CN108539054B - 有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法。首先制备压印模具，在模具上得到预先设计的凸型结构图案；在ITO衬底上均匀涂覆一层紫外固化胶，待其自由流平形成一压印层；模具压入压印层，使紫外固化胶充满模具的凸型结构图案，通过曝光使紫外固化胶发生反应硬化成型；释放压力将模具脱离ITO衬底；对ITO衬底进行反应离子刻蚀除去残留的紫外固化胶，得到与模具等比例的凸型结构；将ITO衬底倒置，通过微接触法在凸型结构的顶部粘上紫外固化胶，静置成型；采用UV光源照射固化，得到阴极隔离柱。采用紫外压印技术，在室温和常压下制备阴极隔离柱，工艺简单、步骤少、且不会引入水汽，大大提高OLED器件寿命，像素分辨率明显提高。

Description

有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法
技术领域
本发明涉及一种有机发光显示器件阴极隔离柱技术，特别是有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Display)，有机发光显示器件由于其高亮度、宽视角及柔性轻型等特点而被广泛关注并深入研究。有机发光器件通常由第一电极(透明阳极)、沉积在第一电极上的发光介质、沉积在发光介质上的第二电极(阴极)构成。为了实现无源矩阵OLED的高分辨率和彩色化，更好地解决阴极模板分辨率低和器件成品率低等问题，人们在研究中引入了具有倒梯形或者T形截面的条纹结构作为阴极隔离柱，将发光显示器件的不同像素隔开，避免相邻像素间的短路问题。
已有技术一般采用曝光的方式制备阴极隔离柱，例如在透明基片上旋涂第一层光敏有机绝缘材料，一般为光敏型PI、前烘后曝光，曝光图形为网状结构或条状结构，线条的宽度由显示分辨率即像素之间间隔决定，然后进行后烘。然后曝光好的有机绝缘材料上旋涂第二层光敏型有机绝缘材料，一般为光刻后线条横截面能形成上大下小倒梯形形状的光刻胶中的一种，一般为负型光刻胶，前烘后对第二层有机绝缘体材料进行曝光，曝光图形为直线条。上述制备方法通过二次曝光工艺来制作，刻蚀后在阴极隔离柱中总有水蒸汽遗留，或者阴极隔离柱表面总会有水蒸汽扩散、蒸发上去，有机发光材料会由于这些遗留水蒸汽的影响，沿着阴极隔离柱的走向产生像素收缩，影响发光器件寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，所述制备方法工艺简单、步骤少、且不会引入水汽，使得发光器件寿命大大提高，且紫外固化胶透明，可使OLED器件全区域透明。
本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
本发明提供一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，包括：
S1)制备压印模具，在模具上得到预先设计的凸型结构图案；
S2)在ITO衬底上均匀涂覆一层紫外固化胶，待其自由流平形成一压印层；
S3)模具压入压印层，使紫外固化胶充满模具的凸型结构图案，通过曝光使紫外固化胶发生反应硬化成型；
S4)释放压力将模具脱离ITO衬底；
S5)对ITO衬底进行反应离子刻蚀除去残留的紫外固化胶，得到与模具等比例的凸型结构；
S6)将ITO衬底倒置，通过微接触法在凸型结构的顶部粘上紫外固化胶，静置成型；
S7)采用UV光源照射固化，得到阴极隔离柱。
进一步地，所述模具为不透明金属材料构成，在步骤S7)中，在ITO衬底一侧进行UV照射。
进一步地，所述模具的材料为透明的石英、聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯中的一种。
进一步地，在步骤S5)中采用反应离子蚀刻以紫外固化胶为掩膜，去除残留紫外固化胶后在ITO衬底上得到所需的凸型结构。
进一步地，在步骤S5)中反应离子刻蚀去除残留的紫外固化胶后，反应离子与ITO衬底作用，增加ITO衬底的载流子含量。
进一步地，在步骤S6)中通过微接触法上胶时，ITO衬底与所接触的紫外固化胶平面平行。
进一步地，ITO衬底倒置后，凸型结构的顶部粘上紫外固化胶后，ITO衬底上升静置，凸型结构上的胶液在流体力学的作用下凝聚成圆形的胶滴。
进一步地，采用UV光源照射，使得凸型结构粘连的圆形胶滴固化成型，得到阴极隔离柱。
进一步地，所述阴极隔离柱由截面呈凸型结构的第一部分和呈球状的第二部分构成，呈球状的第二部分设置于凸型结构的顶端，所述阴极隔离柱呈透明状。
进一步地，所述具有凸型结构的模具可以通过电子束光刻、等离子蚀刻、激光全息干涉的技术方法制备。
本发明提供的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，采用紫外压印技术，在室温和常压下制备阴极隔离柱，压印法工艺简单、步骤少、且不会引入水汽，与现有技术相比，大大提高OLED器件寿命，像素分辨率明显提高，且UV胶层透明，可使OLED器件全区域透明。
附图说明
图1为本发明一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法流程框图。
图2为本发明实施例提供的阴极隔离柱的结构示意图。
图3a至图3f为本发明有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方式及功效，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
本发明提供一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法。参见图1至图3f所示，所述制备方法包括如下步骤：
S1)如图3a所示，制备压印模具11，在模具11上得到预先设计的凸型结构图案。具体地，在此步骤中，所述压印模具11为采用透明的、能使紫外线穿透的石英通过电子束光刻制备而成。在其他实施例中，所述压印模具11也可以采用等离子蚀刻、激光全息干涉等技术方法制备。
S2)如图3b所示，在ITO衬底10上均匀涂覆一层紫外固化胶，待其自由流平形成一压印层12。具体地，在ITO衬底10上旋涂紫外固化胶，此步骤中要求紫外固化胶具有良好的流动性。其中，为了防止对ITO衬底10造成伤害，所述压印模具11也可使用透明的软模具，例如聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等，还可以采用不透明的金属材料，例如金属镍、硅、铬等。此时需在ITO衬底10一侧进行UV照射。
S3)如图3b所示，模具11压入压印层12，使紫外固化胶充满模具11的凸型结构图案内，通过曝光使紫外固化胶发生化学反应硬化成型。具体地，采用紫外光照射，使得压印层12的紫外固化胶由液态变为固态，得到形状与模具11的凸型结构相同的压印层121。
S4)如图3c所示，释放压力将模具11脱离ITO衬底10。
S5)如图3d所示，对ITO衬底10进行反应离子刻蚀除去残留的紫外固化胶，得到与模具11等比例的凸型结构。具体地，采用氧反应离子蚀刻以压印层121的固态紫外固化胶为掩膜，将图形刻蚀转移至ITO衬底10上，去除ITO衬底10上多余的紫外固化胶后得到所需的凸型结构122。需要说明的是，氧反应离子刻蚀去除残留的紫外固化胶后，氧反应离子继续与ITO衬底10作用能够增加ITO衬底的载流子含量，提高ITO衬底10的导电性。
S6)如图3e所示，将ITO衬底10倒置，通过微接触法在凸型结构122的顶部粘上紫外固化胶，静置成型。
在该步骤中，通过微接触法上胶时，由于接触位置要求较高，通常采用精确的机械控制，并且ITO衬底10需要与所接触的紫外固化胶14的胶面平行，同时紫外固化胶14的胶层表面要平整，不能晃动。其中，ITO衬底10倒置后，凸型结构122的顶部粘上紫外固化胶后，ITO衬底10上升静置，凸型结构122上的胶液在流体力学的作用下凝聚成圆形的胶滴141，如图3f所示。具体可以通过控制紫外固化胶的粘度，根据流体力学，胶滴在呈圆球状时表面能最低、最稳定。
S7)如图3f所示，采用UV光源照射固化，得到阴极隔离柱16。具体地，采用UV光源照射，使得凸型结构122粘连的圆形胶滴141固化成型，得到阴极隔离柱16。
本实施例中，所述阴极隔离柱16由截面呈凸型结构的第一部分和呈球状的第二部分构成，呈球状的第二部分设置于凸型结构的顶端，所述阴极隔离柱16呈透明状。
本发明提供的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，采用紫外压印技术，在室温和常压下制备阴极隔离柱，压印法工艺简单、步骤少、且不会引入水汽，与现有技术相比，大大提高OLED器件寿命，像素分辨率明显提高，且UV胶层透明，可使OLED器件全区域透明。
在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。
在本文中，所涉及的前、后、上、下等方位词是以附图中零部件位于图中以及零部件相互之间的位置来定义的，只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解，所述方位词的使用不应限制本申请请求保护的范围。
在不冲突的情况下，本文中上述实施例及实施例中的特征可以相互结合。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，包括：
S1)制备压印模具，在模具上得到预先设计的凸型结构图案；
S2)在ITO衬底上均匀涂覆一层紫外固化胶，待其自由流平形成一压印层；
S3)模具压入压印层，使紫外固化胶充满模具的凸型结构图案，通过曝光使紫外固化胶发生反应硬化成型；
S4)释放压力将模具脱离ITO衬底；
S5)对ITO衬底进行反应离子刻蚀除去残留的紫外固化胶，得到与模具等比例的凸型结构；
S6)将ITO衬底倒置，通过微接触法在凸型结构的顶部粘上紫外固化胶，静置成型；
S7)采用UV光源照射固化，得到阴极隔离柱，所述阴极隔离柱由截面呈凸型结构的第一部分和呈球状的第二部分构成，呈球状的第二部分设置于凸型结构的顶端。
2.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，所述模具为不透明金属材料构成，在步骤S7)中，在ITO衬底一侧进行UV照射。
3.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，所述模具的材料为透明的石英、聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯中的一种。
4.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，在步骤S5)中采用反应离子蚀刻以紫外固化胶为掩膜，去除残留紫外固化胶后在ITO衬底上得到所需的凸型结构。
5.如权利要求4所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，在步骤S5)中反应离子刻蚀去除残留的紫外固化胶后，反应离子与ITO衬底作用，增加ITO衬底的载流子含量。
6.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，在步骤S6)中通过微接触法上胶时，ITO衬底与所接触的紫外固化胶平面平行。
7.如权利要求6所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，ITO衬底倒置后，凸型结构的顶部粘上紫外固化胶后，ITO衬底上升静置，凸型结构上的胶液在流体力学的作用下凝聚成圆形的胶滴。
8.如权利要求7所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，采用UV光源照射，使得凸型结构粘连的圆形胶滴固化成型，得到阴极隔离柱。
9.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，所述阴极隔离柱呈透明状。
10.如权利要求1所述的有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法，其特征在于，具有凸型结构的所述模具可以通过电子束光刻、等离子蚀刻、激光全息干涉的技术方法制备。
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