CN108963111B - 柔性显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

柔性显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN108963111B
CN108963111B CN201810415428.0A CN201810415428A CN108963111B CN 108963111 B CN108963111 B CN 108963111B CN 201810415428 A CN201810415428 A CN 201810415428A CN 108963111 B CN108963111 B CN 108963111B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photoresist layer
layer
display panel
flexible display
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810415428.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108963111A (zh
Inventor
张凯旋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yungu Guan Technology Co Ltd
Original Assignee
Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yungu Guan Technology Co Ltd filed Critical Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority to CN201810415428.0A priority Critical patent/CN108963111B/zh
Publication of CN108963111A publication Critical patent/CN108963111A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108963111B publication Critical patent/CN108963111B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/80Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass using temporary substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供一种柔性显示面板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够利用利用现有的设备进行基板的剥离,成本较低。该柔性显示面板的制作方法包括:在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层;在光刻胶层远离第一光阻隔层的一侧形成柔性基底、阵列层、发光器件层和封装层;去除所述第一光阻隔层;所述去除所述第一光阻隔层之后,还包括:对所述光刻胶层进行曝光;将包括曝光之后的所述光刻胶层的所述柔性显示面板置于显影液中,通过光刻胶层中的光敏剂使所述光刻胶层被分解,以使所述柔性基底和所述刚性透明基底被分离。

Description

柔性显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
柔性有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板由于其可弯曲的特性具有更广阔的应用场景,但是由于目前的工艺限制,无法直接在柔性基底上制作显示面板。目前,柔性显示面板的制作过程通常为在玻璃基板上制作包括柔性基底、阵列层、发光器件层和封装层的柔性显示面板,最后通过剥离工艺将柔性显示面板与刚性的玻璃基底分离,从而实现柔性显示面板制作。其中,剥离工艺的效率对于产品性能和产量的影响较大。
目前的剥离工艺通常是通过激光照射使柔性基底和玻璃之间的粘附力降低,从而实现剥离,但是,这对于激光的能量密度、能量分布以及玻璃表面洁净度具有较高要求,因此,对于工艺设备的成本要求较高。
发明内容
本发明提供一种柔性显示面板及其制作方法、显示装置,能够利用利用现有的设备进行基板的剥离,成本较低。
一方面,本发明提供了一种柔性显示面板的制作方法,包括:
在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层;
在所述光刻胶层远离所述第一光阻隔层的一侧形成柔性基底;
在所述柔性基底远离所述光刻胶层的一侧形成阵列层;
在所述阵列层远离所述柔性基底的一侧形成发光器件层;
在所述发光器件层远离所述阵列层的一侧形成封装层;
所述在所述发光器件层远离所述阵列层的一侧形成封装层之后,还包括:去除所述第一光阻隔层;
所述去除所述第一光阻隔层之后,还包括:对所述光刻胶层进行曝光;
将包括曝光之后的所述光刻胶层的所述柔性显示面板置于显影液中,通过光刻胶层中的光敏剂使所述光刻胶层被分解,以使所述柔性基底和所述刚性透明基底被分离。
可选地,所述在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层的过程包括:
在所述刚性透明基底的一侧形成所述光刻胶层,在所述刚性透明基底远离所述光刻胶层的一侧形成所述第一光阻隔层,在所述光刻胶层远离所述刚性透明基底的一侧形成第二光阻隔层;
所述在所述光刻胶层远离所述第一光阻隔层的一侧形成柔性基底的过程包括:
在所述第二光阻隔层远离所述光刻胶层的一侧形成所述柔性基底。
可选地,所述对所述光刻胶层进行曝光之前,所述去除所述第一光阻隔层之后,还包括:
对所述刚性透明基底远离所述光刻胶层的一侧进行清洗。
可选地,所述将包括曝光之后的所述光刻胶层的所述柔性显示面板置于显影液中的过程包括:
向置于所述显影液中的所述柔性显示面板发射超声波。
可选地,所述刚性透明基底为玻璃。
可选地,所述第一光阻隔层具有对所述光刻胶层进行曝光的光线的吸收或反射特性。
可选地,所述第二光阻隔层具有对所述光刻胶层进行曝光的光线的吸收或反射特性。
另一方面,本发明还提供一种柔性显示面板,由上述的柔性显示面板的制作方法制作而成。
另一方面,本发明还提供一种显示装置,包括上述的柔性显示面板。
本发明的柔性显示面板及其制作方法、显示装置,先在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层,然后在光刻胶层远离第一光阻隔层的一侧制作柔性显示面板,之后去除第一光阻隔层,然后对光刻胶层进行曝光和显影工艺,以使光刻胶层在显影液中被分解,从而使柔性基底和刚性透明基底被分离,其中的曝光和显影工艺同样应用于柔性显示面板的其他膜层制作过程中,因此无需针对基板的剥离过程使用单独的设备,利用现有的黄光设备即可实现基板的剥离,成本较低。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中一种柔性显示面板的制作方法的流程示意图;
图2为图1中部分步骤对应的一种结构示意图;
图3为图1中部分步骤对应的另一种结构示意图;
图4为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。
如图1和图2所示,图1为本发明实施例中一种柔性显示面板的制作方法的流程示意图,图2为图1中部分步骤对应的一种结构示意图,本发明实施例提供了一种柔性显示面板的制作方法,包括:
步骤101、在刚性透明基底1的相对两侧分别形成光刻胶层2和第一光阻隔层31;
其中,对于光刻胶层2和第一光阻隔层31的形成顺序不作限定,可以先在刚性透明基底1的一侧形成光刻胶层2,然后在刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧形成第一光阻隔层31,也可以先在刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧形成第一光阻隔层31,然后在刚性透明基底1的一侧形成光刻胶层2。
步骤102、在光刻胶层2远离第一光阻隔层31的一侧形成柔性基底4;
步骤103、在柔性基底4远离光刻胶层2的一侧形成阵列层5;
其中,阵列层5中设置有薄膜晶体管等用于实现发光控制的器件。
步骤104、在阵列层5远离柔性基底4的一侧形成发光器件层6;
其中,发光器件层6中设置有有机发光器件,用于实现发光显示功能。
步骤105、在发光器件层6远离阵列层5的一侧形成封装层7;
其中,封装层7用于实现对柔性显示面板的封装,避免水汽等对显示面板中器件的不良影响。由于步骤101中在刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧设置了第一光阻隔层31,因此在步骤102至步骤105的制作柔性显示面板的过程中,环境光线会被第一光阻隔层31所阻隔,因此不会对刚性透明基底1远离第一光阻隔层31一侧的光刻胶层2造成影响,保证了在柔性显示面板的制作过程中,柔性显示面板和刚性透明基底1之间的固定连接。
步骤105、在发光器件层6远离阵列层5的一侧形成封装层7之后,还包括:步骤106、去除第一光阻隔层31;
步骤107、去除第一光阻隔层31之后,还包括:步骤108、对光刻胶层2进行曝光;
其中,由于去除了第一光阻隔层31,因此,可以直接从柔性显示面板的下方向上的方向进行光线照射实现对光刻胶层2的曝光。
步骤108、将包括曝光之后的光刻胶层2的柔性显示面板置于显影液中,通过光刻胶层2中的光敏剂使光刻胶层2被分解,以使柔性基底4和刚性透明基底1被分离。
其中,由于在步骤108中的曝光工艺中使光刻胶层2中的光敏剂被分解,因此,当光刻胶层2置于显影液中时,被分解后的光敏剂使得光刻胶层2在显影液中被分解,从而使柔性基底4和刚性透明基底1被分离,以形成包括柔性基底4、阵列层5、发光器件层6和封装层7的柔性显示面板。
本发明实施例中柔性显示面板的制作方法,先在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层,然后在光刻胶层远离第一光阻隔层的一侧制作柔性显示面板,之后去除第一光阻隔层,然后对光刻胶层进行曝光和显影工艺,以使光刻胶层在显影液中被分解,从而使柔性基底和刚性透明基底被分离,其中的曝光和显影工艺同样应用于柔性显示面板的其他膜层制作过程中,因此无需针对基板的剥离过程使用单独的设备,利用现有的黄光设备即可实现基板的剥离,成本较低。
可选地,如图3所示,图3为图1中部分步骤对应的另一种结构示意图,上述步骤101、在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层的过程包括:
在刚性透明基底1的一侧形成光刻胶层2,在刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧形成第一光阻隔层31,在光刻胶层2远离刚性透明基底1的一侧形成第二光阻隔层32;
上述步骤102、在光刻胶层2远离第一光阻隔层31的一侧形成柔性基底4的过程包括:
在第二光阻隔层32远离光刻胶层2的一侧形成柔性基底4。
具体地,在步骤107中对光刻胶层2进行曝光时,需要光线从下方向光刻胶层2进行照射,而刚性透明基底1能够透光,因此会导致光线照射进已经制作好的柔性显示面板中,可能会对柔性显示面板中的器件造成不良影响。本发明实施例中,在光刻胶层2和柔性显示面板的其他膜层之间设置第二光阻隔层31,一方面,可以防止在对基板进行剥离时的曝光工艺中光线对于柔性显示面板中器件的不良影响,另一方面,可以防止在柔性显示面板的制作过程中,来自于上侧的环境光对于光刻胶层2的不良影响。其他步骤与上述实施例相同,在此不再赘述,最终形成的柔性显示面板包括依次层叠设置的第二光阻隔层32、柔性基底4、阵列层5、发光器件层6和封装层7的柔性显示面板,其中保留的第二光阻隔层32不会对柔性显示面板造成不良影响,当然,也可以在上述步骤108,使柔性基底4和刚性透明基底1分离后,去除第二光阻隔层32。
可选地,在上述步骤108、对光刻胶层2进行曝光之前,在上述步骤107、去除第一光阻隔层31之后,还包括:对刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧进行清洗。以保证刚性透明基底1远离光刻胶层2的一侧表面没有残留第一光阻隔层材料,保证后续步骤108中对光刻胶层2的充分曝光,以进一步提高基板的剥离效果。
可选地,上述步骤108、将包括曝光之后的光刻胶层2的柔性显示面板置于显影液中的过程包括:向置于显影液中的柔性显示面板发射超声波。
具体地,超声波加快光刻胶层2中分子的溶解速度,从而实现更好的基板剥离效果。
可选地,上述刚性透明基底1可以为玻璃。
可选地,第一光阻隔层31具有对光刻胶层2进行曝光的光线的吸收或反射特性。这样,可以更好地阻隔环境光中能够使光刻胶层2曝光的对应波长的光线。
可选地,第二光阻隔层32具有对光刻胶层2进行曝光的光线的吸收或反射特性。这样,可以更好地阻隔对光刻胶层2进行曝光的光线,以避免相应的光线进入柔性显示面板中对显示面板中的器件造成不良影响。
本发明实施例还提供一种柔性显示面板,由上述柔性显示面板的制作方法制作而成。
本发明实施例中的柔性显示面板,先在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层,然后在光刻胶层远离第一光阻隔层的一侧制作柔性显示面板,之后去除第一光阻隔层,然后对光刻胶层进行曝光和显影工艺,以使光刻胶层在显影液中被分解,从而使柔性基底和刚性透明基底被分离,其中的曝光和显影工艺同样应用于柔性显示面板的其他膜层制作过程中,因此无需针对基板的剥离过程使用单独的设备,利用现有的黄光设备即可实现基板的剥离,成本较低。
如图4所示,图4为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图,本发明实施例还提供一种显示装置,包括上述的柔性显示面板100。
其中,显示装置可以是例如触摸显示屏、手机、平板计算机、笔记本电脑或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
本发明实施例中的显示装置,先在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层,然后在光刻胶层远离第一光阻隔层的一侧制作柔性显示面板,之后去除第一光阻隔层,然后对光刻胶层进行曝光和显影工艺,以使光刻胶层在显影液中被分解,从而使柔性基底和刚性透明基底被分离,其中的曝光和显影工艺同样应用于柔性显示面板的其他膜层制作过程中,因此无需针对基板的剥离过程使用单独的设备,利用现有的黄光设备即可实现基板的剥离,成本较低。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明保护的范围之内。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种柔性显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层;
在所述光刻胶层远离所述第一光阻隔层的一侧形成柔性基底;
在所述柔性基底远离所述光刻胶层的一侧形成阵列层;
在所述阵列层远离所述柔性基底的一侧形成发光器件层;
在所述发光器件层远离所述阵列层的一侧形成封装层;
所述在所述发光器件层远离所述阵列层的一侧形成封装层之后,还包括:去除所述第一光阻隔层;
所述去除所述第一光阻隔层之后,还包括:对所述光刻胶层进行曝光;
将包括曝光之后的所述光刻胶层的所述柔性显示面板置于显影液中,通过光刻胶层中的光敏剂使所述光刻胶层被分解,以使所述柔性基底和所述刚性透明基底被分离;
所述在刚性透明基底的相对两侧分别形成光刻胶层和第一光阻隔层的过程包括:
在所述刚性透明基底的一侧形成所述光刻胶层,在所述刚性透明基底远离所述光刻胶层的一侧形成所述第一光阻隔层,在所述光刻胶层远离所述刚性透明基底的一侧形成第二光阻隔层;
所述在所述光刻胶层远离所述第一光阻隔层的一侧形成柔性基底的过程包括:
在所述第二光阻隔层远离所述光刻胶层的一侧形成所述柔性基底。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,
所述对所述光刻胶层进行曝光之前,所述去除所述第一光阻隔层之后,还包括:
对所述刚性透明基底远离所述光刻胶层的一侧进行清洗。
3.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,
所述将包括曝光之后的所述光刻胶层的所述柔性显示面板置于显影液中的过程包括:
向置于所述显影液中的所述柔性显示面板发射超声波。
4.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,
所述刚性透明基底为玻璃。
5.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,
所述第一光阻隔层具有对所述光刻胶层进行曝光的光线的吸收或反射特性。
6.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法,其特征在于,
所述第二光阻隔层具有对所述光刻胶层进行曝光的光线的吸收或反射特性。
7.一种柔性显示面板,其特征在于,由权利要求1至6中任意一项所述的柔性显示面板的制作方法制作而成。
8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求7所述的柔性显示面板。
CN201810415428.0A 2018-05-03 2018-05-03 柔性显示面板及其制作方法、显示装置 Active CN108963111B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810415428.0A CN108963111B (zh) 2018-05-03 2018-05-03 柔性显示面板及其制作方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810415428.0A CN108963111B (zh) 2018-05-03 2018-05-03 柔性显示面板及其制作方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108963111A CN108963111A (zh) 2018-12-07
CN108963111B true CN108963111B (zh) 2020-07-28

Family

ID=64499526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810415428.0A Active CN108963111B (zh) 2018-05-03 2018-05-03 柔性显示面板及其制作方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108963111B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109860437B (zh) * 2019-01-31 2021-12-03 京东方科技集团股份有限公司 柔性有机发光显示面板及其制作方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI492373B (zh) * 2012-08-09 2015-07-11 Au Optronics Corp 可撓式顯示模組的製作方法
CN106784311A (zh) * 2016-12-27 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 柔性面板及其制作方法
CN107482022A (zh) * 2017-08-25 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 柔性基板及其制造方法、柔性显示器件和柔性显示装置
CN107845741B (zh) * 2017-10-23 2019-05-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性基板剥离方法及柔性基板

Also Published As

Publication number Publication date
CN108963111A (zh) 2018-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102588708B1 (ko) 박리 방법, 표시 장치, 모듈, 및 전자 기기
JP6882061B2 (ja) 表示装置
US10923681B2 (en) Packaging method of OLED display device using sacrificial layer in bonding region
TWI320946B (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
CN109461839B (zh) Oled显示基板及其制作方法、显示装置
US9626017B2 (en) Touch panel and manufacturing method thereof, display device
WO2015096394A1 (zh) 薄膜晶体管的制备方法、阵列基板的制备方法及阵列基板
JP2015156371A (ja) 積層基板、発光装置および発光装置の製造方法
US9897735B2 (en) Wire grid polarizer and fabrication method thereof, and display device
CN112071830B (zh) 基板和基板的制备方法
TW202028012A (zh) 剝除母保護膜的方法、製備有機發光顯示設備的方法、以及使用其製備之有機發光顯示設備
JP6261747B2 (ja) 薄膜トランジスタ配列基板の製造方法
KR20170019027A (ko) 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법
CN108269736B (zh) 通过光阻剥离实现电极层图案化的方法
US9543325B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, liquid crystal display panel and display device
EP2757589A2 (en) Methods for fabricating a thin film transistor and an array substrate
US20130207104A1 (en) Manufacturing method of thin film transistor and display device
CN108963111B (zh) 柔性显示面板及其制作方法、显示装置
US10216028B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, display panel, display device
CN105742186A (zh) 薄膜晶体管及制造方法、阵列基板及制造方法、显示装置
CN107731885A (zh) 柔性显示面板及制作方法
CN110783253B (zh) 一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置
WO2017049885A1 (zh) 阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置
JPWO2019116150A1 (ja) 半導体装置の作製方法
US9281326B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof and display panel

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant