CN108873428A - 一种柔性基板及其制备方法、彩膜基板、显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供了一种柔性基板的制备方法，包括：提供一硬质基底，在所述硬质基底表面形成薄膜层；对所述薄膜层表面处理，使所述薄膜层表面形成亲水区和疏水区，所述亲水区或所述疏水区包括预设的黑色矩阵图案；在所述薄膜层的整个表面涂布包括亲水性有机聚合物和疏水性有机聚合物的混合溶液，经恒温处理和烘烤处理后，在所述薄膜层表面形成一层包括透明区和黑色矩阵区的柔性基板层；剥离所述薄膜层和所述硬质基底，得到所述柔性基板。该制备方法工艺简单，节省了传统黑色矩阵的制备，大大缩短了工艺时间和工艺成本。本发明还提供了一种柔性基板、彩膜基板和显示面板。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种柔性基板及其制备方法、彩膜基板、显示面板。
背景技术
随着平板显示技术的发展，显示面板的性能要求越来越高。具有高分辨率、柔性轻薄、高亮度、高对比度、低功耗、高色域等优点的显示面板的已成发展的主要方向。特别地，柔性显示，因其具有视角大、可卷曲、便于携带等特点，受到消费者的青睐，成为业界便携产品研究的热点。然而由于现有工艺的限制，现有的显示面板很难制作得到柔性、高色域、功率低的显示面板，例如常用的液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)。
因此，有必要开发一种能有效改善器件柔性及轻薄的制备方法
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种柔性基板及其制备方法、彩膜基板、显示面板，所述柔性基板自带黑色矩阵，有效减少显示面板的层结构厚度，促使显示面板更加薄型化，提高柔性显示效果。
第一方面，本发明提供了一种柔性基板的制备方法，包括：
提供一硬质基底，在所述硬质基底表面形成薄膜层；
对所述薄膜层表面处理，使所述薄膜层表面形成亲水区和疏水区，所述亲水区或所述疏水区包括预设的黑色矩阵图案；
在所述薄膜层的整个表面涂布包括亲水性有机聚合物和疏水性有机聚合物的混合溶液，经25-50℃恒温处理，再经烘烤处理后，所述亲水性有机聚合物在所述亲水区成型，所述疏水性有机聚合物在所述疏水区成型，从而在所述薄膜层表面形成柔性基板层，所述柔性基板层包括透明区和黑色矩阵区；所述黑色矩阵区的所述亲水性有机聚合物或所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料；
剥离所述薄膜层和所述硬质基底，得到柔性基板。
可选地，当所述薄膜层表面具有亲水性时，所述表面处理的过程包括：
通过构图工艺在所述薄膜层上形成一光阻层；所述光阻层或所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理后，使所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域表面具有疏水性后，剥离所述光阻层。
可选地，当所述薄膜层表面具有疏水性时，所述表面处理的过程包括：
通过构图工艺在所述薄膜层上形成一光阻层；所述光阻层或所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理后，使所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域表面具有亲水性后，剥离所述光阻层。
可选地，所述恒温处理的时间为0.5-48h；所述烘烤处理的温度范围为180-230℃，所述烘烤处理的时间为0.3-4h。
可选地，所述在所述薄膜层表面形成柔性基板层之后，所述剥离所述薄膜层和所述硬质基底之前还包括：在所述柔性基板层上继续形成一透明薄膜层，所述透明薄膜层覆盖所述透明区和所述黑色矩阵区。
可选地，所述亲水性有机聚合物包括聚苯胺，所述疏水性有机聚合物包括哦聚丙烯酸单体。
本发明第一方面所述的柔性基板的制备方法，该制备方法通过自组装成膜的方法得到一种自带黑色矩阵的柔性基板，所述制备方法工艺简单，节省了传统黑色矩阵的制备，大大缩短了工艺时间和工艺成本；同时，制备得到的柔性基板将传统的基板和黑色矩阵融合在单独的层结构中，大大减少层结构厚度，有利于实现后续器件薄型化设计。
第二方面，本发明提供了一种柔性基板，包括透明区和黑色矩阵区，所述透明区与所述黑色矩阵区间隔设置，所述黑色矩阵区由材质为黑色阻光材料的亲水性有机聚合物或疏水性有机聚合物自组装形成。
可选地，所述柔性基板还包括一透明薄膜层，所述透明薄膜层覆盖所述透明区和所述黑色矩阵区。
本发明第二方面所述柔性基板，包括透明区和黑色矩阵区，将传统的基板和黑色矩阵融合在单独的层结构中，大大减少层结构厚度，有利于实现后续器件薄型化设计。由于，基板作为柔性器件的支撑和保护组件，本发明所述的柔性基板在满足支撑和保护组件功能外，还能够提供黑色矩阵的功能。
第三方面，本发明还提供了一种彩膜基板，包括本发明第一方面所述的制备方法制备得到的柔性基板或本发明第二方面所述的柔性基板，和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色区域的边缘相互交叠，所述边缘相互交叠的位置正投影在所述柔性基板的所述黑色矩阵区上。
第四方面，本发明还提供了一种显示面板，包括本发明第一方面所述的制备方法制备得到的柔性基板或本发明第二方面所述的柔性基板。所述显示面板包括液晶显示面板，OLED显示面板等。
本发明的优点将会在下面的说明书中部分阐明，一部分根据说明书是显而易见的，或者可以通过本发明实施例的实施而获知。
附图说明
图1为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的工艺流程图；
图2为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的S10步骤的结构示意图；
图3为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的S20步骤的结构示意图；
图4为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的S30步骤的部分结构示意图；
图5为本发明一实施例提供的柔性基板的结构示意图；
图6为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的S20步骤的一部分结构示意图；
图7为本发明一实施例提供的柔性基板的制备方法的S20步骤的另一部分结构示意图；
图8为本发明另一实施例提供的柔性基板的制备方法的S30步骤的另一部分结构示意图。
图9为本发明另一实施例提供的柔性基板的结构示意图；
图10为本发明另一实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图。
具体实施方式
以下所述是本发明实施例的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明实施例的保护范围。
本申请说明书、权利要求书和附图中出现的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、***、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。此外，术语“第一”、“第二”和“第三”等是用于区别不同的对象，而并非用于描述特定的顺序。
请参阅图1所示，本发明提供了一种柔性基板的制备方法，包括：
S10、提供一硬质基底10，在所述硬质基底10表面形成薄膜层20，参见图2；
S20、对所述薄膜层20表面处理，使所述薄膜层20表面形成亲水区201和疏水区202，所述亲水区201或所述疏水区202包括预设的黑色矩阵图案，参见图3；
S30、在所述薄膜层的整个表面涂布包括亲水性有机聚合物和疏水性有机聚合物的混合溶液，经25-50℃恒温处理，再经烘烤处理后，所述亲水性有机聚合物在所述亲水区成型，所述疏水性有机聚合物在所述疏水区成型，从而在所述薄膜层20表面形成柔性基板层40，所述柔性基板层40包括透明区401和黑色矩阵区402；所述黑色矩阵区402的所述亲水性有机聚合物或所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料，参见图4；
S40、剥离所述薄膜层20和所述硬质基底10，得到所述柔性基板40，参见图5。
具体地，S10中，参见图2，,所述硬质基底10的材质包括玻璃、无机硅、金属或其他硬质材料。所述硬质基底10也可以具有较高的光透过率性。所述薄膜层20的表面可以具有亲水性或疏水性。可选地，所述薄膜层20的材质包括聚四氟乙烯(PTFE)或聚对苯二甲酸乙二酯(PET)中的一种或多种。当采用亲水性材料或疏水性材料，通过涂布工艺或其他工艺在所述硬质基底10上可制备得到具有亲水性或疏水性的薄膜层20。所述其他工艺可以是磁控溅射、化学气相沉积或物理气相沉积等工艺。
具体地，S20中，如图3所示，通过对所述薄膜层20进行表面处理，所述薄膜层20表面形成亲水区201和疏水区202。图3中，所述亲水区201或疏水区202所对应的图案为示意图形形状，所述亲水区201或疏水区202可以但不限定于图3中所对应的图案。所述预设的黑色矩阵图案形状可以各种各样，所述图案可以根据实际需求进行预先设定，本实施方式不做过过多限定。
可选地，一并参见图6和图7，当所述薄膜层20表面具有亲水性时，所述表面处理的过程包括：
通过构图工艺在所述薄膜层20上形成一光阻层301；所述光阻层301或所述薄膜层20上未覆盖有所述光阻层301的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层20表面进行化学处理后，使所述薄膜层20上未覆盖有所述光阻层301的区域表面具有疏水性后，剥离所述光阻层301。所述构图工艺的过程包括：在所述薄膜层20表面涂布光阻材料30，经曝光、显影、刻蚀等操作图案化在所述薄膜层20表面上形成光阻层301。可选地，所述光阻材料包括有机光阻材料。具体地，所述光阻材料包括树脂、感光剂、溶剂。所述光阻材料还包括其他材料，本实施方式中不做过多限定。可选地，所述化学处理的过程包括氧等离子蚀刻处理或表面改性处理等。
相应地，可选地，当所述薄膜层表面具有疏水性时，所述表面处理的过程包括：通过构图工艺在所述薄膜层上形成一光阻层；所述光阻层或所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理后，使所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域表面具有亲水性后，剥离所述光阻层。
进一步地，具体地，当所述薄膜层表面具有亲水性且所述亲水性有机聚合物为黑色阻光材料时，所述表面处理的过程包括：通过构图工艺在所述薄膜层上形成具有所述黑色矩阵图案的光阻层；对整个所述薄膜层表面进行化学处理，使所述薄膜层具有疏水性后，剥离所述光阻层。
当所述薄膜层具有疏水性且所述亲水性有机聚合物为黑色阻光材料时，所述表面处理的过程包括：通过构图工艺在所述薄膜层上形成光阻层，所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理，使所述薄膜层具有亲水性后，剥离所述光阻层。
当所述薄膜层具有亲水性且所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料时，所述表面处理的过程包括：通过构图工艺在所述薄膜层上形成光阻层，所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理，使所述薄膜层具有疏水性后，剥离所述光阻层。
当所述薄膜层表面具有疏水性且所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料时，所述表面处理的过程包括：通过构图工艺在所述薄膜层上形成具有所述黑色矩阵图案的光阻层；对整个所述薄膜层表面进行化学处理，使所述薄膜层具有亲水性后，剥离所述光阻层。
具体地，S30中，参见图4，所述亲水性有机聚合物在所述亲水区成型，所述疏水性有机聚合物在所述疏水区成型，从而在所述薄膜层20表面形成柔性基板层40，所述柔性基板层40包括透明区401和黑色矩阵区402。所述柔性基板层40即为后面最后得到的柔性基板。可选地，所述混合溶液的溶剂为有机溶剂、无机溶剂或水。所述亲水性有机聚合物和所述疏水性有机聚合物中包括透光性强的聚合物材料和黑色阻光材料。可选地，当所述亲水性有机聚合物为透光性强的聚合物材料时，所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料；当所述疏水性有机聚合物为透光性强的聚合物材料时，所述亲水性有机聚合物为黑色阻光材料。进一步地，可选地，所述黑色矩阵区的所述亲水性有机聚合物或所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料。
可选地，所述亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物的质量比为(0.01-80)：(20-100)。进一步地，可选地，所述亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物的质量比为(0.5-70)：(30-120)。进一步地，可选地，所述亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物的质量比为(0.5-70)：(30-100)。例如，亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物的质量比为1:100，或为1:110，或为1:50，或为1:70。本实施方式中，所述恒温处理的温度范围为25-50℃。进一步地，可选地，所述恒温处理的温度范围为30-50℃。例如。所述恒温处理的温度范围为25℃，或为30℃，或为33℃，或为40℃，或为45℃，或为50℃。可选地，所述恒温处理的时间为0.5-48h；所述烘烤处理的温度范围为180-230℃，所述烘烤处理的时间为0.3-4h。进一步地，可选地，所述恒温处理的时间为1-40h。例如，所述恒温处理的时间为3h，或为10h，或为15h，或为24h，或为30h，或为40h，或为48h。进一步地，可选地，所述烘烤处理的温度范围为180-250℃，所述烘烤处理的时间为0.5-4h。进一步地，可选地，所述烘烤处理的温度范围为200-250℃，所述烘烤处理的时间为1-4h。例如，所述烘烤处理的温度为180℃，或为200℃，或为230℃，或为250℃。例如，所述烘烤处理的时间为0.3h，或为0.5h，或为1h，或为2.5h，或为4h。
本实施方式中，所述亲水性有机聚合物和/或所述疏水性有机聚合物为具有自愈合能力的材料。进一步地，所述亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物之间可以具有的一定的分子间作用力；所述分子间作用力包括氢键、静电作用等。可选地，所述亲水性有机聚合物包括聚苯胺，所述疏水性有机聚合物包括聚丙烯酸单体。所述亲水性有机聚合物可以但不限于聚苯胺；所述疏水性有机聚合物可以但不限于聚丙烯酸单体。所述聚苯胺为黑色阻光材料，所述聚苯胺和所述聚丙烯酸单体之间存在一定的氢键和静电作用力。
本实施方式中，所述烘烤处理可以减弱所述亲水性有机聚合物与所述疏水性有机聚合物之间的分子间作用力，所述亲水性有机聚合物和所述疏水性有机聚合物进行分子自组装，所述亲水性有机聚合物或所述疏水性有机聚合物根据与所述薄膜层上清水区和疏水区的表面截面能的不同进行自组装，所述亲水性有机聚合物在所述亲水区成型，所述疏水性有机聚合物在所述疏水区成型，得到所述柔性基板层。可选地，所述亲水性有机聚合物和/或所述疏水性有机聚合物的分子间进一步进行化学聚合。当所述烘烤处理结束后，所述柔性基板层包括透明区和所述黑色矩阵区，所述透明区和所述黑色矩阵区直接结合紧密。
具体地，S40中，一并参见图4和图5，采用激光剥离工艺等方法将所述薄膜层20和所述柔性基板10剥离，以去除所述硬质基板10和所述薄膜层20。本实施方式中，所述步骤S40中，所述剥离所述薄膜层和所述硬质基底的操作可以作为最后进行；当在所述柔性基板上形成其他功能层结构(例如电极层、偏振片、OLED器件等等)后，剥离所述薄膜层20和所述硬质基底10。
本实施方式中，所述柔性基板的厚度大小可以为0.01-3mm。所述柔性基板的厚度大小可以工艺来进行调节。例如，通过在所述薄膜层四周边缘设置挡块，当涂布所述亲水性有机聚合物和疏水性有机聚合物的混合溶液时，通过控制所述围挡的高度可以进一步调控或限定所述柔性基板的厚度大小。
本实施方式中，所述制备方法通过自组装成膜的方法得到一种自带黑色矩阵的柔性基板，所述制备方法工艺简单，节省了传统黑色矩阵的制备，大大缩短了工艺时间和工艺成本；同时，制备得到的柔性基板将传统的基板和黑色矩阵融合在单独的层结构中，大大减少层结构厚度，有利于实现后续器件薄型化设计。
本发明实施例还提供了一种柔性基板的制备方法，参见图8，所述制备方法与上一个实施例所述的制备方法的不同之处在于：
所述在所述薄膜层20表面形成柔性基板层40之后，所述剥离所述薄膜层20和所述硬质基底10之前还包括：在所述柔性基板层40上继续形成一透明薄膜层50，所述透明薄膜层50覆盖所述透明区401和所述黑色矩阵区402。
然后进行S40步骤：剥离所述薄膜层20和所述硬质基底10，得到柔性基板60，所述柔性基板60包括透明区401和黑色矩阵区402，以及覆盖在所述透明区401和黑色矩阵区402的透明薄膜层50，参见图9，图9为所述柔性基板60的倒置图。
如图5所示，本发明一实施例提供了一种由所述制备方法制得的柔性基板40，包括透明区401和黑色矩阵区402，所述透明区401与所述黑色矩阵区402间隔设置，所述黑色矩阵区402由材质为黑色阻光材料的亲水性有机聚合物或疏水性有机聚合物自组装形成。所述黑色矩阵区402具有预设的黑色矩阵图案，所述黑色矩阵区402的形状可以但不限于图5所示。
如图9所示，本发明另一实施例还提供了一种由所述制备方法制得的柔性基板60，包括透明区401、黑色矩阵区402和所述透明薄膜层50，所述透明区401与所述黑色矩阵区402间隔设置并覆盖在所述透明薄膜层50的表面，所述黑色矩阵区402由材质为黑色阻光材料的亲水性有机聚合物或疏水性有机聚合物自组装形成。可选地，所述透明薄膜层与所述透明区的材质相同。
本实施方式中，所述柔性基板为有完整的层结构，所述透明区和黑色矩阵区紧密间隔设置，由于所述透明区和黑色矩阵区均可以采用自愈合材料，且所述透明区和黑色矩阵区的材料分子之间具有较强的分子间作用力；因此，所述柔性基板为一致密完整结构。可选地，所述柔性基板可以具有较好的柔韧性；通过材料的选择、或厚度尺寸的调节，所述柔性基板的理化性质可以得到相应的特点，例如所述透明区具有极高的光透过性，所述黑色矩阵区可以有效阻隔光线。所述柔性基板还可以具有一定的水汽及氧气的阻隔性能。
参见图10，本发明另一实施例还提供了彩膜基板，包括柔性基板40，和彩色滤光层70，所述柔性基板40包括间隔设置的透明区401与黑色矩阵区402；所述彩色滤光层70包括红色区域701、绿色区域702和蓝色区域703，相邻的两个不同颜色区域的边缘相互交叠，所述边缘相互交叠的位置正投影在所述柔性基板40的所述黑色矩阵区402上。
可选地，所述柔性基板40在本发明一实施方式中已具体限定，本实施方式中不做过多赘述。可选地，所述红色区域701、绿色区域702或蓝色区域703可用于过滤得到相应颜色的光线；所述柔性基板40的所述黑色矩阵区402可以有效防止漏光现象，提升色彩的对比性。可选地，所述彩色滤光层包括至少一个红色区域、至少一个绿色区域和至少一个蓝色区域。可选地，彩色滤光层70的形状，以及所述红色区域701、绿色区域702和蓝色区域703的排布规律可以多种多样，所述彩膜基板还可以包括其他功能层，所述功能层可以为现有技术，本实施方式中不做过多限定。
本发明另一实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板柔性基板或所述彩膜基板。可选地，所述显示面板还包括OLED器件或液晶层、TFT阵列层等。可选地，所述显示面板可以为液晶显示面板和OLED显示面板中的一种或多种。
实施例1
一种柔性基板的制备方法，包括：
在一硬质基底表面涂覆一层疏水性PET薄膜层；然后在所述PET膜上涂布一层光阻材料，经曝光、显影、刻蚀等操作图案化在所述PET薄膜层表面上形成光阻层，所述PET薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域为预设的黑色矩阵图案，对整个所述PET薄膜层表面进行亲水性表面改性处理，使所述PET薄膜层具有亲水性后，剥离所述光阻层；其中，所述PET薄膜层表面上原所述光阻层覆盖的区域表面为疏水性，形成疏水区；所述PET薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域为亲水性，形成亲水区，得到表面处理后的PET薄膜层。
在表面处理后的PET薄膜层表面涂布一层混合均匀的包括聚苯胺(PANI)和聚丙烯酸单体(PAA)的溶液，所述聚苯胺和聚丙烯酸单体的质量比1:100；在35℃温度下恒温处理24h后，在所述表面处理后的PET薄膜层上形成均匀分布的初级膜层；升高并保持温度为180-230℃，对所述初级膜层进行烘烤，烘烤时间为100min；此时，所述聚苯胺与聚丙烯酸单体之间的分子间氢键和静电力减弱，在具有亲水区和疏水区的表面处理后的PET薄膜层上自组装并逐渐形成柔性基板层，所述聚丙烯酸单体脱水聚合生成聚酰亚胺(PI)并在所述PET薄膜层的疏水区成型得到透明层，所述聚苯胺在所述PET薄膜层的亲水区成型得到黑色矩阵层；
采用激光剥离工艺使PET薄膜层与所述柔性基板层之间剥离，以去除所述硬质基板和PET薄膜层，得到柔性基板。
实施例2
一种柔性基板的制备方法，包括：
在一硬质基底表面涂覆一层亲水性PTFE薄膜层；然后在所述PTFE膜上涂布一层光阻材料，经曝光、显影、刻蚀等操作图案化在所述PTFE薄膜层表面上形成光阻层，所述光阻层包括预设的黑色矩阵图案，对整个所述PTFE薄膜层表面进行疏水性表面改性处理，使所述PTFE薄膜层具有疏水性后，剥离所述光阻层；其中，所述PTFE薄膜层表面上原所述光阻层覆盖的区域表面为亲水性，形成亲水区；所述PTFE薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域为疏水性，形成疏水区，得到表面处理后的PTFE薄膜层。
在表面处理后的PTFE薄膜层表面涂布一层混合均匀的包括聚苯胺和聚丙烯酸单体的溶液，所述聚苯胺和聚丙烯酸单体的质量比1:10；在50℃温度下恒温处理10h后，在所述表面处理后的PTFE薄膜层上形成均匀分布的初级膜层；升高并保持温度为180-230℃，对所述初级膜层进行烘烤，烘烤时间为60min；此时，所述聚苯胺与聚丙烯酸单体之间的分子间氢键和静电力减弱，在具有亲水区和疏水区的表面处理后的PTFE薄膜层上自组装并逐渐形成柔性基板层，所述聚丙烯酸单体脱水聚合生成聚酰亚胺并在所述PTFE薄膜层的疏水区成型得到透明层，所述聚苯胺在所述PTFE薄膜层的亲水区成型得到黑色矩阵层；
采用激光剥离工艺使PTFE薄膜层与所述柔性基板层之间剥离，以去除所述硬质基板和PTFE薄膜层，得到柔性基板。
需要说明的是，根据上述说明书的揭示和阐述，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本发明的一些等同修改和变更也应当在本发明的权利要求的保护范围之内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。
Claims (10)
1.一种柔性基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一硬质基底，在所述硬质基底表面形成薄膜层；
对所述薄膜层表面处理，使所述薄膜层表面形成亲水区和疏水区，所述亲水区或所述疏水区包括预设的黑色矩阵图案；
在所述薄膜层的整个表面涂布包括亲水性有机聚合物和疏水性有机聚合物的混合溶液，经25-50℃恒温处理，再经烘烤处理后，所述亲水性有机聚合物在所述亲水区成型，所述疏水性有机聚合物在所述疏水区成型，从而在所述薄膜层表面形成柔性基板层，所述柔性基板层包括透明区和黑色矩阵区；所述黑色矩阵区的所述亲水性有机聚合物或所述疏水性有机聚合物为黑色阻光材料；
剥离所述薄膜层和所述硬质基底，得到柔性基板。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，当所述薄膜层表面具有亲水性时，所述表面处理的过程包括：
通过构图工艺在所述薄膜层上形成一光阻层；所述光阻层或所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理后，使所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域表面具有疏水性后，剥离所述光阻层。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，当所述薄膜层表面具有疏水性时，所述表面处理的过程包括：
通过构图工艺在所述薄膜层上形成一光阻层；所述光阻层或所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域包括所述预设的黑色矩阵图案，对整个所述薄膜层表面进行化学处理后，使所述薄膜层上未覆盖有所述光阻层的区域表面具有亲水性后，剥离所述光阻层。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述恒温处理的时间为0.5-48h；所述烘烤处理的温度范围为180-230℃，所述烘烤处理的时间为0.3-4h。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述薄膜层表面形成柔性基板层之后，所述剥离所述薄膜层和所述硬质基底之前还包括：在所述柔性基板层上继续形成一透明薄膜层，所述透明薄膜层覆盖所述透明区和所述黑色矩阵区。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述亲水性有机聚合物包括聚苯胺，所述疏水性有机聚合物包括聚丙烯酸单体。
7.一种柔性基板，其特征在于，包括透明区和黑色矩阵区，所述透明区与所述黑色矩阵区间隔设置，所述黑色矩阵区由材质为黑色阻光材料的亲水性有机聚合物或疏水性有机聚合物自组装形成。
8.如权利要求7所述的柔性基板，其特征在于，所述柔性基板还包括一透明薄膜层，所述透明薄膜层覆盖所述透明区和所述黑色矩阵区。
9.一种彩膜基板，其特征在于，包括如权利要求1-6任意一项所述的制备方法制备得到的柔性基板或如权利要求7-8任意一项所述的柔性基板，和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色区域的边缘相互交叠，所述相互交叠的位置正投影在所述柔性基板的所述黑色矩阵区上。
10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6任意一项所述的制备方法制备得到的柔性基板或如权利要求7-8任意一项所述的柔性基板。
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