CN108348943A

CN108348943A - 坩埚涂敷装置

Info

Publication number: CN108348943A
Application number: CN201680061372.2A
Authority: CN
Inventors: 申振贤; 金态勋; 金庚德; 李圭晃
Original assignee: Round Benefit Qnc Ltd By Share Ltd
Current assignee: Round Benefit Qnc Ltd By Share Ltd
Priority date: 2015-11-13
Filing date: 2016-09-21
Publication date: 2018-07-31
Also published as: KR101780443B1; WO2017082533A1; KR20170056373A

Abstract

本发明提供一种坩埚涂敷装置。本发明的坩埚涂敷装置包括：储存容器，在一面形成有容纳槽，以便为了对坩埚进行涂敷而容纳用于对坩埚进行涂敷的涂敷液；引导部，设置于储存容器的内部，通过沿着第一方向延伸来支撑坩埚；以及驱动部，通过与引导部相连接来使引导部以与第一方向并排形成的旋转轴为中心而旋转，随之使坩埚沿着圆周方向旋转，从而通过使坩埚与涂敷液相接触来对坩埚进行涂敷。

Description

坩埚涂敷装置

技术领域

本发明涉及坩埚涂敷装置。

背景技术

通常，单晶铸锭(Ingot)通过丘克拉斯基(Czochralski)结晶生长法(CZ法)来制造。更具体地，在设置于热区的坩埚填充多晶硅等的固体原料，并通过电热加热器进行加热及熔融来制备熔液(Melt)，之后，将单晶晶种(seed)挂在晶种连接器来与熔液相接触，之后，慢慢旋转并提起。

这样，在晶种连接器形成以颈部(neck part)、直径增加的肩部(shoulder part)以及直径恒定的圆柱形态的本体部(body part)的顺序进行提起并以直径减小的尾部(tail part)收尾的单晶铸锭。

并且，在丘克拉斯基法中，在一个石英坩埚中数次生产多个铸锭的多重生长型丘克拉斯基法(MP-CZ，Multi Pulling-CZochralski)能够以比现有的丘克拉斯基法更低的原价生产铸锭，因而成为新的焦点。

但是，在基于现有的多重生长型丘克拉斯基法以及丘克拉斯基法的单晶铸锭生长过程中，达到很高温度的坩埚将变形，并释放出杂质，因使得硅熔液包含杂质而将降低单晶铸锭的质量。

发明内容

技术问题

本发明的一实施例的目的在于提供如下的坩埚涂敷装置，即，在基于丘克拉斯基法以及多重生长型丘克拉斯基法的单晶铸锭生长过程中防止达到很高温度的坩埚的变形并以不从坩埚释放杂质的方式对坩埚进行涂敷。

技术方案

根据本发明的一实施方式，作为对坩埚进行涂敷的涂敷装置，本发明提供如下的坩埚涂敷装置，即，本发明包括：储存容器，在一面形成有容纳槽，以便容纳用于对上述坩埚进行涂敷的涂敷液；引导部，设置于上述储存容器的内部，通过沿着第一方向延伸来支撑上述坩埚；以及驱动部，通过与上述引导部相连接来使上述引导部以与上述第一方向并排形成的旋转轴为中心而旋转，随之使上述坩埚沿着圆周方向旋转，从而通过使上述坩埚与上述涂敷液相接触来对上述坩埚进行涂敷。

在此情况下，上述引导部可包括：第一引导部件，形成杆形状，与上述驱动部相连接；以及第二引导部件，与上述第一引导部件并排设置，来接收上述第一引导部件的旋转力，在上述第一引导部件与上述第二引导部件之间配置上述坩埚，从而随着上述第一引导部件及上述第二引导部件的旋转来使得上述坩埚旋转。

在此情况下，上述驱动部可包括：杆形状的旋转部件，设置于上述储存容器的一侧，与上述第一引导部件相连接来使上述第一引导部件旋转；驱动齿轮，以可旋转的方式与上述旋转部件相结合；以及从动齿轮，与上述第一引导部件相结合，与上述驱动齿轮相连接来接收上述驱动齿轮的旋转力。

在此情况下，上述驱动部可包括：驱动滑轮，与上述第一引导部件的一侧相结合，用于传递上述从动齿轮的旋转力；从动滑轮，与上述第二引导部件的一侧相结合，用于向上述第二引导部件传递上述驱动滑轮的旋转力；以及驱动带，一侧与驱动滑轮相结合，另一侧与从动滑轮相结合，来向从动滑轮传递驱动滑轮的旋转力。

在此情况下，上述涂敷液可由铝、镁、钙、钛、锆、镭、铬、硒、钡、钇、铈、铪、钽、锡以及硅复合材料中的至少一种形成。

在此情况下，上述涂敷液可通过使醋酸钡(C₄H₆O₄Ba)溶解在去离子水(DI Water)中后添加干式二氧化硅(Fumed Silica)而成。

在此情况下，上述涂敷液中添加有添加剂，上述添加剂(Binder)可以为分散剂、粘结剂及增稠剂中的至少一种。

在此情况下，上述分散剂可以为胺类、氨类、聚酯类、聚丙烯酸酯类以及聚氨基甲酸乙酯类中的至少一种。

在此情况下，上述粘结剂可以为乙烯类、丙烯酸类以及纤维素类中的至少一种。

在此情况下，上述增稠剂可以为纤维素类、糖类、丙烯酸类、二氧化硅类以及聚氨基甲酸乙酯类中的至少一种。

在此情况下，可在上述储存容器的一侧面形成与上述容纳槽相连通的排出口，使得上述涂敷液向外部排出，上述坩埚涂敷装置可包括通过与上述排出口相结合来选择性地开闭上述排出口的开闭部。

在此情况下，上述储存容器的上述容纳槽的底面能够随着远离上述排出口而逐渐按规定角度向上倾斜。

在此情况下，上述坩埚可包括：内部坩埚，可容纳硅熔液；以及外部坩埚，包围上述内部坩埚的外部面并向内部坩埚供给原料。

根据本发明的另一实施方式，本发明提供如下的坩埚涂敷方法，通过上述的坩埚涂敷装置对坩埚进行涂敷，本发明的坩埚涂敷方法包括：对上述坩埚的表面进行预处理的步骤；制备用于在上述坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤；利用上述涂敷液来同时对上述坩埚的内侧面以及外侧面进行涂敷的步骤；以及对经过涂敷的上述坩埚进行干燥以及热处理的步骤。

发明的效果

本发明一实施例的坩埚涂敷装置通过具有驱动部来使坩埚进行旋转，由此同时对坩埚的内部面和外部面进行涂敷，从而可防止达到高温的坩埚变形，不使坩埚产生杂质。

并且，本发明一实施例的坩埚涂敷装置可通过同时涂敷坩埚的内部面和外部面来以使坩埚的表面结晶化的方式提高坩埚的耐热特性及表面硬度。

附图说明

图1为示出本发明一实施例的坩埚涂敷装置的立体图。

图2为示出具有通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行涂敷的坩埚的铸锭生长装置的俯视图。

图3为示出具有通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行涂敷的坩埚的铸锭生长装置的剖视图。

图4为示出通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行涂敷的内部坩埚的立体图。

图5为示出本发明一实施例的坩埚涂敷装置的简图。

图6为示出通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置对坩埚进行涂敷的方法的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的实施例进行详细说明，以便使本发明所属技术领域的普通技术人员轻松实现本发明。本发明可由多种不同的实施方式构成，而本发明并不限定于在本说明书中所说明的实施例。为了明确说明本发明，在附图中删除了与说明无关的部分，在说明书全文中，对相同或相似的结构要素赋予了相同的附图标记。

在本说明书中，“包括”或“具有”等的术语应理解为说明书中所记载的特征、数字、步骤、动作、结构要素、部件或它们的组合的存在，而不是用于事先排除一个或一个以上的其他特征、数字、步骤、动作、结构要素、部件或它们的组合的存在或附加可能性。并且，在记述为层、膜、区域、板等的部分位于其他部分的“上方”的情况下，这不仅包括位于其他部分的“正上方”的情况，而且还包括中间有其他部分的情况。相反，在记述为层、膜、区域、板等的部分位于其他部分的“下方”的情况下，这不仅包括位于其他部分的“正下方”的情况，而且还包括中间具有其他部分的情况。

以下，参照附图，更详细地对本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行说明。

图1为示出本发明一实施例的坩埚涂敷装置的立体图。

参照图1，在以下的说明过程中，将储存容器的宽度方向定义为第一方向，将储存容器的长度方向定义为第二方向。

参照图1，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1可包括储存容器5、引导部6以及驱动部10。

本发明一实施例的坩埚涂敷装置1通过具有驱动部10来使内部坩埚33在涂敷液3中进行旋转，由此同时向内部坩埚的内部面和外部面涂敷涂敷液3，从而防止达到高温的坩埚的变形，可防止坩埚产生杂质。

而且，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1可同时对在多重生长型丘克拉斯基法中所利用的内部坩埚33的内部面和外部面进行涂敷，但并不限定于此，若有必要对在丘克拉斯基法中所利用的坩埚(未图示)的内部面和外部面同时进行涂敷，则可轻松进行涂敷。

并且，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1通过利用涂敷液3同时对坩埚的内部面和外部面进行涂敷，来以使坩埚的表面结晶化的方式提高坩埚的耐热特性及表面硬度。

本发明一实施例的坩埚涂敷装置1可在容纳于铸锭生长装置20的内部坩埚33的硅熔液随着晶种缆绳57上升并生长为铸锭47时对坩埚的外部面和内部面进行涂敷，以防止在内部坩埚的外部面及内部面产生杂质。

因此，以下，在对本发明一实施例的坩埚涂敷装置1进行说明之前，对用于使基于多重生长型丘克拉斯基法的单晶铸锭47生长的铸锭生长装置20进行说明。

图2为示出具有通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行涂敷的坩埚的铸锭生长装置的俯视图。图3为示出具有通过利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置进行涂敷的坩埚的铸锭生长装置的剖视图。

参照图2，铸锭生长装置20可包括底座21、主腔室30、拉动腔室70、拱顶腔室90以及移动部50。另一方面，底座21设置于放置铸锭生长装置的底面，可通过形成由多个框架相结合的形态来支撑铸锭生长装置20。

此时，可在底座21上设置主腔室支撑架33，可在主腔室支撑架上设置主腔室30。参照图2及图3，主腔室30可由圆筒形形成，但并不限定于此。

参照图3，可在主腔室30的内部设置内部坩埚33、外部坩埚31、加热器41、原料供给部43、基座37以及遮蔽部件39。

参照图4，在本发明一实施例中，内部坩埚33可通过使多晶硅熔融来容纳硅熔液。并且，外部坩埚31可通过包围内部坩埚33的外周面来向内部坩埚供给原料45。

参照图4，内部坩埚33可由石英形成圆筒形状。并且，可在内部坩埚33的下部侧形成多个移动孔35，以便使从外部坩埚31供给的原料45向内部坩埚移动。

另一方面，外部坩埚31可由石英形成半球形状。此时，可在外部坩埚31的内部放置内部坩埚33。在本发明的一实施例中，外部坩埚31以及内部坩埚33可以是石英坩埚。

参照图3，加热器41可通过沿着外部坩埚31的外侧方向隔开配置来对外部坩埚进行加热，从而使原料物质熔融。此时，加热器41以照射热的方式向外部坩埚31供给单晶铸锭47生长所需的热能。

参照图2及图3，拱顶腔室90设置于内部坩埚33的上部，拱顶腔室的下部可形成拱形形态，上部可形成筒形状。

可在拱顶腔室90的内部设置用于对在内部坩埚33上生长的铸锭47进行冷却的冷却装置(未图示)。冷却装置能够以使冷却水在其内部进行循环的方式形成。

参照图2，拉动腔室70设置于拱顶腔室90的上部，拉动腔室能够以沿着上侧方向延伸的管形状。参照图3，拉动腔室70使得生长的铸锭47随着晶种缆绳57上升来通过拉动腔室的内部。即，拉动腔室70可以为可使铸锭经过的通道。

此时，通过在拉动腔室70的周围面设置门71来以确认铸锭47的生长的用途来使用，或若在工序结束的状态下使铸锭分离，则用于对拉动腔室70的内部进行清扫。

参照图2及图3，移动部50设置于拉动腔室70的上部，可包括外罩51、支撑辊55、滚筒53、驱动马达59以及晶种缆绳57。

此时，移动部50通过使得被支撑辊55支撑的晶种缆绳57沿着上下方向移动来使铸锭47向内部坩埚33的外部引出。

另一方面，外罩51以圆筒形状来设置于拉动腔室70的上部，可使内部维持真空状态。此时，支撑辊55设置于外罩51的内部，用于支撑晶种缆绳57，可在支撑辊55的下部形成用于使晶种缆绳上升及下降的升降孔52。

参照图3，晶种缆绳57旋转卡在支撑辊55的外周槽，由于卷绕在滚筒53，因而可通过升降孔52来下降到硅熔液的上部。

参照图3，可在晶种缆绳57的端部设置晶种61及晶种卡盘(未图示)，以便使得所生长的铸锭47上升。在此情况下，若通过驱动马达59来使滚筒53旋转，则晶种缆绳57卷绕在滚筒来使得生长中的铸锭47满满旋转上升。

如图3所示，遮蔽部件39可设置于硅熔液的界面上部，遮蔽部件39可形成在内部具有中空部的圆筒形状，但并不限定于此。遮蔽部件39用于阻隔从硅熔液中释放的热量，以便使得所生长的硅铸锭47得到冷却。

另一方面，若单晶铸锭47的生长结束，则使单晶铸锭从铸锭生长装置20分离。在此情况下，为了使单晶铸锭47继续生成，向外部坩埚31流入的原料通过内部坩埚33的移动孔35来连续向内部坩埚的内部供给。

在此情况下，内部坩埚33的外周面、内部坩埚33的内周面以及外部坩埚31的内周面与高温的硅熔液相接触，因此，有可能从达到高温的内部坩埚33以及外部坩埚31产生杂质。

参照图1，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1通过具有储存容器5、引导部6以及驱动部10来能够以防止达到高温的坩埚的变形并防止从坩埚产生杂质的方式对坩埚进行涂敷。

为了防止从内部坩埚33产生杂质，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1可同时有效地对内部坩埚33的两面进行涂敷，例如，可同时有效地对内周面和外周面进行涂敷。

图5为示出本发明一实施例的坩埚涂敷装置的简图。

参照图1及图5，在本发明的一实施例中，储存容器5可在一面形成容纳槽5a，例如，可在储存容器的上部面形成容纳槽5a，以便容纳用于对内部坩埚33以及外部坩埚31进行涂敷的涂敷液3。

并且，在本发明的一实施例中，储存容器5可使剖面呈四边形、圆形或多边形，但只要是能够在内部容纳涂敷液3的结构，则不受任何限制。

另一方面，在本发明的一实施例中，涂敷液3可由铝、镁、钙、钛、锆、镭、铬、硒、钡、钇、铈、铪、钽、锡以及硅复合材料中的至少一种形成，但并不限定于此。

涂敷液3可通过在去离子水(DI Water，DeIonize water)熔解醋酸钡而成。在此情况下，去离子水为不存在离子的纯水。另一方面，在本发明的一实施例中，为了通过提高涂敷液3的附着性来提高石英坩埚与钡之间的表面附着力，可向涂敷液添加干式二氧化硅(Fumed Silica)。

参照图1，在本发明的一实施例中，可在储存容器5的一侧面形成排出口5b，例如，在图1中，可在储存容器的左侧面沿着储存容器的第二方向来形成排出口5b。

并且，储存容器5的排出口5b与开闭部6相结合来可使涂敷坩埚的涂敷液3通过排出口5b向外部排出。此时，开闭部6可使用开闭阀，但并不限定于此。

开闭部6与把手6a相连接，通过使把手旋转，来使排出口通过开闭部选择性地开闭。

参照图5，在本发明的一实施例中，储存容器5的底面5c能够随着远离排出口5b而逐渐按规定角度(θ)向上倾斜。由此，储存于储存容器5的涂敷液3沿着底面5c流动并聚集在排出口5b侧。

另一方面，引导部6可包括第一引导部件7以及第二引导部件9。此时，参照图1及图5，第一引导部件7及第二引导部件9设置于储存容器5的内部，例如设置于内侧面，可沿着储存容器的宽度方向互相并排延伸。

参照图1，第一引导部件7及第二引导部件9可形成杆形状。在此情况下，第一引导部件7及第二引导部件9能够以可旋转的方式与储存容器5的内侧面相结合。

并且，第一引导部件7及第二引导部件9隔开规定间隔，可在第一引导部件7与第二引导部件9之间配置内部坩埚33。

此时，位于第一引导部件7与第二引导部件9之间的内部坩埚33可通过与第一引导部件的一部分及第二引导部件的一部分面接触来支撑内部坩埚。

并且，由此使得本发明一实施例的坩埚涂敷装置1通过第一引导部件7及第二引导部件9的旋转来使内部坩埚33旋转。

另一方面，本发明一实施例的坩埚涂敷装置1可具有驱动部10，以便使第一引导部件7及第二引导部件9旋转。

在本发明的一实施例中，驱动部10可包括旋转部件11、驱动齿轮13及从动齿轮15、驱动滑轮17、从动滑轮19及驱动带16。

参照图1，旋转部件11以杆形状来形成于储存容器5的一侧面，例如，如图1所示，形成于储存容器的左侧面部来可使得驱动齿轮13以与储存容器5的宽度方向并排形成的旋转轴为中心进行旋转。

在此情况下，通过使旋转部件11旋转来产生使得引导部6进行旋转的旋转力，即，产生使得第一引导部件7及第二引导部件9进行旋转的旋转力，但并不限定于此，可利用旋转马达(未图示)来使引导部6旋转。

另一方面，在本发明的一实施例中，驱动齿轮13可与旋转部件11的旋转轴相结合。在此情况下，驱动齿轮13可通过向与第一引导部件7相连接的从动齿轮15传递旋转力来使第一引导部件7进行旋转。

并且，从动齿轮15可通过与第一引导部件7的一端部相连接来接收驱动齿轮13的旋转力。在此情况下，驱动齿轮13和从动齿轮15可通过啮合来传递旋转力。

在此情况下，驱动齿轮13及从动齿轮15可使用链轮齿等的材质。

另一方面，参照图1，第一引导部件7的一侧与驱动滑轮17相结合，第二引导部件9的一侧与从动滑轮19相结合，驱动滑轮和从动滑轮可通过驱动带16相连接。

在此情况下，通过从动齿轮15传递的第一引导部件7的旋转力通过驱动带16向从动滑轮19传递，从而可使第二引导部件9进行旋转。像这样，若利用驱动带16，则可向位于远距离的从动滑轮19传递旋转部件11的旋转力。

另一方面，在本发明的一实施例中，为了传递旋转力，驱动齿轮13、从动齿轮15、驱动滑轮17以及从动滑轮19均可形成圆盘形状。

参照图6，利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置的坩埚涂敷方法可包括：对坩埚的表面进行预处理的步骤(步骤S10)；制备用于在上述坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤(步骤S20)；利用上述涂敷液来同时对上述坩埚的内侧面以及外侧面进行涂敷的步骤(步骤S30)；以及对经过涂敷的上述坩埚进行干燥以及热处理的步骤(步骤S40)。

由此，可防止在基于丘克拉斯基法来实现单晶铸锭生长过程的期间达到高温的坩埚的变形，并可防止从坩埚释放杂质。并且，利用本发明一实施例的坩埚涂敷装置的坩埚涂敷方法可通过经坩埚的表面结晶化来强化耐热特性及表面硬度。

另一方面，在对坩埚的表面进行预处理的步骤(步骤S10)中，为了对坩埚的表面进行涂敷，在进行涂敷之前，对坩埚的表面施加化学、物理作用，来进行预备处理。

在对坩埚的表面进行预处理的步骤(步骤S10)中，可在去离子水中对石英坩埚进行清洗。在此情况下，去离子水可为18MΩ以上。通过去离子水进行清洗的石英坩埚可通过缓冲氧化物蚀刻剂(BOE，Buffered Oxide Etchant)稀释液或氢氟酸(HF)稀释液进行清洗。

并且，在对坩埚的表面进行预处理的步骤(步骤S10)中，对于石英坩埚而言，使用漂洗剂及清洗剂来对石英坩埚的表面实施亲水处理。

在制备用于在坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤(步骤S20)中，制备可对经预处理的石英坩埚的表面进行涂敷的涂敷液。

在制备用于在坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤(步骤S20)中，可在作为溶剂的去离子水中熔解0.1wt％至3wt％的作为溶质的醋酸钡(C₄H₆O₄Ba)。在此情况下，为了通过提高涂敷液3的附着性来提高石英坩埚与钡之间的表面附着力，可向涂敷液添加干式二氧化硅。

另一方面，在本发明的一实施例中，可向涂敷液添加0.5wt％至3wt％的添加剂。在此情况下，添加剂可以为分散剂、粘结剂(Binder)以及增稠剂。分散剂可以为胺类、氨类、聚酯类、聚丙烯酸酯类以及聚氨基甲酸乙酯类。

并且，粘结剂可以为乙烯类、丙烯酸类以及纤维素类，增稠剂可以为纤维素类、糖类、丙烯酸类、二氧化硅类以及聚氨基甲酸乙酯类。

另一方面，在制备用于在坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤(步骤S20)中，可通过搅拌所添加的成分来好好地进行分散。

在本发明的一实施例中，可通过利用上述涂敷液来同时对坩埚的内侧面以及外侧面进行涂敷的步骤(步骤S30)来同时对石英坩埚内周面和外周面进行涂敷，从而可使容纳于达到高温的坩埚内部的硅熔液免受污染。并且，可防止达到高温的坩埚的变形。

在利用上述涂敷液来同时对坩埚的内侧面以及外侧面进行涂敷的步骤(步骤S30)中，向储存容器5投入规定量的涂敷液，并向本发明一实施例的坩埚涂敷装置安装石英坩埚，之后，通过启动驱动部来同时对坩埚内周面以及外周面进行涂敷。

在本发明的一实施例中，对经过涂敷的坩埚进行干燥以及热处理的步骤(步骤S40)通过对涂敷有涂敷液的石英坩埚进行热处理来进行干燥并促进表面结晶化。

在对经过涂敷的坩埚进行干燥以及热处理的步骤(步骤S40)中，可通过在100度至200度的温度下对石英坩埚进行1个小时至2个小时的热处理或自然干燥，来达到完全干燥。并且，可促进通过在800度至1000度的温度下进行1个小时至2个小时的热处理来干燥的石英坩埚的表面结晶化。

这样一来，利用涂敷液3进行涂敷的石英坩埚可使得平均表面硬度从403HLD提高到739HLD，使得石英坩埚的表面从非晶质结晶成方英石，从而可提高表面硬度及热耐久性。

此时，醋酸钡在石英坩埚表面起到催化剂的作用，从而可使石英坩埚的表面实现结晶化。

本发明一实施例的坩埚涂敷装置通过具有驱动部来使内部坩埚进行旋转，由此同时对内部坩埚的内部面和外部面进行涂敷，从而可防止达到高温的坩埚产生杂质。

并且，本发明一实施例的坩埚涂敷装置可通过同时涂敷内部坩埚的内部面和外部面来避免容纳于内部坩埚内部的硅熔液受到污染。

以上，对本发明的一实施例进行了说明，但本发明的思想并不限定于在本说明书中所提及的实施例，理解本发明的思想的本发明所属技术领域的普通技术人员可在相同的思想范围内通过结构要素的增加、变更、删除、追加等来轻松提出其他实施例，但这也属于本发明的思想范围内。

产业上的可利用性

Claims

1.一种坩埚涂敷装置，用于对坩埚进行涂敷，其特征在于，

所述坩埚涂敷装置包括：

储存容器，在一面形成有容纳槽，以便容纳用于对上述坩埚进行涂敷的涂敷液；

引导部，设置于所述储存容器的内部，通过沿着第一方向延伸来支撑所述坩埚；以及

驱动部，通过与所述引导部相连接来使所述引导部以与所述第一方向并排形成的旋转轴为中心而旋转，随之使所述坩埚沿着圆周方向旋转，从而通过使所述坩埚与所述涂敷液相接触来对所述坩埚进行涂敷。

2.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，

所述引导部呈杆形状，且包括：

第一引导部件，与所述驱动部相连接；以及

第二引导部件，与所述第一引导部件并排设置，来接收所述第一引导部件的旋转力，

在所述第一引导部件与所述第二引导部件之间配置所述坩埚，从而随着所述第一引导部件及所述第二引导部件的旋转来使得所述坩埚旋转。

3.根据权利要求2所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，

所述驱动部包括：

杆形状的旋转部件，设置于所述储存容器的一侧，与所述第一引导部件相连接来使所述第一引导部件旋转；

驱动齿轮，以能够旋转的方式与所述旋转部件相结合；以及

从动齿轮，与所述第一引导部件相结合，与所述驱动齿轮相连接来接收所述驱动齿轮的旋转力。

4.根据权利要求3所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述驱动部包括：

驱动滑轮，与所述第一引导部件的一侧相结合，用于传递所述从动齿轮的旋转力；

从动滑轮，与所述第二引导部件的一侧相结合，用于向所述第二引导部件传递所述驱动滑轮的旋转力；以及

驱动带，一侧与驱动滑轮相结合，另一侧与从动滑轮相结合，来向从动滑轮传递驱动滑轮的旋转力。

5.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述涂敷液由铝、镁、钙、钛、锆、镭、铬、硒、钡、钇、铈、铪、钽、锡以及硅复合材料中的至少一种形成。

6.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述涂敷液通过使醋酸钡溶解在去离子水中后添加干式二氧化硅而成。

7.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，

所述涂敷液中添加有添加剂，

所述添加剂为分散剂、粘结剂及增稠剂中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述分散剂为胺类、氨类、聚酯类、聚丙烯酸酯类以及聚氨基甲酸乙酯类中的至少一种。

9.根据权利要求7所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述粘结剂为乙烯类、丙烯酸类以及纤维素类中的至少一种。

10.根据权利要求7所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述增稠剂为纤维素类、糖类、丙烯酸类、二氧化硅类以及聚氨基甲酸乙酯类中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，

在所述储存容器的一侧面形成与所述容纳槽相连通的排出口，使得所述涂敷液向外部排出，

所述坩埚涂敷装置包括通过与所述排出口相结合来选择性地开闭所述排出口的开闭部。

12.根据权利要求11所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述储存容器的所述容纳槽的底面随着远离所述排出口而逐渐按规定角度向上倾斜。

13.根据权利要求1所述的坩埚涂敷装置，其特征在于，所述坩埚包括：

内部坩埚，能够容纳硅熔液；以及

外部坩埚，包围所述内部坩埚的外部面并向内部坩埚供给原料。

14.一种坩埚涂敷方法，通过权利要求1至13中任一项所述的坩埚涂敷装置对坩埚进行涂敷，其特征在于，所述坩埚涂敷方法包括：

对所述坩埚的表面进行预处理的步骤；

制备用于在所述坩埚的表面进行涂敷的涂敷液的步骤；

利用所述涂敷液来同时对所述坩埚的内侧面以及外侧面进行涂敷的步骤；以及

对经过涂敷的所述坩埚进行干燥以及热处理的步骤。