CN109940432A - 一种可调式精密v型机构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种可调式精密V型机构,包括底座、活动块,底座上表面设有精密齿形,活动块设于底座上,活动块的下表面设有能够与底座上的精密齿形相配合的齿形,底座上表面还开设有凹槽,凹槽侧壁开设有贯穿长孔,活动块底部伸出有固定耳,固定耳位于凹槽内,固定耳上设有通孔,活动块的一侧面为装夹面,活动块的装夹面之间形成V型结构。采用该可调式精密V型机构,能够根据所装夹的轴类工件直径大小快速而精确的调整活动块之间的距离,并用固定件将活动块与底座锁紧,该可调式精密V型机构装夹速度快、过程简单、且能够适用于不同直径大小的轴类零件,替代了装夹不同直径大小轴类工件采用不同夹具的方式,有效降低了生产成本。
Description
技术领域
本发明属于工装夹具领域,具体涉及一种可调式精密V型机构。
背景技术
机械加工过程零件装夹中常用到垫铁、V型块用来对零件进行定位装夹,矩形零件常用垫铁来对某一方向定位,轴类零件的定位多采用V型垫块,以确保零件轴心定位稳定,零件装夹可靠,但在使用过程中垫铁的高度、V型块的张口处大小直接关系到可以装夹轴的外形尺寸,为了提高扩大此类工装的装夹范围,设计了该装置,可以根据装夹工件的高度、大小相应的进行快速调整,降低工装成本,提高定位精度。
发明内容
本发明提供一种可调式精密V型机构,能够根据装夹工件的大小快速的进行相应的调整,降低工装成本,提高定位精度。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案实现:
一种可调式精密V型机构,包括底座、活动块,所述底座上表面设有精密齿形,所述活动块设于底座上,活动块的下表面设有能够与底座上的精密齿形相配合的齿形,底座上表面还开设有凹槽,凹槽侧壁开设有贯穿长孔,活动块底部伸出有固定耳,固定耳位于凹槽内,固定耳上设有通孔,活动块的一侧面为装夹面,活动块的装夹面之间形成V型结构。
作为上述方案的优选,所述底座的上部对称设有两个斜面,两个所述斜面呈V型结构,斜面上设有精密齿形,斜面中间开设有凹槽,凹槽侧壁上沿平行于斜面的方向开设有贯穿长孔。
作为上述方案的优选,所述贯穿长孔内设有固定件,用于将底座与活动块锁紧,固定件包括锁紧螺钉和锁紧螺母,所述锁紧螺钉的一端同时穿过凹槽侧壁的贯穿长孔和固定耳上的通孔,并通过锁紧螺母锁紧。
作为上述方案的优选,所述锁紧螺钉和锁紧螺母的内端面分别设有第一锥面,所述贯穿长孔的外侧壁上设有与第一锥面相配合的第二锥面。
作为上述方案的优选,所述活动块的数量为偶数个,活动块上的装夹面为倾斜面或者圆弧面,活动块的上表面为水平面。
作为上述方案的优选,所述活动块底部中间伸出有固定耳,固定耳上通孔的中心位于所述凹槽侧壁上贯穿长孔的中心的上方。
作为上述方案的优选,所述底座侧面和活动块侧面均标注有刻线,两者配合用以确定活动块的位置。
由于具有上述结构,本发明的有益效果在于:
1、该可调式精密V型机构包括底座和活动块,活动块成对使用,活动块上设有装夹面,成对使用的活动块的装夹面之间形成V型结构,用于装夹轴类零件;活动块能够在底座上移动,起到根据轴类工件直径大小来调整活动块之间的距离的作用;底座的上表面设有精密齿形,活动块的下表面设有能够与底座上的精密齿形相配合的齿形,用以对活动块的进行定位和固定,且能够使定位更加精确和稳定;底座上表面设有凹槽,活动块底部伸出有固定耳,固定件穿过凹槽侧壁的贯穿长孔和固定耳上的通孔,能够将底座与活动块更好的锁紧;活动块与底座的侧面均有刻线,能够使相对位置的调整更加精确;
2、底座的上部设有两个斜面,两个斜面呈V型结构,使得在调整活动块之间距离的同时能够调整活动块的高度,活动块的上表面为水平面,该水平面能够在与其他部件接触时作为定位基准面;
3、固定耳上通孔的中心位于凹槽侧壁上贯穿长孔的中心的上方,能够在底座与活动块固定时,通过固定件将活动块向垂直于底座的斜面方向拉紧,使得固定更加牢靠。
4、该可调式精密V型机构装夹轴类工件速度快、过程简单、且能够适用于不同直径大小的轴类零件,替代了装夹不同直径大小轴类工件采用不同夹具的方式,有效降低了生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1至图3为本发明整体装配结构示意图;
图4为本发明底座的结构示意图;
图5为本发明活动块的结构示意图;
图6为本发明锁紧螺钉的结构示意图;
图7为本发明锁紧螺母的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明的附图,对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1至图7所示,本发明提供一种可调式精密V型机构,包括底座1、活动块2,底座1上表面设有精密齿形,所述活动块2设于底座1上,活动块2的下表面设有能够与底座1上的精密齿形相配合的齿形24,用于对活动块2进行定位和固定,所述底座1上表面还开设有凹槽11,凹槽侧壁开设有贯穿长孔111,所述活动块2设于底座1上,活动块 2底部伸出有固定耳21,固定耳21位于凹槽11内,固定耳21上设有通孔211,所述活动块2的一侧面为装夹面22,活动块的装夹面之间形成V型结构。
所述底座1的上部对称设有两个斜面12,两个所述斜面12呈V型结构,使得在调整活动块之间距离的同时能够调整活动块的高度,以便更好的适应不同直径大小的轴类零件,同时能够作为基准垫铁使用。
斜面12上设有精密齿形121,斜面12中间开设有凹槽11,凹槽11侧壁上沿平行于斜面的方向开设有贯穿长孔111。通过斜面与活动块上的齿形的配合,使得对活动块的定位更加精确和稳定。
所述贯穿长孔111内设有固定件,用于将底座1与活动块2更好的锁紧,防止活动块2相对于底座1滑动,固定件包括锁紧螺钉3和锁紧螺母4,所述锁紧螺钉3的一端同时穿过凹槽侧壁的贯穿长孔111和固定耳上的通孔211,并通过锁紧螺母4锁紧。
所述锁紧螺钉3和锁紧螺母4的内端面分别设有第一锥面31、41,所述贯穿长孔111的外侧壁上设有与第一锥面相配合的第二锥面112。
所述活动块2的数量为偶数个,活动块2上的装夹面22为倾斜面或者圆弧面,本实施例中,活动块采用两个,活动块2上的装夹面22采用倾斜面,活动块的上表面23为水平面,该水平面能够在与其他部件接触时作为定位基准面。
所述活动块2底部中间伸出有固定耳21,固定耳上通孔211的中心位于所述凹槽侧壁上贯穿长孔111的中心的上方,能够在底座1与活动块2锁紧时,通过固定件将活动块2 向垂直于底座的斜面方向拉紧,减小底座与活动块的齿形之间的间隙,进而使得固定更加牢靠,同时固定耳21上的通孔211能够起到限制锁紧螺钉3歪斜的作用。
底座1侧面和活动块2的侧面均标注有刻线13、25,两者配合使用来确定活动块2的位置。
在使用前确定好待加工轴类工件的直径,根据待加工轴类工件的直径大小计算好每一对活动块之间的间距,以底座侧面和活动块侧面的刻线为基准相应调整活动块的位置,调整完毕后通过底座和活动块上的齿形的配合,将活动块固定在底座上,再通过固定件将活动块与底座锁紧,以确保加工过程中夹具稳定、可靠,固定完成后将轴类工件放入成对使用的活动块的装夹面之间形成V型结构上,完成工件的装夹;
当需要加工另一种直径大小的轴类工件时,只需松开锁紧螺母,向外拉动锁紧螺钉上远离锁紧螺母的一端(也可以将锁紧螺钉从贯穿长孔中取出)以解除对活动块的锁紧,锁紧螺钉就可以在贯穿长孔内产生足够的活动间隙,而底座与活动块的齿形之间的间隙也会变大,此时可以在底座上根据刻线标识对称地移动两个斜面上的活动块,调整活动块之间的距离,以扩大或缩小V形结构装夹口的大小,即可匹配另一种直径大小的轴类工件,调整完毕后重新拧紧锁紧螺母,以将活动块与底座锁紧。
当需要该装置作为基准垫铁使用时,可以根据需要高度,以刻线为基准相应调整活动块的位置,以达到精确调整高度的需求。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种可调式精密V型机构,其特征在于:包括底座、活动块,所述底座上表面设有精密齿形,所述活动块设于底座上,活动块的下表面设有能够与底座上的精密齿形相配合的齿形,底座上表面还开设有凹槽,凹槽侧壁开设有贯穿长孔,活动块底部伸出有固定耳,固定耳位于凹槽内,固定耳上设有通孔,活动块的一侧面为装夹面,活动块的装夹面之间形成V型结构。
2.根据权利要求1所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述底座的上部对称设有两个斜面,两个所述斜面呈V型结构,斜面上设有精密齿形,斜面中间开设有凹槽,凹槽侧壁上沿平行于斜面的方向开设有贯穿长孔。
3.根据权利要求1或2所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述贯穿长孔内设有固定件,用于将底座与活动块锁紧,固定件包括锁紧螺钉和锁紧螺母,所述锁紧螺钉的一端同时穿过凹槽侧壁的贯穿长孔和固定耳上的通孔,并通过锁紧螺母锁紧。
4.根据权利要求3所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述锁紧螺钉和锁紧螺母的内端面分别设有第一锥面,所述贯穿长孔的外侧壁上设有与第一锥面相配合的第二锥面。
5.根据权利要求1或2所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述活动块的数量为偶数个,活动块上的装夹面为倾斜面或者圆弧面,活动块的上表面为水平面。
6.根据权利要求1或2所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述活动块底部中间伸出有固定耳,固定耳上通孔的中心位于凹槽侧壁上贯穿长孔的中心的上方。
7.根据权利要求1或2所述的可调式精密V型机构,其特征在于:所述底座侧面和活动块侧面均标注有刻线,两者配合用以确定活动块的位置。
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