CN109212845B - 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法 - Google Patents

显示基板、显示装置及显示基板的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109212845B
CN109212845B CN201811252153.XA CN201811252153A CN109212845B CN 109212845 B CN109212845 B CN 109212845B CN 201811252153 A CN201811252153 A CN 201811252153A CN 109212845 B CN109212845 B CN 109212845B
Authority
CN
China
Prior art keywords
common electrode
display substrate
layer
display
display area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811252153.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN109212845A (zh
Inventor
刘幸一
周纪登
张然
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201811252153.XA priority Critical patent/CN109212845B/zh
Publication of CN109212845A publication Critical patent/CN109212845A/zh
Priority to PCT/CN2019/105054 priority patent/WO2020082922A1/zh
Priority to US16/639,995 priority patent/US11281056B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN109212845B publication Critical patent/CN109212845B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本公开涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。显示基板包括：显示区域和非显示区域；其中，所述非显示区域包括公共电极层、公共电极线和多个条形过孔，所述多个条形过孔沿远离所述显示区域的方向延伸，并连接所述公共电极层和所述公共电极线。本公开能够改善显示基板周边配向液的扩散状态。

Description

显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
技术领域
本公开涉及显示领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。
背景技术
在小尺寸的液晶显示产品中，主要采用涂布机以涂布配向液的方式形成配向膜层。考虑到这种涂布方式的效率较低，相关技术为了增加产能，采用喷涂机以喷涂方式代替涂布方式。
发明内容
发明人经研究发现，在相关技术中，当对较小尺寸的显示基板进行配向液的喷涂时，显示基板的显示区域周边部位存在配向液扩散不均的现象，导致mura。
有鉴于此，本公开实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，能够改善显示基板周边配向液的扩散状态。
在本公开的一个方面，提供一种显示基板，包括：
显示区域；和
非显示区域；
其中，所述非显示区域包括公共电极层、公共电极线和多个条形过孔，所述多个条形过孔沿远离所述显示区域的方向延伸，并连接所述公共电极层和所述公共电极线。
在一些实施例中，所述多个条形过孔相互平行且间距相同。
在一些实施例中，所述间距为30～150μm。
在一些实施例中，所述条形过孔靠近所述显示区域一侧的端部呈锥形或流线型。
在一些实施例中，所述公共电极线与所述显示基板的栅极金属层或源漏金属层同层设置。
在一些实施例中，所述非显示区域还包括数据信号线，所述条形过孔与所述数据信号线平行且间隔排列。
在一些实施例中，所述显示区域包括配向膜层，所述配向膜层覆盖所述显示区域。
在一些实施例中，所述条形过孔的长度为90～450μm。
在本公开的另一个方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：
提供包括显示区域和非显示区域的显示基板，所述非显示区域包括公共电极层、公共电极线和多个条形过孔，所述多个条形过孔沿远离所述显示区域的方向延伸，并连接所述公共电极层和所述公共电极线；
在所述显示区域喷涂配向液，形成配向膜层；
其中，喷涂在所述显示区域上的所述配向液流向所述公共电极层，并经由所述多个条形过孔向所述公共电极层远离所述显示区域的一侧流动。
在本公开的另一个方面，提供一种显示装置，包括前述的显示基板。
因此，根据本公开实施例，在公共电极区域设置多个条形过孔，可以有效地引导配向液流动，以促进显示基板的显示区域周边的配向液的扩散，从而减少或避免mura。
附图说明
构成说明书的一部分的附图描述了本公开的实施例，并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。
参照附图，根据下面的详细描述，可以更加清楚地理解本公开，其中：
图1是根据本公开显示基板的一些实施例的结构示意图；
图2是根据本公开显示基板的一些实施例在形成配向膜层时的配向液流动示意图；
图3是根据本公开显示基板的另一些实施例的非显示区域的结构示意图；
图4是根据本公开显示基板的一些实施例的截面结构示意图；
图5是根据本公开显示基板的再一些实施例在形成配向膜层时的配向液流动示意图；
图6是根据本公开显示基板的一些实施例的尺寸参数的示意图；
图7是根据本公开显示基板的制备方法的一些实施例的流程示意图。
应当明白，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。此外，相同或类似的参考标号表示相同或类似的构件。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。对示例性实施例的描述仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。本公开可以以许多不同的形式实现，不限于这里所述的实施例。提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。
本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
在本公开中，当描述到特定器件位于第一器件和第二器件之间时，在该特定器件与第一器件或第二器件之间可以存在居间器件，也可以不存在居间器件。当描述到特定器件连接其它器件时，该特定器件可以与所述其它器件直接连接而不具有居间器件，也可以不与所述其它器件直接连接而具有居间器件。
本公开使用的所有术语(包括技术术语或者科学术语)与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
发明人经研究发现，在有些相关技术中，当对较小尺寸的显示基板进行配向液的喷涂时，显示基板的显示区域所临接的公共电极区域设置的多个圆孔或方形过孔会阻碍配向液向外扩散，而未扩散的配向液向显示区域回流就会造成显示区域具有更大的边缘厚度，从而导致mura。这里的mura是指显示亮度不均匀而造成痕迹的现象。
有鉴于此，本公开实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，能够改善显示基板周边配向液的扩散状态。
图1是根据本公开显示基板的一些实施例的结构示意图。
参考图1，在一些实施例中，显示基板50包括显示区域10和非显示区域20。显示区域10是指实现图像显示的区域，其包括多个显示像素。非显示区域包括公共电极层、公共电极线和多个条形过孔40。公共电极层与公共电极线之间通过多个条形过孔40连接。
在图1中，多个条形过孔40沿远离显示区域10的方向延伸，能够引导配向液向远离显示区域10的方向流动。相比于相关技术中的圆形或方形过孔，条形过孔40能够形成连续的引流通道，不仅能够消除对配向液流动的阻碍，还能够引导配向液更快地从显示区域10向远离显示区域10的一侧扩散。这样就有效地促进了显示基板周边的配向液的扩散，尽量避免非显示区域20的配向液向显示区域10的边缘回流，从而使得固化后的配向膜层厚度更加均匀，从而减少或消除了mura。
参考图1，在一些实施例中，为了促进配向液的流动，可将条形过孔40设置为直条形过孔，即过孔的两侧边线均为直线，且相互平行，整个条形过孔可形成图1所示的矩形或类似矩形。在另一些实施例中，条形过孔40也可以为两侧边线为波浪形或折线形的过孔形式。
为了使配向液的扩散更加均匀，避免扩散不均导致的mura，在一些实施例中可将多个条形过孔40设置成相互平行且间距相同。在图1中，多个相互平行的条形过孔40的排列方向可与显示区域10临近非显示区域20一侧的边缘线60平行，以便对显示区域10临近各个条形过孔40的位置的配向液进行比较同步地引导。
在图1，条形过孔40靠近所述显示区域10一侧的端部可与边缘线60设有一定的距离，以免条形过孔40的公共电极信号与显示区域10中的像素信号短路。进一步的，可将条形过孔40靠近所述显示区域10一侧的端部设置到尽量靠近显示区域10的边缘线60，且不进入显示区域10。
图2是根据本公开显示基板的一些实施例在形成配向膜层时的配向液流动示意图。
参考图2，配向液31在被喷涂到显示区域10后，会向非显示区域20一侧流动。当配向液31流动到条形过孔40时，条形过孔40可引导并加速配向液31的流动。在图2中，相比于未设置条形过孔40的部位，从显示区域10向非显示区域20流动的配向液31在条形过孔40内的流动更快，其流动位置32更加远离显示区域10。可见，条形过孔40不但不会对配向液31的扩散造成阻碍，还能够引导配向液31快速向外流动。
图3是根据本公开显示基板的另一些实施例的非显示区域的结构示意图。
参见图3，在一些实施例中，为了使喷涂到显示区域10的配向液更顺畅地进入条形过孔40，可将条形过孔40靠近所述显示区域10一侧的端部设置成锥形。在另一些实施例中，还可将条形过孔40靠近所述显示区域10一侧的端部设置成流线型，以利用流线型对配向液的良好引导作用来加速配向液的扩散速度。
图4是根据本公开显示基板的一些实施例的截面结构示意图。
参考图4，在一些实施例中，显示基板包括薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)基板。TFT-LCD基板包括从上到下设置的公共电极层51(例如Common electrode Indium Tin Oxides，简称Com ITO)、钝化层52(Passivation，简称PVX)、栅极绝缘层53(Gate Insulator，简称GI)、公共电极线54和衬底55。公共电极线54可以与所述显示基板的栅极金属层同层设置。在另一些实施例中，公共电极线也可以与源漏金属层同层设置。
在一些实施例中，显示基板包括配向膜层，在形成配向膜层时，可采用喷涂方式来形成配向膜层。具体来说，当通过喷头向显示区域10喷射配向液时，显示区域10的部分配向液会流向非显示区域20，并在条形过孔40的引导下向外流动。
图5是根据本公开显示基板的再一些实施例在形成配向膜层时的配向液流动示意图。
参考图5，在一些实施例中，TFT-LCD基板还包括位于非显示区域20的数据信号线70。每个数据信号线70可对应显示区域10中的一列像素单元。当显示区域10的部分配向液31流向公共电极区域20时，除了条形过孔40之外，数据信号线也能够引导配向液31流动。图5中的条形过孔40可配置成与数据信号线70平行且间隔排列的形式，以获得更好的引流效果。
在图5中，相比于未设置条形过孔40和数据信号线70的部位，从显示区域10向公共电极区域20流动的配向液31在条形过孔40内的流动位置32和在数据信号线70上的流动位置33都更加远离显示区域10，从而有效地引导配向液31快速向外溢流。在另一些实施例中，在相邻的两列显示像素所分别对应的数据金属线70之间可以设置两个以上条形过孔40。
图6是根据本公开显示基板的一些实施例的尺寸参数的示意图。
参考图6，在一些实施例中，多个条形过孔40之间的间距D可根据显示区域10中像素单元的宽度和长度确定，例如间距取为30～150μm。条形过孔40的长度L取决于非显示区域20内公共电极层的覆盖范围，例如长度取为90～450μm。条形过孔的宽度可选为3-8μm。
上述显示基板的各实施例可适用于各种显示装置，即本公开提供了包括前述显示基板的实施例的显示装置。
图7是根据本公开显示基板的制备方法的一些实施例的流程示意图。
参考图7，在一些实施例中，显示基板的制备方法可包括步骤100-200。结合图1-图6，在步骤100中，提供包括显示区域10和非显示区域20的显示基板，非显示区域包括公共电极层51、公共电极线54和多个条形过孔40，多个条形过孔40沿远离所述显示区域10的方向延伸，并连接所述公共电极层51和所述公共电极线54。
参考图4，在公共电极线54所在层形成栅极绝缘层53和钝化层52之后，在栅极绝缘层53和钝化层52蚀刻条形开口，以露出公共电极线54。在钝化层52上进一步形成公共电极层51，在条形开口的侧壁和底面可沉积金属层，以形成连接公共电极线54和公共电极层51的条形过孔40。形成条形过孔40的金属层也可以与公共电极层51的材料相同且同时形成。
在步骤200中，在所述显示区域10喷涂配向液31，形成配向膜层。在步骤200中喷涂配向液31时，喷涂在所述显示区域10上的所述配向液31流向所述非显示区域20，并经由所述多个条形过孔40向所述公共电极区域20远离所述显示区域10的一侧流动。这样就使得配向液31能够在公共电极区域20实现快速的扩散，尽量避免公共电极区域20的配向液向显示区域10边缘回流，使得固化后的配向膜层厚度更加均匀，从而减少或消除了mura。
至此，已经详细描述了本公开的各实施例。为了避免遮蔽本公开的构思，没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述，完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。
虽然已经通过示例对本公开的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本公开的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本公开的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改或者对部分技术特征进行等同替换。本公开的范围由所附权利要求来限定。

Claims (9)

1.一种TFT-LCD显示基板，包括：
显示区域；和
非显示区域；
其中，所述非显示区域包括公共电极层、公共电极线、数据信号线和多个条形过孔，所述TFT-LCD显示基板包括从上到下设置的所述公共电极层、钝化层、栅极绝缘层、所述公共电极线和衬底，所述多个条形过孔沿远离所述显示区域的方向延伸，并穿过所述钝化层和所述栅极绝缘层连接所述公共电极层和所述公共电极线，所述条形过孔与所述数据信号线平行且间隔排列。
2.根据权利要求1所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述多个条形过孔相互平行且间距相同。
3.根据权利要求2所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述间距为30～150μm。
4.根据权利要求1所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述条形过孔靠近所述显示区域一侧的端部呈锥形或流线型。
5.根据权利要求1所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述公共电极线与所述显示基板的栅极金属层或源漏金属层同层设置。
6.根据权利要求1所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述显示区域包括配向膜层，所述配向膜层覆盖所述显示区域。
7.根据权利要求1所述的TFT-LCD显示基板，其中，所述条形过孔的长度为90～450μm。
8.一种TFT-LCD显示基板的制备方法，包括：
提供包括显示区域和非显示区域的显示基板，所述非显示区域包括公共电极层、公共电极线、数据信号线和多个条形过孔，所述TFT-LCD显示基板包括从上到下设置的所述公共电极层、钝化层、栅极绝缘层、所述公共电极线和衬底，所述多个条形过孔沿远离所述显示区域的方向延伸，并穿过所述钝化层和所述栅极绝缘层连接所述公共电极层和所述公共电极线，所述条形过孔与所述数据信号线平行且间隔排列；
在所述显示区域喷涂配向液，形成配向膜层；
其中，喷涂在所述显示区域上的所述配向液流向所述公共电极层，并经由所述多个条形过孔向所述公共电极层远离所述显示区域的一侧扩散。
9.一种显示装置，包括：
根据权利要求1～7任一所述的TFT-LCD显示基板。
CN201811252153.XA 2018-10-25 2018-10-25 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法 Active CN109212845B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811252153.XA CN109212845B (zh) 2018-10-25 2018-10-25 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
PCT/CN2019/105054 WO2020082922A1 (zh) 2018-10-25 2019-09-10 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
US16/639,995 US11281056B2 (en) 2018-10-25 2019-09-10 Display substrate, display device and method for manufacturing display substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811252153.XA CN109212845B (zh) 2018-10-25 2018-10-25 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109212845A CN109212845A (zh) 2019-01-15
CN109212845B true CN109212845B (zh) 2021-09-17

Family

ID=64996780

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811252153.XA Active CN109212845B (zh) 2018-10-25 2018-10-25 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11281056B2 (zh)
CN (1) CN109212845B (zh)
WO (1) WO2020082922A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109212845B (zh) * 2018-10-25 2021-09-17 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
CN111240101B (zh) * 2020-03-13 2021-07-23 Tcl华星光电技术有限公司 配向基板及其制作方法
CN111983836A (zh) * 2020-08-17 2020-11-24 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板及液晶显示面板
US11360359B2 (en) 2020-08-17 2022-06-14 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Array substrate and liquid crystal display panel
CN112017531B (zh) * 2020-09-14 2022-07-29 武汉华星光电技术有限公司 显示面板
CN112259561A (zh) * 2020-10-28 2021-01-22 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板及显示面板
CN112558343B (zh) * 2020-12-15 2022-07-12 武汉华星光电技术有限公司 一种阵列基板及显示面板
CN114994989B (zh) * 2022-05-25 2023-10-27 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及显示装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102939560A (zh) * 2010-06-10 2013-02-20 夏普株式会社 液晶显示装置及其制造方法
KR20130048059A (ko) * 2011-11-01 2013-05-09 엘지디스플레이 주식회사 액정 디스플레이 장치와 이의 제조방법
CN103969858A (zh) * 2013-01-30 2014-08-06 肯特显示器公司 具有内部突出物的电子显示器
KR20140116336A (ko) * 2013-03-22 2014-10-02 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN106444187A (zh) * 2016-08-22 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及显示装置
CN106556946A (zh) * 2017-01-11 2017-04-05 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置
CN107884994A (zh) * 2017-11-29 2018-04-06 武汉天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101369077B (zh) 2007-08-17 2010-06-09 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示器阵列基板及其制造方法
CN103760728B (zh) * 2014-01-29 2016-08-17 北京京东方显示技术有限公司 一种阵列基板及其显示装置
CN103969859B (zh) * 2014-04-22 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种显示用基板及显示装置
CN104777650B (zh) * 2015-04-22 2018-10-30 京东方科技集团股份有限公司 Tft阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置
CN105655360B (zh) 2016-04-07 2020-02-07 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN106293212B (zh) * 2016-08-02 2023-12-12 厦门天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板及其驱动方法、显示装置
CN106842684B (zh) * 2017-03-08 2019-09-17 深圳市华星光电技术有限公司 Coa型阵列基板
CN107085324B (zh) * 2017-06-09 2020-06-05 厦门天马微电子有限公司 基板及包含其的液晶显示面板
CN107422552B (zh) * 2017-08-16 2020-03-27 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置
CN107479235B (zh) * 2017-08-29 2020-09-29 上海天马微电子有限公司 显示基板、显示面板和显示装置
CN108227323B (zh) 2017-12-29 2021-05-11 Tcl华星光电技术有限公司 Coa基板以及用于制作coa基板的树脂层中的过孔的光罩
CN109212845B (zh) 2018-10-25 2021-09-17 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102939560A (zh) * 2010-06-10 2013-02-20 夏普株式会社 液晶显示装置及其制造方法
KR20130048059A (ko) * 2011-11-01 2013-05-09 엘지디스플레이 주식회사 액정 디스플레이 장치와 이의 제조방법
CN103969858A (zh) * 2013-01-30 2014-08-06 肯特显示器公司 具有内部突出物的电子显示器
KR20140116336A (ko) * 2013-03-22 2014-10-02 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN106444187A (zh) * 2016-08-22 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及显示装置
CN106556946A (zh) * 2017-01-11 2017-04-05 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置
CN107884994A (zh) * 2017-11-29 2018-04-06 武汉天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US11281056B2 (en) 2022-03-22
WO2020082922A1 (zh) 2020-04-30
US20210018801A1 (en) 2021-01-21
CN109212845A (zh) 2019-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109212845B (zh) 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
US10818693B2 (en) Array substrate including metal wiring and inorganic layer both with bending performance enhancement structures
US8031320B2 (en) LCD panel and array substrate thereof
US10082701B2 (en) Liquid crystal display panel and manufacturing method therefor, and display device
US20080055532A1 (en) Liquid crystal display panel and fabricating method thereof
US9990904B2 (en) Pixel array suitable for slim border designs
US20170336666A1 (en) Display device
KR20210064430A (ko) 어레이 기판, 어레이 기판의 제조 방법, 표시 패널 및 표시 장치
CN104483793A (zh) Tft-lcd像素结构及其制作方法
US20180301467A1 (en) Array substrate and display device
CN104932152A (zh) 液晶显示面板及液晶显示面板的制造方法
US20180157071A1 (en) Liquid crystal display panel
US11194186B2 (en) Display panel and display device comprising at least one restriction region formed by a conductive wiring pattern that restricts displacement between a first substrate and a second substrate
US20160254284A1 (en) Array substrate, method of preparing the same, and display device
US20170287948A1 (en) Display substrate, manufacturing method therefor and display device
US10497722B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
KR20080062826A (ko) 액정 표시 장치
US20220199649A1 (en) Array substrate and display panel
KR20160130044A (ko) 박막 트랜지스터 기판
US20160190157A1 (en) Pixel structure and manufacturing method thereof
US11940699B2 (en) Array substrate and liquid crystal display panel
US9823515B2 (en) Substrate and an array substrate
WO2020093474A1 (zh) 显示面板和显示装置
TWI643009B (zh) 畫素結構以及包含此畫素結構的顯示面板
US20210327905A1 (en) Display panel, manufacture method and display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant