CN110026372A - 一种掩模版清洗装置 - Google Patents

一种掩模版清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110026372A
CN110026372A CN201910256333.3A CN201910256333A CN110026372A CN 110026372 A CN110026372 A CN 110026372A CN 201910256333 A CN201910256333 A CN 201910256333A CN 110026372 A CN110026372 A CN 110026372A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
rinse bath
boom
clamping jaw
cleaning device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910256333.3A
Other languages
English (en)
Inventor
苏庆
崔永鑫
刘成
杨阳
陆鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yungu Guan Technology Co Ltd
Original Assignee
Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yungu Guan Technology Co Ltd filed Critical Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority to CN201910256333.3A priority Critical patent/CN110026372A/zh
Publication of CN110026372A publication Critical patent/CN110026372A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明涉及液晶显示面板制造技术领域,具体涉及一种掩模版清洗装置,包括:清洗槽(1),用于容纳清洗液;载台(2),包括沿所述清洗槽(1)的深度方向设置的掩模版夹持件(22),所述掩模版夹持件(22)用于安装掩模版(7);第一驱动结构(3),与所述掩模版夹持件(22)连接,用于驱动所述掩模版夹持件(22)在所述清洗槽(1)中做升降运动。本发明提供了一种不同槽体之间的溶液互不交叉,清洗效果好的掩模版清洗装置。

Description

一种掩模版清洗装置
技术领域
本发明涉及液晶显示面板制造技术领域,具体涉及一种掩模版清洗装置。
背景技术
OLED行业蒸镀段使用的掩模版(MASK)在使用一段时间后表面会沉积有机或金属材料层,当有机或金属材料层达到一定厚度后就需要定期清洗,否则材料层或脱落或堵塞掩模版空隙,影响制程。掩模版的清洗通常在掩模版清洗机中完成,掩膜板清洗机在机台内部夹取和传送掩模版均使用吊臂的方式,吊臂在所有槽体内取放掩模版都需要将夹爪(Fork)浸入槽体溶液中,这样Fork上残留的溶液就会进入下一个槽体中,导致不同槽体之间溶液交叉污染,进而会影响溶液对掩模版的清洗能力。
发明内容
因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术的清洗装置的不同槽体之间溶液易交叉污染,影响掩模版的清洗效果的缺陷,从而提供一种掩模版清洗装置。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种掩模版清洗装置,包括:
清洗槽,用于容纳清洗液;
载台,包括沿所述清洗槽的深度方向设置的掩模版夹持件,所述掩模版夹持件用于安装掩模版;
第一驱动结构,与所述掩模版夹持件连接,用于驱动所述掩模版夹持件在所述清洗槽中做升降运动。
在一个实施例中,所述掩模版夹持件上成型有允许所述掩模版***的槽体。
在一个实施例中,所述第一驱动结构设置于所述清洗槽的外部,
优选地,所述第一驱动结构包括升降架,所述载台与所述升降架连接;
优选地,所述升降架分设在所述清洗槽相对的两个侧壁外;
优选地,所述升降架包括支撑杆和与所述支撑杆连接的驱动件,所述驱动件用于驱动所述支撑杆运动以带动所述载台在所述清洗槽中做升降运动。
在一个实施例中,所述清洗槽内部设置有一隔板,所述隔板将所述清洗槽分割成密封隔离的第一区域和第二区域,所述清洗液和所述载台位于所述第一区域,所述第一驱动结构至少部分设于所述第二区域,
优选地,所述第一区域位于所述第二区域的上方;
优选地,所述第一驱动结构包括支撑杆和与所述支撑杆连接的驱动件,所述驱动件位于所述第二区域,用于驱动所述支撑杆沿垂直于所述隔板的方向移动,所述支撑杆贯穿所述隔板设置,延伸至所述第一区域,所述载台设置于所述支撑杆远离所述驱动件的一端。
在一个实施例中,所述支撑杆位于所述第一区域的部分的外周套设有保护罩,所述保护罩随所述支撑杆的升降可伸缩设置。
在一个实施例中,还包括掩模版取拿结构,所述掩模版取拿结构包括夹爪,所述夹爪设置在至少高于所述清洗槽中清洗液的液面的位置,
优选地,所述夹爪高于所述清洗槽顶部设置;
优选地,所述掩模版清洗装置还包括设置在所述清洗槽外侧的支撑架,所述掩模版取拿结构设置在所述支撑架上;
优选地,所述支撑架包括位于所述清洗槽外部的支撑柱,以及与所述支撑柱相连接并位于所述清洗槽上方的吊臂;所述掩模版取拿结构设置在所述吊臂上;
优选地,所述掩模版取拿结构沿垂直于所述清洗槽深度方向可移动的设置在所述吊臂上,或者所述吊臂沿垂直于所述清洗槽深度方向可伸缩的设置在所述支撑柱上;
优选地,支撑柱沿所述清洗槽深度方向可伸缩设置。
在一个实施例中,所述支撑柱内部设置有第二驱动结构,所述第二驱动结构用于驱动所述吊臂沿垂直于所述支撑柱的方向移动,
优选地,所述吊臂包括第一吊臂与第二吊臂,所述夹爪包括第一夹爪与第二夹爪,所述第一夹爪设置在第一吊臂上,所述第二夹爪设置在第二吊臂上;
优选地,所述第二驱动结构用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动以使所述第一夹爪与所述第二夹爪产生相对移动;
优选地,所述第二驱动结构包括分别用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动的两个第二驱动结构。
在一个实施例中,所述第一夹爪与所述第二夹爪对称设置,优选地,每个所述夹爪上成型有夹角为90°的夹取端。
在一个实施例中,所述清洗槽的内壁上靠近所述清洗槽的上端开口的位置设有限位装置,所述限位装置用于感测并固定所述掩模版的位置。
在一个实施例中,所述限位装置包括限位传感器,所述限位传感器用于当所述掩模版到达预定位置时发感测信号;优选地,所述限位装置还包括伸缩固定装置,所述伸缩固定装置用于根据所述感测信号将所述掩模版固定在所述预定位置。
本发明技术方案,具有如下优点:
1.本发明提供的掩模版清洗装置,当需要对掩模版进行清洗时,只需将掩模版安装在载台的掩模版夹持件上,然后第一驱动结构驱动掩模版夹持件和掩模版按照清洗槽的深度方向完全浸入清洗液中即可,在清洗完成后,第一驱动结构再次驱动掩模版夹持件和掩模版上升至掩模版部分暴露出清洗液外部,从而便于吊臂的夹取操作。由于夹爪无需进入清洗液中即可夹取清洗完成的掩模版至下一工位,因此有效避免了不同清洗槽中清洗液的交叉污染,保证了清洗效果;另外,掩模版是按照其清洗槽的深度方向进入清洗液中,即两个工作端面同时接触清洗液,保证了两个工作端面与清洗液接触的均匀性,进一步提高了清洗效果;掩模版夹持件沿清洗槽的深度方向设置,且设有掩模版的安装空间,不仅便于掩模版的安装,而且安装后无需调整位置即可进入清洗液中清洗,操作方便,清洗效果良好。
2.本发明提供的掩模版清洗装置,第一驱动结构设于清洗槽的外部,可以减少清洗液对第一驱动结构的腐蚀,同时尽量减少对清洗槽内部结构的改动。
3.本发明提供的掩模版清洗装置,一对升降架同时驱动掩模版夹持件在清洗槽中的升降运动,使得升降平稳。
4.本发明提供的掩模版清洗装置,载台的顶端高于清洗槽的上端开口且连接至升降架上,使得掩模版在清洗过程中载台尽可能全部浸入清洗液中,提高清洗效率,保证清洗效果。
5.本发明提供的掩模版清洗装置,载台和驱动件分设在清洗槽隔板的两侧,在保证清洗效果的同时,减少了占用空间。
6.本发明提供的掩模版清洗装置,丝杆外周伸缩保护罩的设置,避免了丝杆与清洗液直接接触造成的溶液污染,及丝杆的腐蚀现象,同时不影响丝杆的升降运动。
7.本发明提供的掩模版清洗装置,由于支撑柱和吊臂的连接处位于清洗槽的外侧。这样即使吊臂相对支撑柱发生一定的位移,二者之间的相互摩擦产生的颗粒也不会掉落到清洗槽中,从而保证了清洗液的清洗能力。
8.本发明提供的掩模版清洗装置,夹爪和一对掩模版夹持件之间的夹角均为90°,这样掩模版就会在重力作用下固定在相应的位置,在取拿结构升降过程中不会发生偏移,进一步减少了摩擦产生的颗粒。
9.本发明提供的掩模版清洗装置,清洗槽内部上端定位结构的设置使得掩模版在运动至脱离清洗液后能够固定在清洗槽的上方,从而便于充分滴除掩模版上的残余清洗液,减少不同清洗液的交叉污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的掩模版清洗装置的第一种实施方式的示意图;
图2为本发明提供的掩模版清洗装置的第二种实施方式的示意图;
图3为本发明提供的掩模版清洗装置的第三种实施方式的示意图。
附图标记说明:
1-清洗槽;2-载台;3-第一驱动结构;4-安装座;5-支撑架;7-掩模版;11-隔板;21-第一部分;22-第二部分;23-支撑板;31-支撑杆;32-驱动件;51-掩模版取拿结构;53-吊臂;221-承托件;511-夹爪;521-底座;522-支撑柱。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
正如背景技术所述,现有的掩模版清洗机是通过吊臂的夹爪进入槽体溶液中从而对掩模版进行清洗,而在清洗完成,夹爪和掩模版离开溶液时,夹爪上不可避免会残留一些溶液,当夹爪和掩模版进入下一个槽体中时,夹爪上残留的溶液会与下一个槽体中的溶液混合,发生交叉污染,从而对清洗效果造成一定的影响。另外,由于溶液在槽体中一般呈流动状态,因此掩模版的两个工作端面在清洗过程中需要保证与溶液接触的均匀性,否则会影响清洗效果。
目前吊臂上的夹爪夹取掩模版主要是通过两个上下固定夹具和两侧可移动卡夹来完成,由于卡夹需要水平移动,以调整掩模版进入清洗槽的位置,这样卡夹不可避免的要与上方的安装座之间发生摩擦作用,这样长时间往复运动产生的颗粒就会掉落在掩模版以及下方的清洗液中,造成清洗液的污染,最终会影响掩模版的清洗效果。另外,卡夹从掩模版的两侧水平移动对其施加夹持力,这样二者之间的摩擦作用较大,也会产生较多的颗粒。
再次,掩模版在从一个清洗槽中移出时,表面会附着大量清洗液,也会造成清洗液一定的浪费。
基于此,本发明提供了一种掩模版清洗装置,包括清洗槽1、载台2和第一驱动结构3。
清洗槽1为长方体容器,上部为开口,清洗槽1内装有清洗液。为了保证清洗效果,清洗槽1可以并联设置多个,每个清洗槽1中盛装不同的清洗液,以使得掩模版7依次经多个清洗槽1清洗后满足清洗要求。
载台2包括沿所述清洗槽1的深度方向设置的掩模版夹持件22,所述掩模版夹持件22用于安装掩模版7;第一驱动结构3与所述掩模版夹持件22连接,用于驱动所述掩模版夹持件22在所述清洗槽1中做升降运动。在清洗前,掩模版7可以通过人工或机械臂安装固定在载台2的掩模版夹持件22上,载台2在第一驱动结构3的作用下带动掩模版7同步升降运动。所述载台2上的掩模版7在所述第一驱动结构3的作用下具有沿所述掩模版7的工作端面所在平面的延伸方向完全浸入所述清洗液中的清洗位置和至少部分暴露在清洗液外部的取拿位置。掩模版7沿竖直方向***清洗液中,这样掩模版7相对的两个工作端面就会同时与清洗液接触,清洗液在流动过程中对掩模版7的同一水平位置同时进行清洗,从而保证清洗液和掩模版7两个工作端面接触的均匀性,改善清洗效果。
如图1所示的一种具体实施方式,所述第一驱动结构3设置于所述清洗槽1的外部,包括分设在所述清洗槽1相对的两个侧壁外的升降架,所述载台2与所述升降架连接;所述升降架分设在所述清洗槽1相对的两个侧壁外;所述升降架包括支撑杆31和与所述支撑杆31连接的驱动件32,所述驱动件32用于驱动所述支撑杆31运动以带动所述所述载台2在所述清洗槽1中做升降运动。
具体地,升降架可以是分设在清洗槽1相对的两个侧壁外的一对升降架,该升降架的上端高于所述清洗槽1的上端开口设置,以预留载台2的上升空间,载台2的顶端高于清洗槽1的上端开口且连接至升降架上,掩模版7的最高点略低于载台2的最高点安装,这样只需升降架带动载台2下降至与清洗槽1的上端开口齐平的位置,整个掩模版7就会完全浸没在装满清洗液的清洗槽1中,从而进行全方位的清洗。相对于将载台2的中部设于升降架上,虽然通过旋转载台2也可以使得掩模版7的两个工作端面均与清洗液完全接触,但是在旋转过程中,必然是掩模版7的一个工作端面先与清洗液接触,另一个工作端面后与清洗液接触,由于先后顺序的存在,不可避免影响清洗液与两个工作端面接触的均匀性,进而影响清洗的效果。所述载台2包括分设在一对所述升降架上的一对掩模版夹持件22,所述掩模版夹持件22沿所述清洗槽1的深度方向设置,掩模版夹持件22相对的两个侧壁上成型有有允许所述掩模版7***的槽体,一对掩模版夹持件22之间的间距可根据掩模版7的尺寸大小进行调整,所述掩模版7安装在所述掩模版夹持件22的槽体中。通过***的方式将掩模版7安装在掩模版夹持件22上,安装方便,其中,掩模版7安装至槽体中后,掩模版7与槽体之间还可以保持一定的间隙,如此,能够保证掩模版7与清洗液充分接触,改善清洗效果,同时掩模版夹持件22还可以起到固定掩模版7的作用,防止清洗液的流动将其冲倒,影响清洗效果,不便于取出。
进一步地,所述升降架包括支撑杆31和与所述支撑杆31连接的驱动件32,所述驱动件32用于驱动所述支撑杆31运动以带动所述所述载台2在所述清洗槽1中做升降运动。
具体地,升降架上的支撑杆31可以包括丝杆,驱动件32可以包括马达,其中,丝杆的底端与马达的输出轴通过轴承连接,马达与PLC控制***连接,PLC控制***控制马达正反转,进而驱动丝杆升降运动。其中,掩模版夹持件22可以为L形,L形夹持件的第一部分21通过安装座4与所述丝杆上的螺母连接,安装座4上成型有允许第一部分21和螺母分别***的安装孔,螺母将丝杆的旋转运动转化为安装座4的直线升降运动,从而带动升降架同步运动;第二部分22沿所述清洗槽1的深度方向延伸,且在所述第二部分22靠近所述清洗槽1的底部设有若干承托件221,所述承托件221上成型有允许所述掩模版7***的槽体。承托件221为与第二部分22一体成型的凸块,凸块沿清洗槽1的深度方向分布有多个,凸块上成型有掩模版7的安装槽。
为了便于掩模版7的取放,还包括掩模版取拿结构51,所述掩模版取拿结构包括夹爪511,所述夹爪511设置在至少高于所述清洗槽1中清洗液的液面的位置,
优选地,所述夹爪511高于所述清洗槽1顶部设置;
优选地,所述掩模版清洗装置还包括设置在所述清洗槽1外侧的支撑架5,所述掩模版取拿结构设置在所述支撑架5上;
优选地,所述支撑架5包括位于所述清洗槽1外部的支撑柱522,以及与所述支撑柱522相连接并位于所述清洗槽1上方的吊臂53;所述掩模版取拿结构设置在所述吊臂53上;
优选地,所述掩模版取拿结构沿垂直于所述清洗槽1深度方向可移动的设置在所述吊臂53上,或者所述吊臂53沿垂直于所述清洗槽1深度方向可伸缩的设置在所述支撑柱522上;
优选地,支撑柱522沿所述清洗槽1深度方向可伸缩设置。
在本实施例中,所述支撑柱522内部设置有第二驱动结构,所述第二驱动结构用于驱动所述吊臂53沿垂直于所述支撑柱522的方向移动,
优选地,所述吊臂53包括第一吊臂与第二吊臂,所述夹爪511包括第一夹爪与第二夹爪,所述第一夹爪设置在第一吊臂上,所述第二夹爪设置在第二吊臂上;
优选地,所述第二驱动结构用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动以使所述第一夹爪与所述第二夹爪产生相对移动;
优选地,所述第二驱动结构包括分别用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动的两个第二驱动结构。
为了便于掩模版7的取放,在清洗槽1的外侧还设有支撑架5,支撑架5包括支撑柱522,沿垂直于清洗槽1深度方向设置的吊臂53,以及沿平行于清洗槽1深度方向设置的掩模版取拿结构51,掩模版取拿结构51的夹爪511至少高于清洗槽1中清洗液的液面的位置,如此,可保持夹爪与清洗液不产生接触,以减少清洗液对夹爪的污染。掩模版取拿结构51包括夹爪511。吊臂53和支撑柱522的连接处位于所述清洗槽1的外侧。所述支撑柱522上设置有第二驱动结构,所述第二驱动结构用于驱动所述吊臂53沿垂直于所述清洗槽1的深度方向移动,其中,吊臂53可以包括第一吊臂和第二吊臂,第二驱动结构对应第一吊臂和第二吊臂设置为两个,分别用于控制第一吊臂和第二吊臂在垂直于支撑柱522的方向上产生相对移动,其中,第二驱动结构可以为气缸或马达。这样即使吊臂53和支撑柱522之间发生一定的位移,二者摩擦产生的颗粒也不会落入清洗槽中,从而保证了清洗液的洁净度。
支撑架5包括设置于清洗槽1的一侧的支撑柱522以及设置于清洗槽1底端的底座521,支撑柱522沿平行于清洗槽1的深度方向可伸缩设置,便于掩模版7的取放,底座521和清洗槽1固定连接,支撑柱522上连接有吊臂53,掩模版取拿结构51安装在吊臂53的一端,与吊臂53一体成型。具体的,如图2所示,所述掩模版取拿结构51上成型有一对相向设置的夹爪511,优选地,每个所述夹爪511上成型有90°的夹角。具体地,夹爪511由两个与水平面成45°夹角的斜板形成,便于掩模版7在重力作用下进行自动准;相向设置的一对所述掩模版夹持件22之间的夹角也可以为90°,每一个掩模版夹持件的槽体与水平面之间的夹角均为45°;为了进一步提高安装的稳定性,一对掩模版夹持件22的底部设有一个承托件221,该承托件221上成型有一开口朝上的槽体。
为了进一步减少不同清洗液之间的交叉污染,所述限位装置包括限位传感器,所述限位传感器用于当所述掩模版7到达预定位置时发感测信号;优选地,所述限位装置还包括伸缩固定装置,所述伸缩固定装置用于根据所述感测信号将所述掩模版7固定在所述预定位置。
具体地,所述清洗槽1的内壁上靠近所述清洗槽1的上端开口的位置设有限位装置,限位装置高于清洗液的上表面设置。具体的,所述限位装置包括分设在相对的两个所述内壁上的限位传感器,当掩模版7上升到预定位置时,限位传感器发出感测信号,控制驱动件32停止运转,以使得掩模版7停止在预定位置,并对掩模版7晾置或干燥直至残留的清洗液充分清除。
进一步地,所述限位装置还可以包括伸缩固定装置。当限位传感器检测到掩模版7到达预定位置时,限位传感器发出感测信号,伸缩固定装置根据该检测信号,将掩模版7固定在该预定位置。限位传感器和伸缩固定装置的连线垂直于掩模版7的工作端面,且为了保证检测的准确性和固定的稳定性,限位传感器和伸缩固定装置均可对称设置两个。其中,伸缩固定装置包括第三驱动结构和与第三驱动结构的输出轴连接的伸缩杆,掩模版7上设有与所述伸缩杆对应的通孔。当限位传感器检测到掩模版7运动至清洗液上方的预定位置后,发送信号至控制器,控制器控制第三驱动结构驱动伸缩杆伸缩至穿过掩模版7上的通孔,以将其固定,并晾置或干燥直至残留的清洗液充分清除。
当需要对掩模版7进行清洗时,首先将掩模版7安装在吊臂53下方的掩模版取拿结构51中,并下降至与一对掩模版夹持件22对应的位置,吊臂53和掩模版取拿结构51朝向垂直于掩模版7工作端面并远离的方向移动,以使得掩模版7脱离掩模版取拿结构51,并安装固定在一对掩模版夹持件22的槽体中,PLC控制***控制驱动件32(马达)转动,并带动支撑杆31(丝杆)转动,丝杆上的螺母将丝杆的旋转运动转化为一对掩模版夹持件22的下降运动,直至掩模版7完全浸没在清洗液中,在流动的清洗液的不断冲洗作用下,掩模版7上的污渍得到一次清洗。然后PLC控制***控制马达反向转动,一对掩模版夹持件22在马达的作用下上升至掩模版7完全暴露出清洗液。限位传感器检测到掩模版7到达干燥位置,发送信号至控制器,控制器控制第三驱动结构运动,并带动伸缩杆伸缩至穿过掩模版7上的通孔,以将其固定,并晾置或干燥直至残留的清洗液充分清除,伸缩杆缩回至初始位置。掩模版取拿结构51夹取经一次清洗后的掩模版7,并转移至下一清洗槽1中继续清洗。
如图3所示的另一种具体实施方式,所述清洗槽1内部设置有一隔板11,所述隔板11将所述清洗槽1分割成密封隔离的第一区域和第二区域,所述清洗液和所述载台2位于所述第一区域,所述第一驱动结构3至少部分设于所述第二区域,
优选地,所述第一区域位于所述第二区域的上方;
优选地,所述第一驱动结构3包括支撑杆31和与所述支撑杆31连接的驱动件32,所述驱动件32位于所述第二区域,用于驱动所述支撑杆31沿垂直于所述隔板11的方向移动,所述支撑杆31贯穿所述隔板11设置,延伸至所述第一区域,所述载台2设置于所述支撑杆31远离所述驱动件32的一端。
具体地,清洗槽1内部设置有一隔板11,隔板11靠近清洗槽1的下部设置,可以与清洗槽1一体加工成型,清洗液和载台2位于隔板11的上部,第一驱动结构3至少部分设于隔板11的下部。具体地,第一驱动结构3包括驱动件32以及支撑杆31,其中,驱动件32为马达,支撑杆31为丝杆,丝杆和马达连接,马达位于隔板11的下部,以防止溶液进入马达内部或对马达造成一定的腐蚀,丝杆贯穿隔板11设置。为了防止清洗液对支撑杆31(丝杆)的腐蚀,以及防止支撑杆31在清洗槽1中做升降运动时摩擦产生Particle从而对清洗液造成污染,支撑杆31(丝杆)位于隔板11上部的外周套设有保护罩6,所述保护罩6随所述支撑杆31(丝杆)的升降可伸缩设置,如此,可伸缩的保护罩6可以随着升降运动更多地包覆在丝杆位于第一区域的部分,其中,保护罩6可以由具有多层折叠层的防腐材料制成。
载台2包括设于驱动件32顶端的支撑板23和设于所述支撑板23上端的一对掩模版夹持件22,所述掩模版7安装在掩模版夹持件22的沿所述清洗槽1的深度方向延伸的插槽中。支撑板23焊接在支撑杆31(丝杆)的顶端,掩模版夹持件22的间距根据掩模版7的尺寸设置,插槽开设在一对掩模版夹持件22相向的两个端面上。
如图3所示的另一种具体实施方式,所述吊臂53包括第一吊臂与第二吊臂,所述夹爪511包括第一夹爪与第二夹爪,所述第一吊臂与所述第一夹爪一体成型,所述第二吊臂与所述第二夹爪一体成型,所述第二驱动结构用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动以使所述第一夹爪与所述第二夹爪产生相对移动,所述第二驱动结构包括分别用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动的两个第二驱动件。第一夹爪和第二夹爪分别在第一吊臂和第二吊臂上沿清洗槽1深度方向分布,第二驱动结构为两个马达或气缸,分别与第一夹爪和第二夹爪连接,以控制第一夹爪和第二夹爪之间的间距,以将掩模版7夹持固定在第一夹爪和第二夹爪之间。所述第一夹爪与所述第二夹爪对称设置,优选地,每个所述夹爪511上成型有夹角为90°的夹取端。具体地,掩模版取拿结构51上成型有一对对称设置的夹爪511,第一夹爪和第二夹爪上具有槽体的一面相向设置,以将掩模版7相对的两个边角固定。位于一对所述夹取端正下方的掩模版夹持件上可成型有夹角为90°的槽体,当掩模版7被转移到一对夹爪511上时,掩模版7最下端的边角与该掩模版夹持件的槽体安装固定。
作为替代的实施方式,马达还可以替换为气缸,通过PLC控制***控制气缸的充放气进而驱动载台2的升降。
作为替代的实施方式,载台2和第一驱动结构3均可设置在清洗槽1中,只需将作为第一驱动结构3的驱动件32(马达或气缸)置于一个防水壳体中即可。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种掩模版清洗装置,其特征在于,包括:
清洗槽(1),用于容纳清洗液;
载台(2),包括沿所述清洗槽(1)的深度方向设置的掩模版夹持件(22),所述掩模版夹持件(22)用于安装掩模版(7);
第一驱动结构(3),与所述掩模版夹持件(22)连接,用于驱动所述掩模版夹持件(22)在所述清洗槽(1)中做升降运动。
2.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述掩模版夹持件(22)上成型有允许所述掩模版(7)***的槽体。
3.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述第一驱动结构(3)设置于所述清洗槽(1)的外部,
优选地,所述第一驱动结构(3)包括升降架,所述载台(2)与所述升降架连接;
优选地,所述升降架分设在所述清洗槽(1)相对的两个侧壁外;
优选地,所述升降架包括支撑杆(31)和与所述支撑杆(31)连接的驱动件(32),所述驱动件(32)用于驱动所述支撑杆(31)运动以带动所述载台(2)在所述清洗槽(1)中做升降运动。
4.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述清洗槽(1)内部设置有一隔板(11),所述隔板(11)将所述清洗槽(1)分割成密封隔离的第一区域和第二区域,所述清洗液和所述载台(2)位于所述第一区域,所述第一驱动结构(3)至少部分设于所述第二区域,
优选地,所述第一区域位于所述第二区域的上方;
优选地,所述第一驱动结构(3)包括支撑杆(31)和与所述支撑杆(31)连接的驱动件(32),所述驱动件(32)位于所述第二区域,用于驱动所述支撑杆(31)沿垂直于所述隔板(11)的方向移动,所述支撑杆(31)贯穿所述隔板(11)设置,延伸至所述第一区域,所述载台(2)设置于所述支撑杆(31)远离所述驱动件(32)的一端。
5.根据权利要求4所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述支撑杆(31)位于所述第一区域的部分的外周套设有保护罩(6),所述保护罩(6)随所述支撑杆(31)的升降可伸缩设置。
6.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置,其特征在于,还包括掩模版取拿结构(51),所述掩模版取拿结构(51)包括夹爪(511),所述夹爪(511)设置在至少高于所述清洗槽(1)中清洗液的液面的位置,
优选地,所述夹爪(511)高于所述清洗槽(1)顶部设置;
优选地,所述掩模版清洗装置还包括设置在所述清洗槽(1)外侧的支撑架(5),所述掩模版取拿结构设置在所述支撑架(5)上;
优选地,所述支撑架(5)包括位于所述清洗槽(1)外部的支撑柱(522),以及与所述支撑柱(522)相连接并位于所述清洗槽(1)上方的吊臂(53);所述掩模版取拿结构设置在所述吊臂(53)上;
优选地,所述掩模版取拿结构沿垂直于所述清洗槽(1)深度方向可移动的设置在所述吊臂(53)上,或者所述吊臂(53)沿垂直于所述清洗槽(1)深度方向可伸缩的设置在所述支撑柱(522)上;
优选地,支撑柱(522)沿所述清洗槽(1)深度方向可伸缩设置。
7.根据权利要求6所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述支撑柱(522)内部设置有第二驱动结构,所述第二驱动结构用于驱动所述吊臂(53)沿垂直于所述支撑柱(522)的方向移动,
优选地,所述吊臂(53)包括第一吊臂与第二吊臂,所述夹爪(511)包括第一夹爪与第二夹爪,所述第一夹爪设置在第一吊臂上,所述第二夹爪设置在第二吊臂上;
优选地,所述第二驱动结构用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动以使所述第一夹爪与所述第二夹爪产生相对移动;
优选地,所述第二驱动结构包括分别用于驱动所述第一吊臂与所述第二吊臂移动的两个第二驱动结构。
8.根据权利要求7所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述第一夹爪与所述第二夹爪对称设置,优选地,每个所述夹爪(511)上成型有夹角为90°的夹取端。
9.根据权利要求1-8所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述清洗槽(1)的内壁上靠近所述清洗槽(1)的上端开口的位置设有限位装置,所述限位装置用于感测并固定所述掩模版的位置。
10.根据权利要求9所述的掩模版清洗装置,其特征在于,所述限位装置包括限位传感器,所述限位传感器用于当所述掩模版(7)到达预定位置时发感测信号;优选地,所述限位装置还包括伸缩固定装置,所述伸缩固定装置用于根据所述感测信号将所述掩模版(7)固定在所述预定位置。
CN201910256333.3A 2019-03-29 2019-03-29 一种掩模版清洗装置 Pending CN110026372A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910256333.3A CN110026372A (zh) 2019-03-29 2019-03-29 一种掩模版清洗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910256333.3A CN110026372A (zh) 2019-03-29 2019-03-29 一种掩模版清洗装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110026372A true CN110026372A (zh) 2019-07-19

Family

ID=67237152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910256333.3A Pending CN110026372A (zh) 2019-03-29 2019-03-29 一种掩模版清洗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110026372A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112871831A (zh) * 2020-12-31 2021-06-01 常州高光半导体材料有限公司 掩膜版除尘除油设备
CN114721231A (zh) * 2022-04-17 2022-07-08 江苏晟驰微电子有限公司 一种用于光刻版清洗的工装夹具
CN115722467A (zh) * 2022-12-01 2023-03-03 常州瑞择微电子科技有限公司 掩模版侧边清洗装置

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4694527A (en) * 1983-07-06 1987-09-22 Fujitsu Limited Mask washing apparatus for production of integrated circuit
JPH0380535A (ja) * 1989-08-23 1991-04-05 Fujitsu Ltd 洗浄ホルダ
JPH05200689A (ja) * 1991-08-30 1993-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ウエハ保持装置およびその保持方法
JPH08340035A (ja) * 1995-06-09 1996-12-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
CN1185027A (zh) * 1996-09-27 1998-06-17 东京电子株式会社 清洗装置和清洗方法
JP2001135710A (ja) * 1999-11-04 2001-05-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
TW200725166A (en) * 2005-12-22 2007-07-01 Advanced Semiconductor Eng Mask-cleaning apparatus and method of cleaning mask
KR20080000808A (ko) * 2006-06-28 2008-01-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 마스크 세정장치 및 이를 이용한 마스크 세정방법
CN101834118A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 株式会社日立高新技术 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机el显示器
CN102347129A (zh) * 2010-07-23 2012-02-08 福群科技集团有限公司 自动去皮和浸锡装置
CN103017483A (zh) * 2013-01-11 2013-04-03 彩虹(佛山)平板显示有限公司 一种掩膜版清洗后的干燥方法
CN203664250U (zh) * 2014-01-09 2014-06-25 上海思恩电子技术(东台)有限公司 无母篮清洗机
CN108039331A (zh) * 2017-11-30 2018-05-15 北京南轩兴达电子科技有限公司 一种全自动硅片清洗机
CN108380583A (zh) * 2018-02-26 2018-08-10 上海提牛机电设备有限公司 一种用于硅片清洗的机械手
CN208613259U (zh) * 2018-07-11 2019-03-19 深圳市锐欧光学电子有限公司 一种玻璃吸附清洗装置

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4694527A (en) * 1983-07-06 1987-09-22 Fujitsu Limited Mask washing apparatus for production of integrated circuit
JPH0380535A (ja) * 1989-08-23 1991-04-05 Fujitsu Ltd 洗浄ホルダ
JPH05200689A (ja) * 1991-08-30 1993-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ウエハ保持装置およびその保持方法
JPH08340035A (ja) * 1995-06-09 1996-12-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
CN1185027A (zh) * 1996-09-27 1998-06-17 东京电子株式会社 清洗装置和清洗方法
JP2001135710A (ja) * 1999-11-04 2001-05-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
TW200725166A (en) * 2005-12-22 2007-07-01 Advanced Semiconductor Eng Mask-cleaning apparatus and method of cleaning mask
KR20080000808A (ko) * 2006-06-28 2008-01-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 마스크 세정장치 및 이를 이용한 마스크 세정방법
CN101834118A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 株式会社日立高新技术 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机el显示器
CN102347129A (zh) * 2010-07-23 2012-02-08 福群科技集团有限公司 自动去皮和浸锡装置
CN103017483A (zh) * 2013-01-11 2013-04-03 彩虹(佛山)平板显示有限公司 一种掩膜版清洗后的干燥方法
CN203664250U (zh) * 2014-01-09 2014-06-25 上海思恩电子技术(东台)有限公司 无母篮清洗机
CN108039331A (zh) * 2017-11-30 2018-05-15 北京南轩兴达电子科技有限公司 一种全自动硅片清洗机
CN108380583A (zh) * 2018-02-26 2018-08-10 上海提牛机电设备有限公司 一种用于硅片清洗的机械手
CN208613259U (zh) * 2018-07-11 2019-03-19 深圳市锐欧光学电子有限公司 一种玻璃吸附清洗装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112871831A (zh) * 2020-12-31 2021-06-01 常州高光半导体材料有限公司 掩膜版除尘除油设备
CN114721231A (zh) * 2022-04-17 2022-07-08 江苏晟驰微电子有限公司 一种用于光刻版清洗的工装夹具
CN115722467A (zh) * 2022-12-01 2023-03-03 常州瑞择微电子科技有限公司 掩模版侧边清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110026372A (zh) 一种掩模版清洗装置
TW201313968A (zh) 用於半導體電鍍裝置之唇形密封件與接觸元件
WO2016008176A1 (zh) 一种喷嘴清洁装置及其清洁方法
KR102565317B1 (ko) 기판 세정 방법
JP2009239081A (ja) 基板処理装置
CN113611639B (zh) 一种半导体晶圆片腐蚀装置
JP2008018376A (ja) 洗浄システムおよびそれに用いることが好適なスピン乾燥装置ならびにその洗浄システムを用いて製造された光学部品
CN203778393U (zh) 超声波清洗机
CN202591161U (zh) 一种清洗装置
JP5675847B2 (ja) ウエハー洗浄装備用カセットジグ及びこれを備えたカセットアセンブリ
JP2015018894A (ja) めっき装置
JP2018043219A (ja) ノズル洗浄方法、塗布装置
CN212664424U (zh) 一种测绘用管道接头除垢装置
CN102017063A (zh) 晶片堆的清洗
CN210701434U (zh) 一种效率高的铝合金除油装置
CN212760023U (zh) 一种用于异形件的吹扫装置
CN211490857U (zh) 一种用于光学镜片加工的低速抛光机
KR100808061B1 (ko) 핸드폰 케이스 코팅장치의 지그
CN1939608A (zh) 清洗***及其操作方法
CN210014123U (zh) 一种新型防滴油流延真空箱
CN115418589B (zh) 一种电力铁附件热镀锌装置
JPH0443639A (ja) 半導体装置の製造方法
CN218507927U (zh) 一种汽车零部件电泳涂装脱脂装置
CN104324923B (zh) 一种清洗夹持装置
CN215251312U (zh) 一种防止刮损的高效镀银设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190719