CN109959761A - 一种用于释放流体的装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于释放流体的装置，涉及检测设备技术领域；其包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘（1‑1）、存储槽和封膜，所述存储槽设置在存储基盘（1‑1）上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室，所述检测盘包括检测基盘（2‑1）、入口室和刺状结构，所述入口室设置在检测基盘（2‑1）上，所述刺状结构位于入口室内，所述入口室与存储室嵌套在一起或者分离配合，当入口室与存储室嵌套在一起时所述刺状结构刺破封膜；其通过流体存储盘和检测盘等，实现了在检测时将存储室内的试剂滴入入口室，减小了检测盘的体积。

Description

一种用于释放流体的装置

技术领域

本发明涉及检测设备技术领域，尤其涉及一种用于释放流体的装置。

背景技术

目前，检测使用的检测盘在出厂时大都已经内置试剂，内置试剂的检测盘体积较大，运输不便、运输成本高。内置试剂的检测盘体在特定环境存储时，例如低温存储，由于体积较大，存储不便，存储成本高。试剂包是袋装的，柔软的袋子趴在检测盘表面，不但占用空间而且还特别容易破损，在运输过程中需要特别小心，检测盘与试剂包一同运输，运输难度较大、运输成本较高。

旋转检测台转速说明：

高转速为>50Hz；

中转速为15Hz～50Hz；

低转速为<15Hz；

单位Hz为圈/秒钟。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于释放流体的装置，其通过流体存储盘和检测盘等，实现了在检测时将存储室内的试剂滴入入口室，减小了检测盘的体积。

为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案是：包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘、存储槽和封膜，所述存储槽设置在存储基盘上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室；所述检测盘包括检测基盘、入口室和刺状结构，所述入口室设置在检测基盘上，所述刺状结构位于入口室内；所述入口室与存储室嵌套在一起或者分离配合，当入口室与存储室嵌套在一起时所述刺状结构刺破封膜。

进一步的技术方案在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室和第二入口室，所述刺状结构包括位于第一入口室内的第一刺状结构和位于第二入口室内的第二刺状结构，所述第一存储室与第一入口室相适配，所述第二存储室与第二入口室相适配。

进一步的技术方案在于：所述检测盘还包括非功能室，所述非功能室设置在检测基盘上，其与存储室嵌套在一起或者分离配合。

进一步的技术方案在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室，所述非功能室包括第一非功能室，所述刺状结构位于第一入口室内或者第一非功能室内，所述第一入口室分别与第一存储室、第二存储室相适配，所述第一非功能室分别与第一存储室、第二存储室相适配。

进一步的技术方案在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室和第二入口室，所述非功能室包括第一非功能室和第二非功能室，所述刺状结构包括位于第一入口室内的第一刺状结构和位于第二入口室内的第二刺状结构，所述第一存储室分别与第一入口室、第二非功能室相适配，所述第二存储室分别与第二入口室、第一非功能室相适配。

进一步的技术方案在于：所述入口室包括第一入口室，所述刺状结构的数量为至少两个且均位于第一入口室内。

进一步的技术方案在于：所述存储室、入口室的侧部沿旋转轴的径向向外依次分布。

进一步的技术方案在于：所述存储槽的内腔呈L型，L型存储槽内腔的一段位于存储基盘内。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于：

第一，包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘、存储槽和封膜，所述存储槽设置在存储基盘上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室；所述检测盘包括检测基盘、入口室和刺状结构，所述入口室设置在检测基盘上，所述刺状结构位于入口室内；所述入口室与存储室嵌套在一起或者分离配合，当入口室与存储室嵌套在一起时所述刺状结构刺破封膜。该技术方案，实现了在检测时将存储室内的试剂滴入入口室，减小了检测盘的体积。

第二，所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室和第二入口室，所述刺状结构包括位于第一入口室内的第一刺状结构和位于第二入口室内的第二刺状结构，所述第一存储室与第一入口室相适配，所述第二存储室与第二入口室相适配。该技术方案，通过两个存储室、入口室和刺状结构，能够同时将一种检测试剂滴入一个入口室，另一种检测试剂滴入另一个入口室，操作更简便、效率更高。

第三，所述第一刺状结构的高度尺寸与第二刺状结构的高度尺寸相同或者不同。该技术方案，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作更简便、效率更高。

第四，所述第一存储室的高度尺寸与第二存储室的高度尺寸相同或者不同。该技术方案，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作更简便、效率更高。

第五，所述检测盘还包括非功能室，所述非功能室设置在检测基盘上，其与存储室嵌套在一起或者分离配合。该技术方案，结构更合理，使用更方便。

第六，所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室，所述非功能室包括第一非功能室，所述刺状结构位于第一入口室内或者第一非功能室内，所述第一入口室分别与第一存储室、第二存储室相适配，所述第一非功能室分别与第一存储室、第二存储室相适配。该技术方案，结构更合理，使用更方便，通过两个存储室、一个入口室、一个非功能室和一个位于入口室内的刺状结构，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入同一个入口室，操作更简便、效率更高。

第七，所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室和第二入口室，所述非功能室包括第一非功能室和第二非功能室，所述刺状结构包括位于第一入口室内的第一刺状结构和位于第二入口室内的第二刺状结构，所述第一存储室分别与第一入口室、第二非功能室相适配，所述第二存储室分别与第二入口室、第一非功能室相适配。该技术方案，结构更合理，使用更方便，通过两个存储室、两个入口室、两个非功能室和两个刺状结构，一个刺状结构位于一个入口室内，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作更简便、效率更高。

第八，所述入口室包括第一入口室，所述刺状结构的数量为至少两个且均位于第一入口室内。该技术方案，结构更合理，使用更方便，通过两个刺状结构刺破一个存储室，实现至少两个刺破口，使得存储室内的流体从沿旋转轴的径向靠外的刺破口流出，同时气体可以通过径向靠内的刺破口进入存储室，有利于流体从存储室流出。

第九，所述存储室、入口室的侧部沿旋转轴的径向向外依次分布。该技术方案，结构更合理，使用更方便，可以使得从存储室释放的流体能够流入入口室内，而不至于从入口室的开口处流出。

第十，所述存储槽的内腔呈L型，L型存储槽内腔的一段位于存储基盘内。该技术方案，可以在存储槽内存储更多的流体，更节约空间，使用更方便。

详见具体实施方式部分描述。

附图说明

图1是本发明中实施例1的结构图；

图2是图1中流体存储盘的结构图；

图3是图2中存储槽的结构图；

图4是图1中检测盘的结构图；

图5是图4中检测盘的剖切图；

图6是本发明中实施例1的第一状态图；

图7是本发明中实施例1的第二状态图；

图8是本发明中实施例2的结构剖切图；

图9是本发明中实施例3的第一状态图；

图10是本发明中实施例3的第二状态图；

图11是本发明实施例4中检测盘的俯视图；

图12是本发明中实施例5的第一状态图；

图13是本发明中实施例5的第二状态图；

图14是本发明中实施例6的第一状态图；

图15是本发明中实施例6的第二状态图；

图16是本发明中实施例7的结构剖切图。

其中：1-1存储基盘、1-2第一存储槽、1-3第一封膜、1-4第二存储槽、1-5第二封膜、2-1检测基盘、2-2第一入口室、2-2-1第一入口室的侧部、2-3第二入口室、2-3-1第二入口室的侧部、2-4第一刺状结构、2-5第二刺状结构、2-6第三刺状结构、2-7第四刺状结构、2-8第一非功能室、2-9第二非功能室。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本申请及其应用或使用的任何限制。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请，但是本申请还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似推广，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本申请的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在本申请的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述做出相应解释。

此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本申请保护范围的限制。

实施例1：

如图1-图7所示，本发明公开了一种用于释放流体的装置，包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘1-1、存储槽和封膜，所述存储槽固定在存储基盘1-1上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室；所述检测盘包括检测基盘2-1、入口室和刺状结构，所述入口室开设在检测基盘2-1上，所述刺状结构位于入口室上；所述入口室与存储室嵌套在一起或者分离配合，当入口室与存储室嵌套在一起时所述刺状结构刺破封膜。

如图2、图3所示，所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述第一存储室包括第一存储槽1-2和第一封膜1-3，所述第二存储室包括第二存储槽1-4和第二封膜1-5，所述第一存储室的高度尺寸与第二存储室的高度尺寸相同，即第一存储槽1-2的高度尺寸与第二存储槽1-4的高度尺寸相同。

如图4-图7所示，所述入口室包括第一入口室2-2和第二入口室2-3，所述刺状结构包括位于第一入口室2-2内的第一刺状结构2-4和位于第二入口室内2-3的第二刺状结构2-5，所述第一存储室与第一入口室2-2相适配，所述第二存储室与第二入口室2-3相适配。

如图6、图7所示，第一入口室的侧部2-2-1比第一存储槽1-2沿旋转轴的径向更靠外，第二入口室的侧部2-3-1比第二存储槽1-4沿旋转轴的径向更靠外。

实施例1使用说明：

如图2所示，出厂前，流体存储盘的第一存储槽1-2内已经封装第一流体，流体存储盘的第二存储槽1-4内已经封装第二流体，所述流体为试剂。

如图2、图4所示，出厂时，流体存储盘、检测盘分别单独包装、存储、运输。

检测时，将本装置安装在旋转检测台上。即将检测盘固定在旋转检测台的第一转轴上，将流体存储盘固定在旋转检测台的第二转轴上。

如图6所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴同轴心转动并相互靠近，使得流体存储盘位于检测盘的上方并同轴心旋转。此时，所述第一存储槽1-2对准***第一入口室2-2，所述第一封膜1-3位于第一刺状结构2-4的上方；所述第二存储槽1-4对准***第二入口室2-3，所述第二封膜1-5位于第二刺状结构2-5的上方。

如图7所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴进一步相互靠近，使得第一刺状结构2-4刺破第一封膜1-3，第一存储槽1-2内的第一流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，同时，第二刺状结构2-5刺破第二封膜1-5，第二存储槽1-4内的第二流体在离心力的作用下被甩入第二入口室2-3。

试剂进入入口室后，在离心力的作用下经流道进入其他腔室供检测使用。

实施例1的发明构思：通过流体存储盘、检测盘分别单独包装、存储、运输，解决了减小检测盘体积的技术问题。在特定环境存储时，由于流体存储盘单独存储，减小了存储空间，降低了存储成本，同时，降低了运输难度、降低了运输成本。在检测时将存储室内的试剂滴入入口室，减小了检测盘的体积。

该技术方案，通过两个存储室、入口室和刺状结构，能够同时将一种检测试剂滴入一个入口室，另一种检测试剂滴入另一个入口室，操作简便、效率高。

实施例2：

如图8所示，实施例2与实施例1相似，不同之处在于，所述存储槽的内腔呈L型，L型存储槽内腔的一段位于存储基盘1-1内。即所述第一存储槽1-2的内腔呈L型，所述第二存储槽1-4的内腔呈L型。好处在于，可以在存储槽内存储更多的流体，节约空间，使用方便。

实施例3：

如图9、图10所示，实施例3与实施例1相似，不同之处在于，包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘1-1、存储槽和封膜，所述存储槽固定在存储基盘1-1上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室；所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述第一存储室包括第一存储槽1-2和第一封膜1-3，所述第二存储室包括第二存储槽1-4和第二封膜1-5。

所述检测盘包括检测基盘2-1、第一入口室2-2、第一非功能室2-8和第一刺状结构2-4，所述第一入口室2-2开设在检测基盘2-1左部，所述第一非功能室2-8开设在检测基盘2-1右部，所述第一刺状结构2-4位于第一入口室2-2内；所述第一入口室2-2分别与第一存储室、第二存储室相适配，所述第一非功能室2-8分别与第一存储室、第二存储室相适配，当第一入口室2-2与存储室嵌套在一起时所述第一刺状结构2-4刺破封膜。

第一入口室的侧部2-2-1比第一存储槽1-2沿旋转轴的径向更靠外。

实施例3使用说明：

实施例3与实施例1相似，不同之处在于，

如图9所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴进一步相互靠近，使得第一刺状结构2-4刺破第一封膜1-3，第一存储槽1-2内的第一流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，此时第二存储槽1-4位于第一非功能室2-8内。

如图10所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴分开，相对旋转180度，相互靠近，使得第一刺状结构2-4刺破第二封膜1-5，第二存储槽1-4内的第二流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，此时第一存储槽1-2位于第一非功能室2-8内。

实施例3的发明构思：通过两个存储室、一个入口室、一个非功能室和一个位于入口室内的刺状结构，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入同一个入口室，操作简便、效率高。

实施例4：

如图2、图11所示，实施例4与实施例3相似，不同之处在于，

所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室2-2和第二入口室2-3，所述非功能室包括第一非功能室2-8和第二非功能室2-9，所述刺状结构包括位于第一入口室2-2内的第一刺状结构2-4和位于第二入口室2-3内的第二刺状结构2-5，所述第一存储室分别与第一入口室2-2、第二非功能室2-9相适配，所述第二存储室分别与第二入口室2-3、第一非功能室2-8相适配。

实施例4使用说明：

实施例4与实施例3相似，不同之处在于，

如图11所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴进一步相互靠近，使得第一刺状结构2-4刺破第一封膜1-3，第一存储槽1-2内的第一流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，此时第二存储槽1-4位于第一非功能室2-8内。

操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴分开，逆时针旋转60度，相互靠近，使得第二刺状结构2-5刺破第二封膜1-5，第二存储槽1-4内的第二流体在离心力的作用下被甩入第二入口室2-3，此时第一存储槽1-2位于第二非功能室2-9。

实施例4的发明构思：通过两个存储室、两个入口室、两个非功能室和两个刺状结构，一个刺状结构位于一个入口室内，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作简便、效率高。

实施例5：

如图12、图13所示，实施例5与实施例1相似，不同之处在于，所述第一刺状结构2-4的高度尺寸大于第二刺状结构2-5的高度尺寸，所述第一刺状结构2-4的高度尺寸为9mm，所述第二刺状结构2-5的高度尺寸为4mm。

实施例5使用说明：

实施例5与实施例1相似，不同之处在于，

如图12所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴相互靠近并保持在第一高度，使得第一刺状结构2-4刺破第一封膜1-3，第一存储槽1-2内的第一流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，同时，第二刺状结构2-5接触不到第二封膜1-5。

如图13所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴继续相互靠近并保持在第二高度，使得第一刺状结构2-4深入刺破第一封膜1-3，同时，第二刺状结构2-5刺破第二封膜1-5，第二存储槽1-4内的第二流体在离心力的作用下被甩入第二入口室2-3。

实施例5的发明构思：通过两个存储室、两个入口室和两个高度不同的刺状结构，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作更简便、效率更高。

实施例6：

如图14、图15所示，实施例6与实施例1相似，不同之处在于，所述存储槽的内腔呈L型，L型存储槽内腔的一段位于存储基盘1-1内。所述第一存储室的高度尺寸大于第二存储室的高度尺寸，即所述第一存储室的高度尺寸为15mm，所述第二存储室的高度尺寸为10mm。

实施例6使用说明：

实施例6与实施例1相似，不同之处在于，

如图14所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴相互靠近并保持在第一高度，使得第一刺状结构2-4刺破第一封膜1-3，第一存储槽1-2内的第一流体在离心力的作用下被甩入第一入口室2-2，同时，第二刺状结构2-5接触不到第二封膜1-5。

如图15所示，操作旋转检测台的第一转轴与第二转轴继续相互靠近并保持在第二高度，使得第一刺状结构2-4深入刺破第一封膜1-3，同时，第二刺状结构2-5刺破第二封膜1-5，第二存储槽1-4内的第二流体在离心力的作用下被甩入第二入口室2-3。

实施例6的发明构思：通过两个高度不同的存储室、两个入口室和两个刺状结构，实现将两种不同的检测试剂逐次滴入不同的一个入口室，操作更简便、效率更高。

实施例7：

如图16所示，实施例7与实施例1相似，不同之处在于，

所述刺状结构包括位于第一入口室2-2内的第一刺状结构2-4和第三刺状结构2-6，还包括位于第二入口室内2-3的第二刺状结构2-5和第四刺状结构2-7。

实施例7使用说明：

实施例7与实施例1的使用方法相同。

实施例7的发明构思：通过两个刺状结构刺破一个存储室，实现至少两个刺破口，使得存储室内的流体从沿旋转轴的径向靠外的刺破口流出，同时气体可以通过径向靠内的刺破口进入存储室，有利于流体从存储室流出。

在上述实施例中，其中所述存储室内可以只装有一部分液体试剂和一部分可压缩介质，比如空气。这样可以使得在密封的存储室的封膜被刺破后，可以通过加热使存储室的可压缩介质膨胀，以此来辅助将储存在存储室内的液体释放出去。

在有些情况下，存储室内的可压缩介质，比如空气，可能对要储存的试剂产生一定的影响，因此在长期的储存过程中可能会导致试剂活性降低甚至改变。在这种情况下，存储室内的可压缩介质可以选择惰性气体，以此来避免可压缩介质对试剂的影响。

在可替换的方案中，可将存储室内完全充满液体试剂，以此来避免存储室内存在的可压缩介质对试剂的影响。

在另外可替换的方案中，可以在存储室内储存部分液体试剂，并且将试剂储存室抽为真空，以此来避免存储室内存在的其他介质对试剂的影响。

在上述实施例中，所述入口室的最径向靠外的部分比位于存储室的最径向靠外的部分更径向靠外，这样可以使得从存储室释放的流体能够流入入口室内，而不至于从入口室的开口处流出。

在上述实施例中，所述刺状结构对准的是存储室的最径向靠外的部分，这样能够使得在离心的作用下，将存储室内的全部流体释放出去。

所述非功能室为暂存室，即周转室，起到配合、过渡的作用。

Claims (8)

1.一种用于释放流体的装置，其特征在于：包括流体存储盘和检测盘，所述流体存储盘包括存储基盘（1-1）、存储槽和封膜，所述存储槽设置在存储基盘（1-1）上，所述封膜与存储槽密封连接并形成存储室；所述检测盘包括检测基盘（2-1）、入口室和刺状结构，所述入口室设置在检测基盘（2-1）上，所述刺状结构位于入口室内；所述入口室与存储室嵌套在一起或者分离配合，当入口室与存储室嵌套在一起时所述刺状结构刺破封膜。

2.根据权利要求1所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室（2-2）和第二入口室（2-3），所述刺状结构包括位于第一入口室（2-2）内的第一刺状结构（2-4）和位于第二入口室（2-3）内的第二刺状结构（2-5），所述第一存储室与第一入口室（2-2）相适配，所述第二存储室与第二入口室（2-3）相适配。

3.根据权利要求1所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述检测盘还包括非功能室，所述非功能室设置在检测基盘（2-1）上，其与存储室嵌套在一起或者分离配合。

4.根据权利要求3所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室（2-2），所述非功能室包括第一非功能室（2-8），所述刺状结构位于第一入口室（2-2）内或者第一非功能室（2-8）内，所述第一入口室（2-2）分别与第一存储室、第二存储室相适配，所述第一非功能室（2-8）分别与第一存储室、第二存储室相适配。

5.根据权利要求3所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述存储室包括第一存储室和第二存储室，所述入口室包括第一入口室（2-2）和第二入口室（2-3），所述非功能室包括第一非功能室（2-8）和第二非功能室（2-9），所述刺状结构包括位于第一入口室（2-2）内的第一刺状结构（2-4）和位于第二入口室（2-3）内的第二刺状结构（2-5），所述第一存储室分别与第一入口室（2-2）、第二非功能室（2-9）相适配，所述第二存储室分别与第二入口室（2-3）、第一非功能室（2-8）相适配。

6.根据权利要求1所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述入口室包括第一入口室（2-2），所述刺状结构的数量为至少两个且均位于第一入口室（2-2）内。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述存储室、入口室的侧部沿旋转轴的径向向外依次分布。

8.根据权利要求1-6中任意一项所述的一种用于释放流体的装置，其特征在于：所述存储槽的内腔呈L型，L型存储槽内腔的一段位于存储基盘（1-1）内。