CN109761508A - 一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及石英光纤材料技术领域,且公开了一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,包括以下步骤:称取SiC粉、配制含有B2O3与SiO2的玻璃粉、配制增粘组分A、配制增粘组分B,将上述组分一起置于260‑350r/min下球磨12‑20h后,制备得到SiC浆,采用丝网印刷方法将上述SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于120‑150℃下真空干燥,制备得到SiC涂覆石英光纤。本发明解决了现有技术中碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,由于其制备过程中的反应温度高于石英玻璃的使用温度,所以容易导致石英光纤产生内部缺陷的技术问题。
Description
技术领域
本发明涉及石英光纤材料技术领域,具体为一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法。
背景技术
石英光纤是一种基于石英玻璃为芯材的光导纤维,石英光纤不仅传光光谱范围非常广,从紫外区一直可以到近红外区,一般为250-2600nm,而且是目前已知的除光子晶体光纤外,光损耗最小的光纤。
现有技术中石英光纤包括芯层,芯层的外表面上涂覆有皮层;其中,芯层是纯石英玻璃或者掺杂的、高折射率的石英玻璃材料,而对应的皮层材料是掺杂的、低折射率的石英玻璃,或者是光学涂层材料,或者是纯的石英玻璃;为了保持石英光纤的机械强度和损耗的长时间稳定,在石英光纤的皮层表面涂装碳化硅(SiC)材料,用来防止从外部来的水和氢的扩散,同时能够有效地截断外界氢分子的侵入,使其筛选强度达到200以上。
目前通用的是采用化学气相沉积法在1800-2300℃的温度下将碳化硅沉积在石英光纤基体的表面上,制备出碳化硅涂覆石英光纤,由于该制备方法的反应温度高达1800-2300℃,而石英玻璃的使用温度基本上在1000-1050℃的范围内,所以1800-2300℃的高温会对石英光纤内部的晶型结构产生破坏作用,使其产生结构缺陷,从而会对石英光纤的光波传输性能产生影响。
本发明提供一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,旨在解决现有技术中碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,由于其制备过程中的反应温度高于石英玻璃的使用温度,所以容易导致石英光纤产生内部缺陷的技术问题。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,解决了现有技术中碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,由于其制备过程中的反应温度高于石英玻璃的使用温度,所以容易导致石英光纤产生内部缺陷的技术问题。
(二)技术方案
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,包括以下步骤:
S1.取60-70质量份的SiC粉,备用;
S2.配制含有B2O3与SiO2的玻璃粉;
S3.以水性环氧树脂和聚乙烯醇为原料,配制得到增粘组分A;
S4.以松香和丙烯酸乙酯为原料,配制得到增粘组分B;
S5.将步骤S1中的SiC粉、步骤S2中的玻璃粉、步骤S3中的增粘组分A、步骤S4中的增粘组分B一起置于260-350r/min下,球磨12-20h后,制备得到SiC浆;
S6.采用丝网印刷方法将步骤S5中的SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于120-150℃下真空干燥,制备得到SiC涂覆石英光纤。
优选的,所述步骤S1中,SiC粉的平均粒径≤50um。
优选的,所述步骤S2中,玻璃粉的平均粒径≤100nm。
优选的,所述步骤S5中,球磨12-20h后,加入大豆卵磷脂分散剂。
优选的,所述步骤S5中,加入大豆卵磷脂分散剂后,再于260-350r/min下,球磨2h。
(三)有益的技术效果
与现有技术相比,本发明具备以下有益的技术效果:
本发明采用料浆法来制作碳化硅涂覆石英光纤,制备出的SiC涂层的附着力为1级,SiC涂层的表面呈均匀致密状态,且制备过程中的反应温度≤150℃,显著低于石英玻璃的使用温度1000-1050℃,取得了在简单的工艺条件下,制备得到均匀致密且附着力强的SiC涂层的技术效果,从而解决了现有技术中碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,由于其制备过程中的反应温度高于石英玻璃的使用温度,所以容易导致石英光纤产生内部缺陷的技术问题。
具体实施方式
实施例一:
碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,包括以下步骤:
S1.取70g平均粒径≤50um的SiC粉,备用;
S2.取3g平均粒径≤100nm的B2O3、5g平均粒径≤100nm的SiO2、4g平均粒径≤100nm的Bi2O3、2g平均粒径≤100nm的MgO,配制成玻璃粉;
S3.取8mL水性环氧树脂与2g黏度为30的聚乙烯醇一起溶解在25mL的去离子水中,配制得到增粘组分A;
S4.将3g松香与2mL丙烯酸乙酯一起溶解在10mL无水乙醇中,配制得到增粘组分B;
S5.将步骤S1中的SiC粉、步骤S2中的玻璃粉、步骤S3中的增粘组分A、步骤S4中的增粘组分B与30mL无水乙醇一起置于300r/min下,球磨18h后,加入4g大豆卵磷脂,再于300r/min下,球磨2h,制备得到SiC浆;
S6.采用丝网印刷方法将步骤S5中的SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于120℃下真空干燥2h,制备得到SiC涂覆石英光纤;
S7.对步骤S6中制作的SiC涂层的性能进行测试,结果为:SiC涂层的附着力为1级,涂层表面呈均匀致密状态,且制备过程中的反应温度仅为120℃,显著低于石英玻璃的使用温度1000-1050℃。
实施例二:
碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,包括以下步骤:
S1.取60g平均粒径≤50um的SiC粉,备用;
S2.取3g平均粒径≤100nm的B2O3、5g平均粒径≤100nm的SiO2、4g平均粒径≤100nm的Bi2O3,配制成玻璃粉;
S3.取10mL水性环氧树脂与1g黏度为30的聚乙烯醇一起溶解在25mL的去离子水中,配制得到增粘组分A;
S4.将5g松香与1mL丙烯酸乙酯一起溶解在10mL无水乙醇中,配制得到增粘组分B;
S5.将步骤S1中的SiC粉、步骤S2中的玻璃粉、步骤S3中的增粘组分A、步骤S4中的增粘组分B与30mL无水乙醇一起置于350r/min下,球磨12h后,加入3g大豆卵磷脂,再于350r/min下,球磨2h,制备得到SiC浆;
S6.采用丝网印刷方法将步骤S5中的SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于100℃下真空干燥2h,制备得到SiC涂覆石英光纤;
S7.对步骤S6中制作的SiC涂层的性能进行测试,结果为:SiC涂层的附着力为1级,涂层表面呈均匀致密状态,且制备过程中的反应温度仅为120℃,显著低于石英玻璃的使用温度1000-1050℃。
实施例三:
碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,包括以下步骤:
S1.取80g平均粒径≤50um的SiC粉,备用;
S2.取3g平均粒径≤100nm的B2O3、5g平均粒径≤100nm的SiO2、2g平均粒径≤100nm的MgO,配制成玻璃粉;
S3.取6mL水性环氧树脂与3g黏度为30的聚乙烯醇一起溶解在25mL的去离子水中,配制得到增粘组分A;
S4.将2g松香与4mL丙烯酸乙酯一起溶解在10mL无水乙醇中,配制得到增粘组分B;
S5.将步骤S1中的SiC粉、步骤S2中的玻璃粉、步骤S3中的增粘组分A、步骤S4中的增粘组分B与30mL无水乙醇一起置于260r/min下,球磨20h后,加入4g大豆卵磷脂,再于260r/min下,球磨3h,制备得到SiC浆;
S6.采用丝网印刷方法将步骤S5中的SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于150℃下真空干燥2h,制备得到SiC涂覆石英光纤;
S7.对步骤S6中制作的SiC涂层的性能进行测试,结果为:SiC涂层的附着力为1级,涂层表面呈均匀致密状态,且制备过程中的反应温度仅为150℃,显著低于石英玻璃的使用温度1000-1050℃。
Claims (5)
1.一种碳化硅涂覆石英光纤的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.取60-70质量份的SiC粉,备用;
S2.配制含有B2O3与SiO2的玻璃粉;
S3.以水性环氧树脂和聚乙烯醇为原料,配制得到增粘组分A;
S4.以松香和丙烯酸乙酯为原料,配制得到增粘组分B;
S5.将步骤S1中的SiC粉、步骤S2中的玻璃粉、步骤S3中的增粘组分A、步骤S4中的增粘组分B一起置于260-350r/min下,球磨12-20h后,制备得到SiC浆;
S6.采用丝网印刷方法将步骤S5中的SiC浆涂覆在石英光纤皮层的外表面上,于120-150℃下真空干燥,制备得到SiC涂覆石英光纤。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,SiC粉的平均粒径≤50um。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S2中,玻璃粉的平均粒径≤100nm。
4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S5中,球磨12-20h后,加入大豆卵磷脂分散剂。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S5中,加入大豆卵磷脂分散剂后,再于260-350r/min下,球磨2h。
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