层内部含有云母片，烧成后云母片具有荧光光泽。所述闪光层由透明釉粉、水和云母片组成，按重量组成为透明釉粉100份，水48份，云母片0.8份。
所述云母片的粒径按标准筛目数控制，目数为30～50目。
所述云母片包括金云母、银云母、黄云母、白云母共4种不同颜色的云母，金云母、银云母、黄云母和白云母按重量组成为金云母25份、银云母30份、黄云母10份、白云母35份。
所述闪光层透明釉粉的重量组成为：烧氧化锌2份、钠长石18份、钾长石13份、霞石18份、高岭土12份、烧滑石5份、煅烧高岭土5份、白云石3份、方解石5份、透明熔块19份、羧甲基纤维素0.4份、三聚磷酸钠0.5份。
所述透明熔块的原料重量组成为：长石38份、霞石23份、白云石13份、方解石8份、碳酸钡8份、氧化锌5份、硼酸5份。
制备方法包括以下步骤：
(1)使用压制成型方法将坯体压制成型，干燥；干燥温度170℃，干燥时间70分钟；
(2)施化妆土层：采用钟罩淋釉器淋化妆土，参数为：比重1.82±0.02，釉量800g/m2，恩氏粘度28～32s；
(3)施装饰层：采用喷墨打印工艺装饰砖坯表面，形成装饰层；
(4)施闪光层：采用钟罩淋釉器淋闪光层，参数为：比重1.75±0.02，釉量460g/m2，恩氏粘度28～32s；
(5)施抛釉层：采用刀型淋釉器淋抛釉层，参数为：比重1.50±0.02，釉量230g/m2，恩氏粘度17～25s；
(6)烧成：烧成温度1198℃，烧成时间63分钟；
(7)抛光：抛光后光泽度控制在75～85度。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。

Claims (7)

1.一种具有荧光光泽的抛釉砖，其特征在于，由坯体层、化妆土层、装饰层、闪光层、抛釉层构成复合层结构；其中：闪光层内部含有云母片，烧成后云母片具有荧光光泽效果；所述闪光层由透明釉粉、水和云母片组成，按重量份由以下组份组成：透明釉粉100份，水45～50份，云母片0.3～1份。
2.根据权利要求1所述具有荧光光泽的抛釉砖，其特征在于，所述闪光层透明釉粉按重量份由以下组份组成：
3.根据权利要求2所述具有荧光光泽的抛釉砖，其特征在于，所述透明熔块的原料按重量份由以下组份组成：
长石30～40份 霞石20～30份 白云石10～15份
方解石5～10份 碳酸钡3～8份 氧化锌3～5份
硼酸2～5份。
4.根据权利要求1所述具有荧光光泽的抛釉砖，其特征在于，所述云母片包括金云母、银云母、黄云母、白云母多种颜色云母中的至少一种；所述云母片的粒径按标准筛目数控制，目数为10～60目。
5.一种具有荧光光泽的抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)用压制成型方法将坯体压制成型，干燥；干燥温度130～180℃，干燥时间60～120分钟；
(2)施化妆土层：采用钟罩淋釉器淋化妆土，参数为：比重1.82±0.02，釉量600～900g/m2，恩氏粘度28～32s；
(3)施装饰层：采用喷墨打印工艺装饰砖坯表面，形成装饰层；
(4)施闪光层：采用钟罩淋釉器淋闪光层，参数为：比重1.75±0.02，釉量300～500g/m2，恩氏粘度28～32s；
(5)施抛釉层：采用刀型淋釉器淋抛釉层，参数为：比重1.50±0.02，釉量200～300g/m2，恩氏粘度17～25s；
(6)烧成：烧成温度1165～1210℃，烧成时间55～80分钟；
(7)抛光：抛光后光泽度控制在75～85度。
6.根据权利要求5所述具有荧光光泽的抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)进一步包括：通过调整抛光模块的组合，仅抛光抛釉层，而不抛到闪光层。
7.根据权利要求5所述具有荧光光泽的抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)进一步包括：采用刀型淋釉器，以满足施釉量少且对抛釉层平整度高的要求。
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