CN109950786A - 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法 - Google Patents

准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109950786A
CN109950786A CN201910253024.0A CN201910253024A CN109950786A CN 109950786 A CN109950786 A CN 109950786A CN 201910253024 A CN201910253024 A CN 201910253024A CN 109950786 A CN109950786 A CN 109950786A
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
pulse
control
energy
energy value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910253024.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109950786B (zh
Inventor
冯泽斌
韩晓泉
江锐
周翊
赵江山
张华�
张琴
王香
廖密
杨军红
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Science and Technology Beijing USTB
Original Assignee
University of Science and Technology Beijing USTB
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Science and Technology Beijing USTB filed Critical University of Science and Technology Beijing USTB
Priority to CN201910253024.0A priority Critical patent/CN109950786B/zh
Publication of CN109950786A publication Critical patent/CN109950786A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109950786B publication Critical patent/CN109950786B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

本发明公开了一种准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法，其中，控制***包括：高压放电组件，用于接收触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；激光器，其内充有工作气体，工作气体用于接收脉冲高压，并产生激光脉冲；激光参数测量组件，用于检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；能量稳定控制器，与高压放电组件电性连接，能量稳定控制器用于采集能量值；本发明通过激光参数测量组件检测脉冲激光的能量值，当能量值偏移预设能量值时通过能量稳定控制器控制高压放电组件的放电高压，进而控制激光脉冲的能量值与预设能量值接近或相等，以防止每个序列的前几个激光脉冲严重超调，保证了每个激光脉冲的稳定性。

Description

准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法
技术领域
本发明涉及精密仪器控制领域，尤其涉及一种准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法。
背景技术
193nmArF准分子激光器是一种面向深紫外特征应用的脉冲式气体激光器，具有高重频，大能量，短波长，窄线宽的特点，是优秀的微电子光刻***用激光光源。
准分子激光器发出的激光是以脉冲形式发出的，由于电荷的变化或者是工作气体的变质，脉冲与脉冲之间的能量是有差异的，同时激光脉冲的能量与设定的期望脉冲能量也存在一定的偏差，这就导致激光器激光能量的剂量稳定性有很大波动。在半导体光刻工艺中，剂量不稳定的结果表现为在光刻过程中过度曝光或曝光不足，使得加工出来的线条粗糙。为了使光刻的精度在允许范围内，准分子激光脉冲剂量的稳定性必需得到很好的控制。所以解决剂量稳定性的控制，是准分子激光器研发过程中的一个关键。
在激光器运行的过程中，由于气体温度，气体退化或更新、以及运行时间等因素的影响，准分子激光器总会出现单脉冲能量的波动，平均脉冲能量的漂移和单脉冲能量的超调。这些现象都会影响激光器的剂量稳定性和能量稳定性。能量的超调是指在burst模式下，一组脉冲与一组脉冲的时间间隔内，由于气体处于不放电状态而导致在相同的放电高压下每一组的前几个脉冲要比其它脉冲高很多。单脉冲能量波动和能量值超调现象是准分子激光器的固有特性，单纯通过改变激光器本身的光学特性来改善这种现象比较困难，必须采用必要的控制算法，使剂量稳定性得到很大的提升。
发明内容
本发明的目的是提供一种准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法，以解决现有技术中准分子激光器在burst模式下，一组脉冲与一组脉冲的时间间隔内，由于气体处于不放电状态而导致在相同的放电高压下每一组的前几个脉冲要比其它脉冲高很多的问题。
为了解决上述问题，本发明提供了一种准分子激光器剂量稳定控制***，其包括：
高压放电组件，其用于接收来自外部的触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；
激光器，其内充有工作气体，工作气体用于接收脉冲高压，并产生激光脉冲；
激光参数测量组件，其用于检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；
能量稳定控制器，其与高压放电组件电性连接，能量稳定控制器用于采集所述激光脉冲的能量值；当能量值大于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件降低放电电压，当能量值小于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件提高放电电压，以致能量值与预设能量值接近或相等。
作为本发明的进一步改进，预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(1)实现对能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为PI控制算法的积分系数，DT为PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
作为本发明的进一步改进，预设控制算法还包括一与闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
误差控制算法根据公式(2)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (2)，
其中，Emeasured(m,n)为激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为误差；
根据PI控制算法及公式(3)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为PI控制算法的比例参数，PKi为PI控制算法的积分参数，T为PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
作为本发明的进一步改进，根据公式(2)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(4)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
为了解决上述问题，本发明还提供了一种准分子激光器剂量稳定控制方法，其包括如下步骤：
高压放电组件接收来自外部的触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；
激光器内的工作气体接收脉冲高压，并产生激光脉冲；
激光参数测量组件检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；
能量稳定控制器采集激光脉冲的能量值；当能量值大于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件降低放电电压，当能量值小于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件提高放电电压。
作为本发明的进一步改进，预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(5)实现能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为PI控制算法的积分系数，DT为PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
作为本发明的进一步改进，预设控制算法还包括一与闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
误差控制算法根据公式(6)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (6)，
其中，Emeasured(m,n)为激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为误差；
根据PI控制算法及公式(7)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为PI控制算法的比例参数，PKi为PI控制算法的积分参数，T为PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
作为本发明的进一步改进，根据公式(6)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(8)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
本发明通过激光参数测量组件检测脉冲激光的能量值，当能量值偏移预设能量值时通过能量稳定控制器控制高压放电组件的放电高压，进而控制激光脉冲的能量值与预设能量值接近或相等，以防止每个序列的前几个激光脉冲严重超调，保证了每个激光脉冲的稳定性。
附图说明
图1为本发明准分子激光器剂量稳定控制***一个实施例的结构原理框图；
图2为本发明准分子激光器剂量稳定控制***一个实施例的控制效果图；
图3为本发明准分子激光器剂量稳定控制方法一个实施例的流程示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用来限定本发明。
图1展示了本发明准分子激光器剂量稳定控制***的一个实施例，参见图1，在本实施例中，其该控制***包括高压放电组件、激光器、激光参数测量组件和能量稳定控制器。
其中，高压放电组件用于接收来自外部的触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；激光器内充有工作气体，工作气体用于接收脉冲高压，并产生激光脉冲；激光参数测量组件用于检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；能量稳定控制器与高压放电组件电性连接，能量稳定控制器用于采集能量值；当能量值大于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件降低放电电压，当能量值小于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件提高放电电压，以致能量值与预设能量值接近或相等。
具体地，在激光器工作时，每当高压放电组件收到一个外部的触发信号时，会根据高压设定信号(预设高压设定值)产生一个脉冲高压，电击激光器腔体中的工作气体，触发激光器产生一个激光脉冲，激光器脉冲经过激光参数测量组件测量后，将用于工作的激光器脉冲输出。
进一步地，激光器所产生的激光脉冲和工作用激光能量的高低主要受高压放电组件的高压控制，在高压放电组件的工作电压范围内，放电高压越高，激光器的出光能量越大。
进一步地，激光器的剂量定义为N个脉冲的能量的总和，即
其中j为每个Burst序列中的脉冲编号，Ei为第i个脉冲的能量值。
激光器的剂量稳定性定义为：
其中Dosetarget为剂量设定值。
通过计算Burst序列中每个激光脉冲(脉冲所在位置序列号大于等于N)发出后的剂量稳定性，每个Burst的剂量稳定性用每个Burst中的剂量稳定性的最大值和最小值来衡量剂量的稳定性。
本实施例通过激光参数测量组件检测脉冲激光的能量值，当能量值偏移预设能量值时通过能量稳定控制器控制高压放电组件的放电高压，进而控制激光脉冲的能量值与预设能量值接近或相等，以防止每个序列的前几个激光脉冲严重超调，保证了每个激光脉冲的稳定性。
为了实现对能量值的控制，在上述实施例的基础上，在本实施例中，预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(1)实现能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为PI控制算法的积分系数，DT为PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
具体地，针对每个Burst的第一个激光脉冲，其能量设定值为：
当某一个Burst中的激光脉冲所在位置编号小于剂量计算所需激光脉冲的个数N时，剂量的计算如下公式的形式，表示没有打出的激光脉冲按符合能量设定值的剂量进行计算：
在剂量稳定性算法闭环算出需要设定的单脉冲能量后，其后续工作就是保障***的控制算法能够保障激光器的单脉冲能量达到所需设定的能量值。
为了防止一个脉冲序列中前几个激光脉冲严重超调，在上述实施例的基础上，在本实施例中，预设控制算法还包括一与闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
误差控制算法根据公式(2)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (2)，
其中，Emeasured(m,n)为激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为误差；
具体地，由于一个脉冲序列中，相同的放电高压，前几个脉冲严重超调，如果利用和后续脉冲一样的反馈算法很难达到预想的控制效果。本实施例采用前端的激光脉冲的控制算法和后续的激光脉冲的算法相分离的控制方法。
进一步地，根据大量激光器的脉冲能量测试实验，本实施例选取一个脉冲序列的前20个脉冲采用单独控制方法，后面的脉冲采用同一种控制方法。
进一步地，针对于激光器脉冲序列前20个激光脉冲的超调，本实施例采用的方法是兼顾激光脉冲所在脉冲序列编号和在脉冲序列中该激光脉冲的位置，即本次设定的放电高压要参考历史脉冲序列中该激光脉冲所在脉冲序列中相同编号的激光脉冲的放电高压和出光能量进行控制。
针对该误差，根据PI控制算法及公式(3)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为PI控制算法的比例参数，PKi为PI控制算法的积分参数，T为PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
为了使得公式(2)在工程中更易实现，在上述实施例的基础上，在本实施例中，根据公式(2)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(4)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
具体地，在实现控制算法的过程中，由于的存在，会占用大量内存，而且容易出现积分饱和现象。为了在工程中易实现，本实施例采用PI反馈控制算法的增量式形式实现，实现公式如式(4)所示。
进一步地，在实现过程中为了避免计算积分项，本实施例仍然采用PI反馈控制算法的增量式表示形式，如下公式所示：
需要说明的是，在实际实现过程中，激光脉冲的放电高压值受到高压放电组件固有属性的限制，有最大值和最小值限制，所以，对于每一个脉冲设定的放电高压值HV(m+1,n)或HV(n+1)设定最大值和最小值。
在上述实施例中的能量稳定控制器的控制下，得到的控制效果如图2所示。一个激光器脉冲序列中含有375个脉冲，激光器工作在4KHz的出光频率下，计算剂量的激光脉冲个数N设为30，控制的目标剂量值设为300mJ。图中10为激光器的在没有该算法时的剂量稳定性，有图可知剂量精度大概在4％左右；图中20显示的为采用本发明的剂量稳定性控制算法时所产生的剂量稳定性数据，其剂量精度在0.6％左右，由此可以看出采用本发明准分子激光器的剂量稳定性得到了很好的控制。
图3展示了本发明准分子激光器剂量稳定控制方法的一个实施例，参见图N，在本实施例中，该控制方法包括如下步骤：
步骤S1，高压放电组件接收来自外部的触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；
步骤S2，激光器内的工作气体接收脉冲高压，并产生激光脉冲；
步骤S3，激光参数测量组件检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；
步骤S4，能量稳定控制器采集能量值；当能量值大于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件降低放电电压，当能量值小于预设能量值时，能量稳定控制器根据预设控制算法控制高压放电组件提高放电电压，以致能量值与预设能量值接近或相等。
具体地，预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(5)实现能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为PI控制算法的积分系数，DT为PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
进一步地，该预设控制算法还包括一与闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
误差控制算法根据公式(6)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (6)，
其中，Emeasured(m,n)为激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为误差；
根据PI控制算法及公式(7)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为PI控制算法的比例参数，PKi为PI控制算法的积分参数，T为PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
进一步地，根据公式(6)计算激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(8)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。对于本说明书中的方法类实施例的拓展内容而言，由于其与装置实施例的拓展内容相似，所以不再进行赘述，相关之处参见装置实施例拓展内容的部分说明即可。
以上对发明的具体实施方式进行了详细说明，但其只作为范例，本发明并不限制于以上描述的具体实施方式。对于本领域的技术人员而言，任何对该发明进行的等同修改或替代也都在本发明的范畴之中，因此，在不脱离本发明的精神和原则范围下所作的均等变换和修改、改进等，都应涵盖在本发明的范围内。

Claims (8)

1.一种准分子激光器剂量稳定控制***，其特征在于，其包括：
高压放电组件，其用于接收来自外部的触发信号，并根据所述触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；
激光器，其内充有工作气体，所述工作气体用于接收所述脉冲高压，并产生激光脉冲；
激光参数测量组件，其用于检测所述激光脉冲的能量值，并将所述激光脉冲输出至外部；
能量稳定控制器，其与所述高压放电组件电性连接，所述能量稳定控制器用于采集所述激光脉冲的能量值；当所述能量值大于预设能量值时，所述能量稳定控制器根据预设控制算法控制所述高压放电组件降低放电电压，当所述能量值小于所述预设能量值时，所述能量稳定控制器根据所述预设控制算法控制所述高压放电组件提高所述放电电压。
2.根据权利要求1所述的准分子激光器剂量稳定控制***，其特征在于，所述预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(1)实现对所述能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为所述PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为所述PI控制算法的积分系数，DT为所述PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
3.根据权利要求2所述的准分子激光器剂量稳定控制***，其特征在于，所述预设控制算法还包括一与所述闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
所述误差控制算法根据公式(2)计算所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与所述能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (2)，
其中，Emeasured(m,n)为所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为所述误差；
根据所述PI控制算法及公式(3)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为所述下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为所述PI控制算法的比例参数，PKi为所述PI控制算法的积分参数，T为所述PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
4.根据权利要求3所述的准分子激光器剂量稳定控制***，其特征在于，所述根据公式(2)计算所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与所述能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(4)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
5.一种准分子激光器剂量稳定控制方法，其特征在于，其包括如下步骤：
高压放电组件接收来自外部的触发信号，并根据所述触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；
激光器内的工作气体接收所述脉冲高压，并产生激光脉冲；
激光参数测量组件检测所述激光脉冲的能量值，并将所述激光脉冲输出至外部；
能量稳定控制器采集所述激光脉冲的能量值；当所述能量值大于预设能量值时，所述能量稳定控制器根据预设控制算法控制所述高压放电组件降低放电电压，当所述能量值小于所述预设能量值时，所述能量稳定控制器根据所述预设控制算法控制所述高压放电组件提高所述放电电压。
6.根据权要求5所述的准分子激光器剂量稳定控制方法，其特征在于，所述预设控制算法包括一闭环控制算法，其通过PI控制算法及公式(5)实现所述能量值的控制：
其中，Eset(n+1)为下一个激光脉冲所需的能量值，DKp为所述PI控制算法的比例系数，ΔDose(n)为本次激光脉冲剂量稳定性的偏差，DKi为所述PI控制算法的积分系数，DT为所述PI控制算法的周期系数，为历史激光脉冲剂量稳定性的偏差总和。
7.根据权要求6所述的准分子激光器剂量稳定控制方法，其特征在于，所述预设控制算法还包括一与所述闭环控制算法相分离的误差控制算法，其用于控制脉冲序列前20个激光脉冲的严重超调：
所述误差控制算法根据公式(6)计算所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与所述能量设定值的误差：
Eerror(m,n)＝Eset-Emeasured(m.n) (6)，
其中，Emeasured(m,n)为所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值，Eerror(m,n)为所述误差；
根据所述PI控制算法及公式(7)计算下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值；
其中，HV(m+1,n)为所述下一个脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值，PKp为所述PI控制算法的比例参数，PKi为所述PI控制算法的积分参数，T为所述PI控制算法的控制周期参数，为历史误差的积分。
8.根据权要求7所述的准分子激光器剂量稳定控制方法，其特征在于，所述根据公式(6)计算所述激光器在出光时第m个Burst序列中第n个激光脉冲的能量值与所述能量设定值的误差，具体包括：
通过PI反馈控制算法的增量式的形式，如公式(8)所示；
其中ΔHV(m+1,n)表示下一个脉冲序列中的第n个激光脉冲的预设放电高压的变化值，HV(m,n)表示本次脉冲序列中第n个激光脉冲所需的能量值。
CN201910253024.0A 2019-03-29 2019-03-29 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法 Active CN109950786B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910253024.0A CN109950786B (zh) 2019-03-29 2019-03-29 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910253024.0A CN109950786B (zh) 2019-03-29 2019-03-29 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109950786A true CN109950786A (zh) 2019-06-28
CN109950786B CN109950786B (zh) 2024-04-19

Family

ID=67013108

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910253024.0A Active CN109950786B (zh) 2019-03-29 2019-03-29 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109950786B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112490839A (zh) * 2020-11-09 2021-03-12 中国科学院微电子研究所 一种准分子激光器稳定性控制方法及准分子激光器
CN113783099A (zh) * 2021-04-15 2021-12-10 北京科益虹源光电技术有限公司 基于深度gru的准分子激光器剂量控制方法及装置
CN115347447A (zh) * 2022-08-23 2022-11-15 西北核技术研究所 采用电压调控稳定输出脉冲激光能量的方法及装置
CN116960716A (zh) * 2022-04-18 2023-10-27 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器能量掉点恢复方法及装置
CN117791287A (zh) * 2024-02-23 2024-03-29 深圳市智鼎自动化技术有限公司 激光脉冲能量控制***及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999019950A1 (en) * 1997-10-10 1999-04-22 Cymer, Inc. Pulse energy control for excimer laser
US20020154669A1 (en) * 2000-02-09 2002-10-24 Spangler Ronald L. Laser wavelength control unit with piezoelectric driver
CN102790348A (zh) * 2012-04-10 2012-11-21 中国科学院安徽光学精密机械研究所 高重频ArF准分子激光器脉冲能量控制***
CN209860345U (zh) * 2019-03-29 2019-12-27 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器剂量稳定控制***

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999019950A1 (en) * 1997-10-10 1999-04-22 Cymer, Inc. Pulse energy control for excimer laser
US20020154669A1 (en) * 2000-02-09 2002-10-24 Spangler Ronald L. Laser wavelength control unit with piezoelectric driver
CN102790348A (zh) * 2012-04-10 2012-11-21 中国科学院安徽光学精密机械研究所 高重频ArF准分子激光器脉冲能量控制***
CN209860345U (zh) * 2019-03-29 2019-12-27 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器剂量稳定控制***

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112490839A (zh) * 2020-11-09 2021-03-12 中国科学院微电子研究所 一种准分子激光器稳定性控制方法及准分子激光器
CN112490839B (zh) * 2020-11-09 2022-02-22 中国科学院微电子研究所 一种准分子激光器稳定性控制方法及准分子激光器
CN113783099A (zh) * 2021-04-15 2021-12-10 北京科益虹源光电技术有限公司 基于深度gru的准分子激光器剂量控制方法及装置
CN113783099B (zh) * 2021-04-15 2024-02-20 北京科益虹源光电技术有限公司 基于深度gru的准分子激光器剂量控制方法及装置
CN116960716A (zh) * 2022-04-18 2023-10-27 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器能量掉点恢复方法及装置
CN116960716B (zh) * 2022-04-18 2024-03-29 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器能量掉点恢复方法及装置
CN115347447A (zh) * 2022-08-23 2022-11-15 西北核技术研究所 采用电压调控稳定输出脉冲激光能量的方法及装置
CN115347447B (zh) * 2022-08-23 2024-06-11 西北核技术研究所 采用电压调控稳定输出脉冲激光能量的方法及装置
CN117791287A (zh) * 2024-02-23 2024-03-29 深圳市智鼎自动化技术有限公司 激光脉冲能量控制***及方法
CN117791287B (zh) * 2024-02-23 2024-04-30 深圳市智鼎自动化技术有限公司 激光脉冲能量控制***及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109950786B (zh) 2024-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109950786A (zh) 准分子激光器剂量稳定控制***及控制方法
US6084897A (en) Laser processing device and laser device
CN109638629B (zh) 一种准分子激光脉冲能量稳定性控制方法及***
EP2388800B1 (en) Active Spectral Control of DUV Light Source
US7227098B2 (en) Method and system for decreasing the effective pulse repetition frequency of a laser
US7382816B2 (en) Two-stage laser pulse energy control device and two-stage laser system
CN112490839B (zh) 一种准分子激光器稳定性控制方法及准分子激光器
US7308013B2 (en) Excimer or molecular fluorine laser system with precision timing
EP2727199A1 (en) System and method for automatic gas optimization in a two-chamber gas discharge laser system
CN209860345U (zh) 准分子激光器剂量稳定控制***
JP2006505960A5 (zh)
US6418155B1 (en) Laser device
CN109891689A (zh) 激光装置
CN114865444A (zh) 准分子激光器剂量精度控制方法和***及准分子激光器
JPWO2018025394A1 (ja) ガスレーザ装置
JP3722200B2 (ja) 放電励起ガスレーザ装置の出力制御方法及び放電励起ガスレーザ装置
JP3806025B2 (ja) ガスレーザ装置
JP3413510B2 (ja) レーザ装置
JP3957517B2 (ja) レーザ装置及びその制御方法
US20030201737A1 (en) Method for the stabilization of the radiation output of a gas discharge-coupled radiation source in pulsed operation
Juhn et al. Low-risk beginning of the density control on the KSTAR plasmas
JPH11191651A (ja) エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置
JP3765044B2 (ja) エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置
JP2001320118A (ja) レーザ装置
Warda et al. Enhancing TCVCXO Stability Using the 1 PPS Signal from the GPS

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant