CN108780975A - 激光源,特别是用于工业过程的激光源 - Google Patents
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Abstract
一种激光源,包括激光射束生成单元(2),该激光射束生成单元(2)包括用于生成具有不同波长的激光射束的多个激光二极管(201、202)。由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在光切换和寻址单元(4)的入口(40)处来接收。这个单元(4)具有光选择器装置(43),该光选择器装置(43)具有两个操作位置。当处于第一位置,由所述二极管(201、202)所发射的激光射束到达光放大单元(6)的入口,该光放大单元(6)包括多个放大器模块(60),该放大器模块(60)配置成发射与由所述二极管(201、202)所发射的激光射束相比具有更高射束质量和更低功率值的激光射束。放大器模块(60)的出口朝向激光源的出口(U2)会聚。当处于光切换和寻址单元(4)的第二位置,使由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在至少部分重叠的条件下彼此会聚到单激光射束中,以用于在所述激光源(1)的另一出口(U1)处的具有相对更高功率和相对更低质量的激光射束的发射。
Description
技术领域
本发明涉及激光源,以及具体来说涉及可用于例如用于金属的材料的焊接、铜焊和切割的工业过程的类型的激光源。
背景技术
在过去,许多类型的激光源已被开发并且是当前市场上可买到的,其配置成满足工业过程的领域中以及具体来说金属的材料的处理的领域中的不同需要。一般来说,不同类型的处理(例如金属的材料的焊接、铜焊和切割)、处理中的不同精确程度以及要处置的材料的不同特性(例如要焊接或切割的金属片材的不同厚度值)要求激光射束的不同特性,以便确保最佳结果。对于这些过程的一部分,激光射束的“质量”等级能够更低,而对于其他应用,射束质量必须更高。
在本描述中以及在以下权利要求书中,激光射束的“质量”表示激光射束被聚焦到极小斑点中以使得产生那个斑点上的高功率密度的能力。如这样定义的激光射束的质量通常通过参数BPP(“射束参数乘积”)的值来表示,以每毫弧度的毫米数(mm.mrad)的单位来测量,对应于激光射束发散半角与其最窄点(射束腰)处的射束直径的乘积。激光射束的质量随着BPP的值减小而增加。因此,各种工业应用可要求具有极为不同的BPP的值的激光射束的使用。类似地,激光射束的功率也能够根据特定应用来改变。
在许多已知类型的激光源中,有可能改变—在极有限程度上—激光射束的质量和功率,然而没有显著修改这些特性的任何可能性。由于这个原因,当前常常需要提供不同激光源以执行不同工业操作。
因此,期望提供单个“通用”类型的激光源,其能够易于按照要执行的工业操作的性质和/或要处置的材料的性质来适配。
在已经开发并且市场上可买到的各种类型的激光源之中,尤其应当想到二极管激光源以及具有激活光纤的激光源。后者包括光纤,其中散布“激活”材料(通常为稀土材料),其具有通过利用模拟的发射原理来放大光线射束的能力。通常地,激活光纤采用由二极管激光源所生成的激光射束来“泵送”。激活光纤激光源一般产生与二极管源相比更高的射束质量,但是同时因光纤内的色散而引起功率的损失。
文档US 2014/0177038的图3示出具有双亮度的激光装置,其中光纤集成光射束开关能够在两个光纤之间切换激光射束,其中的一个连接到第一出口,而另一个连接到镱光纤振荡器,其为光纤出口馈送具有更高亮度的振荡。
发明目的
本发明的目的是:产生一种激光源,其能够有选择地生成具有不同特性的激光射束,使得它能够用于极为不同的工业应用中。
本发明的另一目的是要采用具有简单和功能的结构的激光源来达到以上目标。
另一目的是要提供一种激光源,其在具有所发射激光射束的不同功率和质量的两个不同出口之间是可切换的,其中具有更高功率的出口仍然具有良好射束质量。
另一目的是要通过有利和有效地利用以上所指示类型的一个或多个激光源来产生一种具有多个激光处理装置或激光处理室或激光处理站的车间。
发明内容
考虑到达到上述目的,本发明涉及一种具有如权利要求1所述的特性的激光源。按照本发明的源包括激光射束生成单元,该激光射束生成单元包括用于生成多个激光射束的多个激光二极管。该源还包括光放大单元,该光放大单元包括多个放大器模块,该放大器模块配置成采用由所述二极管所发射的所述激光射束来泵送,并且发射相对由所述二极管所发射的所述激光射束具有更高射束质量和更低功率值的出局激光射束。在所述生成单元与所述光放大单元之间,***由所述二极管所发射的激光射束的光切换和寻址单元。所述光切换和寻址单元包括:多个入口,用于接收由所述二极管所发射的所述激光射束;第一光线路,以朝向所述激光源的第一出口转发从所述激光射束所产生的单激光射束;以及多个第二光线路,以朝向所述光放大单元的所述放大器模块转发由所述二极管所发射的所述激光射束。放大器模块具有连接到光线路(全部朝向所述激光源的第二出口会聚)的其相应出口。光切换和寻址单元包括光路选择装置,用于朝向所述第一光线路或者朝向所述第二光线路有选择地定向由所述二极管所发射的所述激光射束。当朝向所述第一光线路定向第一激光射束时,在所述激光源的所述第一出口处生成具有相对更高功率和相对更低质量的单激光射束。当朝向所述第二光线路定向激光射束时,激光射束经过所述放大器模块来馈送,该放大器模块的出口连接到激光源的所述第二出口,以便在激光源的所述第二出口处生成具有相对更低功率和相对更高质量的单激光射束的发射。
仍然按照本发明,上述二极管配置成发射彼此具有不同波长的激光射束。光切换和寻址单元的上述选择器装置具有第一操作位置和第二操作位置,当处于该第一操作位置,该选择器装置朝向所述第二光线路转发所述激光射束,当处于该第二操作位置,在其中由所述二极管所发射的所述激光射束彼此至少部分重叠的条件下使具有不同波长的所述激光射束会聚到单射束中。
由于这些特性,按照本发明的激光射束在具有高射束质量和相对更低功率的第一出口与具有更高功率和更低质量的第二出口之间是可切换的。然而,由于将不同波长的激光射束会聚到单射束中、从而使它们彼此至少部分重叠的可能性,更高功率的出口处的射束质量也是相对高的。
在优选实施例中,所述选择器装置包括一系列反射镜,该反射镜沿所述第一光线路的方向对齐,并且在第一位置与第二位置之间可共同活动,当处于该第一位置,该反射镜拦截由所述二极管所发射的所述激光射束,当处于该第二位置,所述反射镜不拦截所述激光射束,使得所述激光射束可朝向所述第二光线路并且朝向所述放大器模块前进。在这个实施例中,当处于上述第一拦截位置,所述反射镜的第一个以所述第一光线路的方向并且经过另外的反射镜来反射所述激光射束中的一个,而其余反射镜的每个布置成反射由相应二极管所发射并且具有相应波长的激光射束,并且对于由所述系列的反射镜的其他反射镜所定向经过它的具有其他波长的激光射束改为是可穿透的。因此,所述反射镜的第一个之后的每个仅对相应激光射束的波长是反射性的。
在备选实施例中,所述选择器装置包括衍射光栅,该衍射光栅在第一位置与第二位置之间可活动,朝向该第一位置使由所述二极管所发射的所述激光射束会聚,当处于该第二位置,所述衍射光栅不拦截所述激光射束,所述激光射束然后能够朝向所述第二光线路并且朝向所述放大模块前进。在这个实施例中,当处于衍射光栅的上述第一拦截的位置,由所述二极管所发射的所述激光射束以所述第一光线路的方向衍射。
如显而易见,本发明使单激光源是可用的,该单激光源具有彼此不同的第一出口和第二出口,根据特定感兴趣应用,该第一出口和第二出口有选择地被激活以发射具有不同功率和质量的激光射束。
因此,例如有可能为工业车间中的处理室装配单激光源,该单激光源能够在同一处理循环内在室中执行不同性质的处理,和/或使新处理循环—在同一室内—的将来引入是可能的,而无需更换激光源,和/或其中例如还有可能使要使用的同一激光源既在同一处理室中执行不同类型的处理且在不同处理室中执行不同过程,以及充当第一处理室中的专用源和另一个处理室中的备用源。
光路的选择器反射镜的移动由任何已知类型、优选地为电操作的致动器装置来控制。
具体实施方式
通过以下参照附图、完全作为非限制性示例所提供的描述,本发明的其他特性和优点将变得显而易见,其中:
图1是没有作为本发明的组成部分(因为它已经是2014年9月26日提交的意大利专利申请102014902296586的主题)、具有两个出口的激光源的实施例的简图,
图2-4是对图1的简图的一些组件的采用放大的比例的简图,
图5图示按照本发明、具有两个出口的激光源的实施例的简图,
图6示出图5的细节,
图7示出图6的变体,以及
图8和图9是使用按照本发明的一个或多个激光源的两个工业车间的简图。
参照图1-4,标号1在其总体上指示供工业过程中(具体来说对金属的材料)使用的激光源,其已经是意大利专利申请102014902296586(2014年9月26日由同一申请人提交,并且在本申请的提交日仍然保密)的主题。图1的激光源以及本发明的激光源是例如在其中执行各种类型的操作(例如激光焊接操作、激光铜焊操作和/或激光切割操作)的工业室中可用的。
形成这里所述实施例的部分的组件的许多在附图中仅示意地图示,因为单独考虑的它们的每个能够按照任何已知方式产生。构造细节从附图中的消除还使附图更简单并且更易于理解。
参照图1-4,激光源1包括激光射束生成单元,在其总体上采用参考标号2所指示。生成单元2包括按照任何已知方式所产生的多个二极管激光源20。来自二极管激光源20的激光光线在光纤21中传送,该光纤21会聚到也属于已知类型的光纤的组合器22,该光纤的组合器22的输出连接到光纤3。
在实施例的具体示例中,生成单元2能够生成光纤3中的第一激光射束,该第一激光射束具有大约6 kW的功率以及与50 mm.mrad的范围中的BPP对应的射束质量。
当然,图1中示意所示并且在图3中采用放大的比例可见的生成单元2的配置在这里完全作为举例来提供,本领域的技术人员清楚地知道,这种生成单元能够按照为二极管激光源所提供的目前已知架构的任一种来实现。
在生成单元2的下游,按照本发明的激光源1包括激光射束的光切换和寻址单元4。也参照图2,单元4包括由连接器40所组成的入口,来自生成单元2的光纤3连接到该连接器40。连接器40将光纤3连接到光纤41(单元4的入口)。任何已知类型的光接口42在自由空间S(其配备在单元4的壳体内,其中激光射束自由传播)内传送来自生成单元2经过光纤3和41的激光射束。
在单元4内的空间S中,布置光路选择器装置,该光路选择器装置在这里所示的示例中由反射镜43组成。在所图示示例中,反射镜43在第一操作位置(图1和图2中采用虚线所图示)与第二操作位置(采用实线所图示)之间是与本身平行可位移的。
当处于反射镜43的第一操作位置,反射镜不拦截来自生成单元的激光射束,使得激光射束能够以第一光线路的方向自由通过,在其总体上通过参考标号44所指示,其由按照本发明的激光源的第一出口U1(参见图1)领头。当处于反射镜43的第二操作位置,反射镜43拦截来自生成单元的激光射束,并且以第二光线路的方向将该激光射束反射,在其总体上通过参考45所指示。
又如以上已所指示,作为对于这里对反射镜43示意所示的布置的备选方案,有可能提供一种布置,其中简单地使反射镜在第一操作位置与第二操作位置之间振荡,其方式是使得当处于两个位置,反射镜均拦截来自生成单元的激光射束,以两个不同光线路的方向将该激光射束反射。
仍然参照图2,参考标号46指示任何已知类型的致动器,优选地为电控制的,配置成控制反射镜43在其两个操作位置之间的移动。当反射镜43处于其第一操作位置(通过虚线所示,当处于该第一操作位置,它不拦截按照方向S0来自生成单元的激光射束)时,这个射束按照方向S1(组成方向S0的延长)在自由空间S中延续,直到进入光接口47中,经过该光接口47,激光射束在光纤48中传送。光纤48端接在连接器49中,经过该连接器49,该光纤48连接到另一光纤481,该另一光纤481由连接器482(参见图1,其组成按照本发明的激光源1的第一出口U1)领头。
仍然参照图2,当反射镜43处于其第二操作位置(采用实线所示)时,按照方向S0来自生成单元的激光射束撞击于反射镜43上,并且因此以第二光线路45的方向按照方向S2反射。
在这里完全作为举例所图示的具体实施例的情况下,第二光线路45包括固定反射镜451,该固定反射镜451以方向S3反射来自方向S2的激光射束。沿方向S3前进的激光射束接连遇到多个固定半反射反射镜452和全反射固定端反射镜453。半反射反射镜452按照如下方式来成型:使得撞击于它们上的激光射束沿方向S4部分反射,而部分按照方向S3延续到反射镜之外。端反射镜453反射已经过全部半反射反射镜452的光线的部分。按照方向S4所反射的射束部分从单元4通过相应光接口454在多个出局光纤5内来传送。
仍然参照图1,光纤5将激光光线引导到光放大单元6的多个放大器模块60的入口。放大器模块60的每个具有图4中所示类型的配置,其本身中属于已知类型,包括其内散布激活材料的微粒(所示具体情况下为镱)的“激活”光纤61,该“激活”光纤61具有通过利用模拟的发射原理来放大入射激光射束的能力。仍然按照现有技术,激活光纤61在两个布拉格光栅62、63(其布置在每个模块60的入口和出口处,并且分别连接到入口光纤5和连接到出口光纤64)之间延伸。光纤64会聚到光纤65的组合器中,该组合器的出口经由光纤66、连接器67和另一光纤68(参见图1)来连接到连接器69(其组成按照本发明的激光源1的第二出口U2)。
放大器模块60的激活光纤61在光学上采用来自激光源4并且来源于二极管20的激光光线来泵送,并且引起第二出口U2处相对第一U1出口处可用的激光射束具有不同特性的激光射束。具体来说,经过激活光纤61涉及功率损耗(例如大约30%左右),但是增加射束质量(其被定义为射束要被聚焦到极小斑点的能力)。在实施例的具体示例中,在出口U2处可用的激光射束具有功率4 kW以及大约3 mm.mrad的BPP。
如已所图示,在以上描述中以及在附图中,没有提供所图示组件的构造细节,因为它们能够按照任何已知方式进行,并且因为它们从附图中的消除使附图更简单并且更易于理解。
按照另一种现有技术,激光源功能的全部由电子控制单元(图1-4中未图示,其与任何已知类型的人机接口关联)来控制。
附图的图5-7示出按照本发明的激光源的实施例的示例。在这些图中,与图1-4的那些部分共同或对应的部分通过相同参考标号所指示。
本发明与图1-4的解决方案相比的第一重要差别在于如下事实:在这种情况下,生成单元2包括多个二极管激光源,该二极管激光源能够生成不同波长的激光射束。完全作为举例,图5示出单元2,该单元2由两个二极管激光源201、202所组成,但是必须注意,能够存在任何数量的二极管激光源。在具体示例中,源201、202发射分别具有波长为920 nm和950nm的激光射束。具有这些波长的二极管激光源是在市场上可容易买到的。然而,并不排除采用不同的波长,具体来说是供放大器模块60的最佳操作的优化的波长,例如在975 nm的范围中的波长。
二极管激光源201、202的出口通过光纤31来连接到任何已知类型的光连接器22,组成了单元2的出口。连接器22经由相应光纤32来连接到两个光接口40,组成了切换和寻址单元4的入口,经过该入口,来自源201、202的激光射束在单元4内的自由空间中传播。
在图5和图6所图示的示例中,选择器装置43包括与二极管激光源的数量相等数量的反射镜,在具体情况下为两个反射镜431、432,以方向S1(其与来自光接口40的出局激光射束的方向S0垂直)对齐。反射镜431、432在来自二极管201、202的激光射束的拦截的位置与当这些激光射束不被拦截所处于的位置之间以方向S1可共同活动。为了更清楚起见,附图没有图示反射镜的支承结构或者该反射镜的移动的致动器装置,这些能够属于任何已知类型,优选地为电操作的。
第一反射镜431是对具有二极管201的波长的激光射束的全反射反射镜。当选择器装置43处于上述拦截的位置时,它则反射来自二极管201的激光射束。反射镜432是对具有二极管202的波长的激光射束的全反射反射镜,并且对于具有不同波长的激光射束是可穿透的。因此,当选择器装置43处于上述拦截的位置时,反射镜432反射来自二极管202的激光射束,而被由反射镜431所反射的激光射束所穿过。以方向S1所反射的具有不同波长的两个激光射束然后在处于至少部分重叠位置组合到单激光射束中。这个单激光射束在单元4内的自由空间中传播,直至到达光线路44的光接口49,该光接口49连接到激光源1的第一出口U1。光接口49经由光纤481连接到出口U1,该出口U1由光连接器482所组成。在第一出口U1处得到通过具有不同波长的激光射束的至少部分重叠所组成的单激光射束的可能性允许这个激光射束的BPP降低,或者而是允许质量增加。
当然,在提供多于两个二极管的情况下,装置43的反射镜按照相等数量来提供,并且该反射镜每个配置成对于具有相应二极管的波长的激光射束是全反射的。此外,除了该系列反射镜的第一反射镜之外,每一个其他反射镜必须对于具有与这个反射镜对其是反射性的波长不同的波长的激光射束是可穿透的。
当选择器装置43处于二极管201、202的激光射束不被拦截所处于的位置时,这些激光射束以方向S4在空间中传播,直至到达单元4的出口处的光接口454。光接口属于相应光线路45,该光线路45连接到激光源的第二出口U2。光接口454通过光纤5连接到放大器模块60。放大器模块60具有连接到光纤64(其会聚在任何已知类型的光组合器65中)的出口。组合器65经由光纤66连接到光连接器69,该光连接器69组成激光源1的出口U2。
图6采用放大的比例并且按照示意方式示出图5的切换和寻址单元4连同激光源1的二极管201和201、放大单元6以及两个出口U1和U2。
图7示出一种变体,其中选择器装置43包括衍射光栅430,该衍射光栅430在第一位置(图中所图示)与第二位置之间可活动,朝向该第一位置使三个二极管201、202、203的具有不同波长的激光射束会聚,当处于该第二位置,所述衍射光栅430不拦截所述激光射束,该激光射束因而能够朝向放大单元6的三个入口454前进并且由此前进到激光源的出口U2。当处于其拦截的位置,衍射光栅引起以光接口49(其连接到激光源的第一出口U1)的方向的激光射束的衍射。
图8示意示出工业车间的示例,其已经是以上引用的申请人的之前的申请的主题。然而,这个车间与按照本发明的激光源也是可一起使用的。所图示示例涉及机动车辆的生产车间的情况,包括多个激光处理室或站R1、R2、R3、R4。例如,该车间包括:站R1,其中执行激光铜焊的操作(典型情况是:将顶盖连接到机动车辆主体);站R2,其中执行对组件的激光焊接的操作(例如机动车辆门的结构);站R3,其中执行激光切割的操作,例如以形成机动车辆主体的侧壁中的开口;以及站R4,其中执行远程激光焊接操作,即,采用与焊接区域分隔开保持的激光枪。
在每个处理站中,提供利用激光射束的处理设备。例如,该设备能够包括一个或多个多轴操纵器机器人,该多轴操纵器机器人每个配备有通过光纤连接到激光源的激光枪。再次作为举例,电子控制单元E1、E2、E3、E4与每个室或站关联。电子监督单元E与电子单元E1、E2、E3、E4进行通信。
铜焊、焊接、切割和远程焊接过程涉及增加质量激光射束的使用(对铜焊和焊接要求更低质量,而对切割和远程焊接要求更高质量)。
在图8的车间中,图示符合本发明的以上已经描述的激光源,其中两个出口U1、U2通过任何已知类型的光分配器D1、D2来连接到光纤f1、f2、f3、f4,该光纤f1、f2、f3、f4将相应激光射束馈送到相应处理站或室中布置的设备。
激光源1的选择器装置43的电子控制单元ES基于来自监督器E的信号来激活源1的出口U1或出口U2,以便执行室R1、R2中或者室R3、R4中的处理。
甚至更有利地,例如,能够提供按照本发明的两个源1,一个专用于一个或多个室R1、R2,而另一个专用于一个或多个室R3、R4。这个解决方案在图9中示意示出,其中按照本发明的两个源1每个具有按照交叉的方式所连接的两个出口U1、U2,一个连接到室R1,而另一个连接到室R4。进入每个室的光纤通过三路连接器C1、C2连接到来自两个不同源的两个光纤。图9的车间也已经在由本申请人提出的之前申请中图示,但是在这里再次图示,因为它与按照本发明的激光源也是可一起使用的。
监督器E控制源的电子单元ES,其方式是使得正常地左激光源使其出口U1被激活以向室R1馈送,而另一个源1使其出口U2被激活以向室R4馈送更高质量激光射束。然而,在一个源的故障情况下,在已切换相应选择器之后,另一个源能够暂时用来对其源有故障的室进行馈送。这例如在室R4的源上的故障证实中断室R1中的处理并且使用R1的源作为R4的备用源时能够是有用的。
所图示简图只是示例,并且显然,室和相对激光源的配置和布置能够按照特定应用的要求随意改变。
按照本发明的源还能够与单个处理室关联,以用于将不同特性的激光射束馈送到同一室中提供的不同激光装置,以便执行同一室内的不同激光处理。
当然,没有对本发明的原理的偏见,构造的细节和实施例可相对完全作为举例所述和所图示的构造细节和实施例广泛改变,而没有背离本发明的范围。
Claims (11)
1.一种激光源,特别是供工业过程中使用的激光源,包括:
-激光射束生成单元(2),包括用于生成多个激光射束的多个激光二极管(201、202),
-光放大单元(6),包括多个放大器模块(60),所述放大器模块(60)配置成采用由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束来泵送,并且发射相对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束具有更高射束质量和更低功率值的激光射束,以及
-激光射束切换和寻址光单元(4),***在所述生成单元(2)与所述光放大单元(6)之间,以用于对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束进行切换和寻址,所述光切换和寻址单元(4)包括:
-多个入口(40),用于接收由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束,
-第一光线路(44),用于朝向所述激光源(1)的第一出口(U1)转发从由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束所得到的单激光射束,
-多个第二光线路(45),用于朝向所述光放大单元(6)的所述放大模块(60)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束,所述放大器模块(60)具有连接到光线路(64)的相应出口,所述光线路(64)全部朝向所述激光源(1)的第二出口(U2)会聚,以及
-光路选择器装置(43),用于有选择地朝向以下各项定向由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束:
-所述第一光线路(44),以便在所述激光源(1)的所述第一出口(U1)处生成具有相对更高功率和相对更低质量的单激光射束的发射,
或者朝向
-所述第二光线路(45),并且经过所述放大器模块(60),一直到所述激光源(1)的所述第二出口(U2),以便在所述激光源(1)的所述第二出口(U2)处生成具有相对更低功率和相对更高质量的单激光射束的发射,
其中所述二极管(201、202)还配置成发射彼此具有不同波长的激光射束,以及
其中所述选择器装置(43)具有第一操作位置和第二操作位置,当处于所述第一操作位置,所述选择器装置(43)朝向所述第二光线路(45)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束,当处于所述第二操作位置,在其中由所述二极管所发射的所述射束彼此至少部分重叠的条件下,使从所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束会聚到单射束中。
2.如权利要求1所述的激光源,其特征在于,所述选择器装置(43)包括一系列反射镜(431、432),所述反射镜(431、432)沿所述第一光线路(44)的方向对齐,并且在第一位置与第二位置之间可共同活动,当处于所述第一位置,所述反射镜(431、432)拦截由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束,当处于所述第二位置,所述反射镜不拦截所述激光射束,使得当处于所述第二位置,所述激光射束能够朝向所述第二光线路(45)并且朝向所述放大模块(60)前进,以及
其特征在于,当处于所述第一拦截位置,所述反射镜(431)的第一个以所述第一光线路(44)的所述方向并且经过另外的反射镜(432)来反射所述激光射束中的一个,并且其特征在于,其余反射镜(432)的每个布置成反射由相应二极管所发射并且具有相应波长的所述激光射束,并且对于由所述系列反射镜的其他反射镜(431)所定向经过它的具有其他波长的激光射束改为是可穿透的。
3.如权利要求1所述的激光源,其特征在于,所述选择器装置(43)包括衍射光栅,其在第一位置与第二位置之间可活动,当处于所述第一位置,使由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束会聚,当处于所述第二位置,所述衍射光栅不拦截所述激光射束,使得当处于所述第二位置,所述激光射束能够朝向所述第二光线路(45)并且朝向所述放大模块(60)前进,以及
其特征在于,当处于所述第一拦截位置,所述激光射束以所述第一光线路(44)的所述方向衍射。
4.如权利要求1所述的激光源,其特征在于,所述放大器模块(60)的每个包括至少一个激活光纤(61),所述激活光纤(61)包括配置成放大进入到所述模块(60)中的所述激光射束的激活材料。
5.如权利要求1所述的激光源,其特征在于,所述二极管(201、202)使得出口(22)通过相应入口光纤(32)来连接到所述光切换和寻址单元(4)的相应入口(40)。
6.如权利要求5所述的激光源,其特征在于,所述光切换和寻址单元(4)包括用于传播由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束的自由空间(S),在其内***所述光路选择器装置(43),所述切换和寻址单元(4)的所述入口(40)由光接口所形成,所述光接口接收来自所述二极管(201、202)的相应激光射束,并且将它们传送到其中布置所述光路选择器装置(43)的所述自由空间(S)中。
7.如权利要求5或6所述的激光源,其特征在于,所述光切换和寻址单元(4)包括沿所述第一光线路(44)所布置的出口光接口(49),以接收从由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束所得到的所述单激光射束,并且将它定向到连接到所述激光源(1)的所述第一出口(U1)的出局光纤(481)中。
8.如权利要求5-7中的任一项所述的激光源,其特征在于,所述光切换和寻址单元(4)包括沿所述第二光线路(45)所布置的多个出口光接口(454),以接收经过所述自由空间(S)传播的、由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束,并且将它们定向到连接到所述光放大单元(6)的所述放大器模块(60)的多个出局光纤(5)中。
9.如权利要求8所述的激光源,其特征在于,所述放大器模块(60)的所述出口连接到相应光纤(64),所述光纤(64)会聚到连接到所述激光源(1)的所述第二出口(U2)的光组合器装置(65)中。
10.包括多个激光处理装置或激光处理室或激光处理站的工业车间,包括至少一个第一激光处理装置、室或站和至少一个第二激光处理装置、室或站,所述至少一个第一激光处理装置、室或站要求具有相对更高功率和相对更低质量的激光射束的使用,所述至少一个第二激光处理装置、室或站要求具有相对更低功率和相对更高质量的激光射束的使用,其特征在于,它包括如之前的权利要求中的任一项所述的至少一个激光源,所述至少一个激光源使得其出口分别连接到所述第一激光处理装置、室或站和第二激光处理装置、室或站,所述车间具有电子控制单元以用于控制所述至少一个激光源的所述选择器装置,经编程以用于基于来自控制所述激光处理装置、室或站的电子单元的信号来激活所述激光源的所述第一出口或者所述第二出口。
11.一种用于控制多个激光处理室或站的方法,所述激光处理室或站每个配备有激光源,以用于向在所述处理室或站处提供的激光处理装备供应激光射束,其特征在于,所述激光源的至少一个是如权利要求1-9中的任一项所述的具有两个出口的激光源,并且其特征在于,具有两个出口的所述激光源的第一出口连接到一个专用室或站,所述方法包括当另一处理室或站的所述激光源有故障时将具有两个出口的所述激光源的第二出口连接到所述另一处理室或站的步骤。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111896964A (zh) * | 2019-05-05 | 2020-11-06 | 苹果公司 | 在倾斜界面后面使用衍射结构的LiDAR***的紧凑光学封装 |
CN114825016A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-07-29 | 山东产研强远激光科技有限公司 | 一种多功率固体激光器结构 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT201700117959A1 (it) * | 2017-10-18 | 2019-04-18 | Opi Photonics S R L | Combinatore di fasci laser comprendente almeno uno specchio mobile |
JP7445879B2 (ja) * | 2019-08-06 | 2024-03-08 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | デュアル波長レーザシステム及びそのシステムを用いた材料加工 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1904711A (zh) * | 2006-08-10 | 2007-01-31 | 浙江大学 | 注入式波长切换光纤激光器 |
CN102751656A (zh) * | 2012-07-19 | 2012-10-24 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 可调激光器边模抑制比及通道稳定性监控***及监控方法 |
CN102914882A (zh) * | 2012-10-22 | 2013-02-06 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 时分脉冲激光装置 |
CN103317233A (zh) * | 2013-06-07 | 2013-09-25 | 张立国 | 一种用于激光加工的光束运动轨迹控制装置 |
CN103597674A (zh) * | 2011-05-04 | 2014-02-19 | 通快激光两合公司 | 具有在亮度方面可调整的加工激光射束的激光加工*** |
CN103781586A (zh) * | 2011-09-05 | 2014-05-07 | 奥迪克激光应用技术股份有限公司 | 具有复数个激光器和一组合偏转设备的标记仪器 |
CN203690697U (zh) * | 2014-02-28 | 2014-07-02 | 福州高意光学有限公司 | 一种高功率光纤激光器 |
CN104022433A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | 普林斯顿光电子学公司 | 垂直腔面发射激光器泵浦的光纤增益*** |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69526061D1 (de) * | 1994-12-22 | 2002-05-02 | Ceramoptec Gmbh | Lasersystem für hohe Leistungsdichten |
US6212310B1 (en) * | 1996-10-22 | 2001-04-03 | Sdl, Inc. | High power fiber gain media system achieved through power scaling via multiplexing |
EP1649561A1 (en) * | 2003-07-28 | 2006-04-26 | SPI Lasers UK Limited | Eye safe high power fibre laser |
US7629234B2 (en) * | 2004-06-18 | 2009-12-08 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots with joint velocity profiling |
US7233442B1 (en) * | 2005-01-26 | 2007-06-19 | Aculight Corporation | Method and apparatus for spectral-beam combining of high-power fiber lasers |
US20080253419A1 (en) | 2005-07-11 | 2008-10-16 | Ellex Medical Pty, Ltd. | Diode Pumped Laser |
JP2007190560A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Miyachi Technos Corp | レーザ加工装置 |
EP1848073A1 (en) * | 2006-04-19 | 2007-10-24 | Multitel ASBL | Switchable laser device and method for operating said device |
WO2010083566A2 (en) | 2009-01-22 | 2010-07-29 | Med-Aesthetic Solutions International Pty. Ltd. | System and method for dermatological treatment |
RS55934B1 (sr) | 2014-09-26 | 2017-09-29 | Comau Spa | Laserski izvor, naročito za industrijske postupke |
-
2016
- 2016-03-14 IT ITUA2016A001635A patent/ITUA20161635A1/it unknown
-
2017
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- 2017-03-13 EP EP17160507.4A patent/EP3229329B1/en active Active
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- 2017-03-13 CN CN201780017636.9A patent/CN108780975B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1904711A (zh) * | 2006-08-10 | 2007-01-31 | 浙江大学 | 注入式波长切换光纤激光器 |
CN103597674A (zh) * | 2011-05-04 | 2014-02-19 | 通快激光两合公司 | 具有在亮度方面可调整的加工激光射束的激光加工*** |
CN103781586A (zh) * | 2011-09-05 | 2014-05-07 | 奥迪克激光应用技术股份有限公司 | 具有复数个激光器和一组合偏转设备的标记仪器 |
CN102751656A (zh) * | 2012-07-19 | 2012-10-24 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 可调激光器边模抑制比及通道稳定性监控***及监控方法 |
CN102914882A (zh) * | 2012-10-22 | 2013-02-06 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 时分脉冲激光装置 |
CN104022433A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | 普林斯顿光电子学公司 | 垂直腔面发射激光器泵浦的光纤增益*** |
CN103317233A (zh) * | 2013-06-07 | 2013-09-25 | 张立国 | 一种用于激光加工的光束运动轨迹控制装置 |
CN203690697U (zh) * | 2014-02-28 | 2014-07-02 | 福州高意光学有限公司 | 一种高功率光纤激光器 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111896964A (zh) * | 2019-05-05 | 2020-11-06 | 苹果公司 | 在倾斜界面后面使用衍射结构的LiDAR***的紧凑光学封装 |
CN111896964B (zh) * | 2019-05-05 | 2024-04-12 | 苹果公司 | 在倾斜界面后面使用衍射结构的LiDAR***的紧凑光学封装 |
CN114825016A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-07-29 | 山东产研强远激光科技有限公司 | 一种多功率固体激光器结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA3009301A1 (en) | 2017-09-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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