CN108292592B - 压印装置及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明介绍了一种压印装置及方法。本发明的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。

Description

压印装置及方法
技术领域
本发明涉及一种用模加压被涂覆于基板表面的树脂来转印图案的压印装置及方法。
背景技术
纳米压印光刻工程是一种既经济又能够有效地制作纳米结构物(nano-structure)的技术，是在基材(substrate)上旋涂(spin-coating)或点涂(dispensing)树脂，并将形成有图案的模压于树脂表面来转印(transfer)图案的技术。
纳米压印光刻工程大体可以分为加热式(thermal-type)和紫外线照射方式。
加热式工程被称为热转印(Hot Embossing)或热压印光刻(Thermal ImprintLithography)，是一种使模与形成有高分子层的基材接触后，加热而向高分子层提供流动性，并施加压力来在高分子层上制作出期望的图案的方法。这种加热式工程存在因热变形而难以进行多层对齐的问题，且由于为了压印粘度较大的树脂而需要较高的压力，因而存在图案易碎的问题。
为改善这种加热式工程的问题而开发的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程是一种使用低粘度光硬化性树脂和用于硬化其的紫外线的方法，由于能够以常温低压执行工程，因而适宜进行多层化和大量生产。
以往的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程中，若先在基板上涂覆紫外线硬化用树脂后，利用模施压，则硬化用树脂将填补模的图案之间。此时，由于粘度低，即使在较低的压力下也能用树脂容易填补模的图案之间。之后，若由UV光源通过透明的模对树脂进行感光，则树脂被硬化。之后，若摘下模，则图案之间将残留有残余层，通过氧灰化去除该残余层来完成工程。
在上述以往的紫外线照射方式的工程中，也会在模的表面涂覆自组装单分子膜来改善脱模性，但存在所需涂覆处理时间较长、产品的生产性下降的问题。
此外，在对模进行另外的涂覆处理的情况下，存在价格竞争力下降，且另外形成的涂覆层在基板与模的分离时会粘染使得模难以再使用的缺点。
进一步地，由于模的再使用性下降，需要只向一方向移送模，因而生产性下降，而树脂涂覆过程等在另外的场所或装备中进行导致无法进行连续性的工程，因而存在需要较多的作业空间，且需要较多的作业时间的问题。
作为上述背景技术所说明的事项只用于增进对本发明的背景的理解，不能理解为认同属于对本领域的一般的技术人员已公知的现有技术。
现有技术文献
专利文献1：KR 10-2012-0127731(2012.11.23)
发明内容
技术问题
本发明的目的在于提供一种改善了脱模性且能够再使用模的压印装置及方法。
技术方案
用于达成这种目的的本发明的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。
所述压印装置的特征在于，所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。
所述压印装置的特征在于，还包括移送部，其移送所述模，所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。
所述压印装置还包括控制部，其对所述模与所述基板的结合或分离次数进行计数，并根据所设定的次数控制所述移送部将所述模更换为新的模。
所述压印装置还包括控制部，其检查在所述分离部分离的模的表面状态，根据所述表面状态控制所述移送部将所述模更换为新的模。
所述压印装置的特征在于，所述表面改性部、结合部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。
所述压印装置的特征在于，所述结合部、表面改性部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。
所述模包括相互间隔规定间距而设置于所述移送部上的第一模和第二模，所述表面改性部包括隔着所述结合部分别间隔规定间距而设置的第一表面改性部和第二表面改性部，所述分离部包括隔着所述结合部和所述表面改性部分别间隔规定间距而设置的第一分离部和第二分离部，所述移送部将在所述第一、第二分离部中的任一个分离的所述第一或第二模移送至所述第一、第二表面改性部中的任一个。
所述压印装置还包括涂覆部，其用树脂涂覆所述基板上部。
所述涂覆部包括：旋涂部，其在所述基板上部涂覆液体树脂；以及干燥部，其干燥所述树脂。
所述结合部包括：腔室，其维持低真空状态，以能够防止异物流入；以及硬化部，其使所述基板上的树脂硬化。
所述压印装置的特征在于，所述移送部包括：PET膜；第一辊，其供所述PET膜的一端结合而卷绕；以及第二辊，其供所述PET膜的另一端结合而卷绕且与所述第一辊间隔规定间距而配置，所述模形成于所述PET膜上。
所述压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；以及工作部，其将所述模冲压于所述基板，以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板，并从所述基板松释所述模。
一种压印方法，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；以及从被冲压的所述基板松释所述模的过程。
所述压印方法的特征在于，执行所述等离子处理的过程，以能够再使用经所述松释的过程的所述模。
所述压印方法还包括将经所述松释的过程的模中执行了所设定的冲压或松释次数的模更换为新的模的过程。
一种压印方法，其特征在于，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；向另一方向移送所述模而进行等离子处理以对被松释的所述模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。
一种压印方法，其特征在于，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；向另一方向移送所述模而对被松释的所述模的表面进行等离子处理的过程；向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。
一种压印方法，利用形成有图案的第一、第二模冲压两个以上的基板，所述压印方法的特征在于，进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性而将所述第一模冲压于第一基板，并进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性后，从所述第一基板松释被冲压的所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模冲压于第二基板。
所述压印方法的特征在于，包括：进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述第一模而将进行了等离子处理的所述第一模的图案冲压于第一基板的过程；向一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述第一、第二模而从被冲压的所述基板松释所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模的图案冲压于第二基板的过程；向另一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对被松释的所述第一模的表面进行改性的过程；以及向另一方向移送所述第一、第二模而将进行了等离子处理的所述第一模的图案冲压于第三基板的同时，从被冲压的所述第二基板松释所述第二模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。
所述压印方法的特征在于，所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。
一种压印装置，其特征在于，包括：结合部，其以使进行了表面处理的模的图案能够被冲压于基板；分离部，其分离被结合的所述模和所述基板的方式，结合所述模和所述基板；以及移送部，其移送所述模，所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述结合部而再使用所述模。
一种压印方法，其特征在于，包括：将进行了表面处理的模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；向另一方向移送所述模而将进行了表面处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。
发明的效果
根据本发明，能够实现如下多种效果。
第一，改善模的脱模性。
第二，具有能够缩短工程时间和费用的优点。
第三，具有能够再使用模的优点。
附图说明
图1是示出本发明的实施例1的压印装置的图；
图2是示出本发明的实施例1的压印方法的图；
图3是示出本发明的实施例1的压印方法的图；
图4是示出本发明的实施例1的压印方法的图；
图5是示出本发明的实施例2的压印装置的图；以及
图6是示出本发明的实施例2的压印方法的图。
符号说明
10-结合部，12-压制部，14-硬化部，16-腔室，20-表面改性部，22-第一表面改性部，24-第二表面改性部，30-分离部，32-第一分离部，34-第二分离部，40-移送部，50-涂覆部，52-旋涂部，54-干燥部，M1-第一模，M2-第二模，B1-第一基板，B2-第二基板，B3-第三基板，B-基板，R1、R2-一对辊。
具体实施方式
本发明的目的、一些特定的优点和新的特征将从与附图相关的以下详细说明和实施例中变得更清楚。需要注意的是，本说明书中，在对各图的构成要素附加参照符号时，对于相同的构成要素，即使标示于其他图中，也尽量使其具有相同的编号。此外，第一、第二等术语可以使用于说明多种构成要素，但这些构成要素不应限定于这些术语。这些术语仅用作区分一个构成要素与另一构成要素的目的。此外，在说明本发明的过程中，当判断为对相关公知技术的具体说明有可能不必要地使本发明的要旨不清楚时，省略其详细说明。
下面参照附图对本发明的实施例进行说明。
如图1至图6所图示，本发明的压印装置包括表面改性部20、结合部10、分离部30以及移送部40。
本发明的压印装置及方法是对模M表面进行改性来改善模M与基板B的脱模性，并往复移送模M，从而能够再使用模M的技术。
模M在功能上被区分为母模(Master mold)和复制模(replica mold)区分，且可以根据材料区分为多种，如Si模、Ni模，Resin模等。
本发明中，模M可以形成于PET膜上，根据设计者的意图，上述模M可以形成有多种图案，也可以选自多种材料而制作。
移送部40发挥向正方向或逆方向移送上述模M的功能。在模M形成于PET膜的情况下，上述移送部40可以被设计为包括一对辊R1、R2的结构，在将PET膜的两端分别固定于一对辊R1、R2的状态下，若将一对辊R1、R2从左向右侧方向(以下，称“正方向”)或从右向左侧方向(以下，称“逆方向”)旋转，则形成于PET膜的模M也向正方向或逆方向移动，即能够进行往复移送。
此时，移送部40可以将在分离部30分离的模M移送至表面改性部20，以能够进行等离子处理而再使用。
这种移送部40可以由输送带或机械臂等多种机构代替。
表面改性部20对形成有图案的模M表面进行改性而改善模M的脱模性，其发挥在大气压下对模M表面进行等离子处理的功能，优选对包括空气(Air)或氩气(Ar)、氧气(O2)、氮气(N2)中的任一个的气体施加RF(射频，Radio Frequency)来形成等离子，并对模M表面进行改性。
进行等离子处理时，若超过80℃，则模M会融化或弯曲，因而优选在80℃以下低温下进行等离子处理。
此外，为改善模M表面的改性效果，优选在大气压等离子的RF天线与RF电源之间施加等离子匹配器(Matcher)来使负载阻抗和电源阻抗匹配。
结合部10包括压制部12，其冲压进行了等离子处理的模M，以使图案能够被转印于基板B。
分离部30发挥在图案被转印于基板后，从基板松释模M的功能。
如此，为了结合、分离模M与基板B，虽然可以单独设置结合部10和分离部30，但也可以引入同时发挥冲压和松释功能的工作部(未图示)。
例如，若工作部(未图示)由通过打开/关闭控制能够进行长度伸长和缩小的活塞杆乃至机械臂构成，则模M将随着通过工作部(未图示)向下方进行动作来冲压基板，并随着向上方工作来从基板脱离。
此外，工作部(未图示)也可以被具体化为利用移送部40而能够移动的结构，即，当位于腔室16时，在打开(ON)状态下使模M下降而压制基板B来进行冲压过程，而当位于分离部30时，从关闭(OFF)状态恢复至原位置而与基板B分离来进行松释过程。
另一方面，本发明的压印装置还包括控制部(未图示)。
为了再使用模M，控制部控制移送部以将现有的模更换为新的模。具体而言，控制部也可以对模M与基板的结合或分离次数进行计数而根据所设定的次数将模M更换为新的模。或者，也可以检查在分离部30分离的模M表面状态而根据表面状态将模M更换为新的模。
[实施例1]
在本发明的实施例的压印装置中，如图1所图示，表面改性部20、结合部10以及分离部30可以相互间隔规定间距而沿正方向依次设置，如图2所示，结合部10、面改性部20以及分离部30也可以相互间隔规定间距而沿模M的正方向依次设置。
此外，如图3所图示，也可以使图1的表面改性部20和分离部30的位置彼此置换而设置。
这种表面改性部20、结合部10以及分离部30的位置可以根据设计者的意图进行多种变形设置。
另一方面，本发明的压印装置还包括涂覆部50。
基板B在涂覆部50被涂覆后，周期性地被供应至结合部10，涂覆部50用树脂涂覆基板B上部，而根据本发明，具有能够进行从基板B的涂覆到图案转印的连续性的工程的优点。
涂覆部50包括旋涂部52和干燥部54，旋涂部52发挥旋转基板而使树脂通过离心力被均匀地涂覆于基板B上的功能，干燥部54发挥干燥被均匀地涂覆于基板B上的树脂的功能。
如此，若树脂被均匀地涂覆于基板B并干燥，则基板B被移送至结合部10。
除了压制部12外，结合部10可以包括：腔室16，其维持低真空状态，以能够防止异物流入；以及硬化部14，其使基板B上的树脂硬化。
下面参照附图对本发明的压印方法进行说明。
如图1、图2所图示，在涂覆部50的旋涂部52旋转第一基板B1而使树脂通过离心力被均匀地涂覆于基板B上，并在干燥部54干燥被均匀地涂覆的树脂。
在树脂被涂覆而干燥的状态下，第一基板B1被供应至结合部10的低真空腔室16。
另一方面，随着模M通过表面改性部20对模M进行大气压等离子处理，经等离子处理而进行了表面改性的模M将随着被向正方向移送而位于低真空腔室16上，并随着通过压制部12的动作使模M和基板B结合而进行使模M的图案被转印于基板B的冲压过程。
在腔室16结合的模M和基板B随着移送部40的动作再次向正方向移动，模M和基板B将以被结合的状态位于分离部30，并在分离部30使模M和基板B分离。
之后，从上向左侧方向(以下，称“逆方向”)移送模M而再次对模M表面进行等离子处理，并再次向正方向移送模M而使模M图案被冲压于新的基板B后，向正方向移送模M而松释新的基板，这种过程被反复而连续地进行。
另一方面，参照图3对本发明的压印方法的实施例进行说明。
如图3所图示，本发明的压印方法以如下过程进行：对形成有图案的模M表面进行等离子处理，并向逆方向移送模M而将M图案冲压于基板B后，向正方向移送模M而松释基板B。
之后，执行进行等离子处理的过程，以能够再使用经松释的过程的模M。
具体而言，向逆方向移送模M而再次对模M表面进行等离子处理，并再次向逆方向移送模M而将模M图案冲压于新的基板B后，向正方向移送模M而松释新的基板。
反复且连续性地进行上述各个过程从而缩短工程时间，并改善生产性。
此外，本发明还可以包括将经松释的过程的模中执行了所设定的冲压或松释次数的模更换为新的模的过程。具体而言，为更换模，移送部40进行动作以使邻接于现有模的新的模来到现有模的位置。
另一方面，图4是本发明的压印方法的又一实施例。根据上述一实施例(参照图2)的装置结构，这种压印方法仅在动作顺序上不同，因而以对上述一实施例的说明代替。
[实施例2]
以下，在说明实施例2的过程中，为方便起见，将省略对与实施例1相同的结构的说明。
如图5所图示，本发明的另一实施例的压印装置中，模M包括相互间隔规定间距而设置于移送部40上的设置的第一模M1和第二模M2，表面改性部20包括隔着结合部10分别间隔规定间距而设置的第一表面改性部22和第二表面改性部24，分离部30包括隔着结合部10和表面改性部20分别间隔规定间距而设置的第一分离部32和第二分离部34。另外，移送部40将在第一、第二分离部32、34中的任一个分离的第一或第二模M1或M2移送至第一、第二表面改性部22、24中的任一个。
具体而言，从左向右侧方向(以下，称“正方向”)固定设置有第二分离部34、第二表面改性部24、结合部10、第一表面改性部22以及第一分离部32。
移送部40在这种固定的线上向正方向或逆方向往复移动，移送部40上设置有第一模M1和第二模M2。
第一模M1和第二模M2在第一表面改性部22、第二表面改性部24进行表面改性，并分别在结合部10与基板B结合后，在第一分离部32和第二分离部34分别从基板B分离，基板B在涂覆部50被涂覆后，周期性地被供应至结合部10。
下面参照附图图5和图6对本发明的压印方法的另一实施例进行说明。
本发明的另一实施例为利用形成有图案的第一、第二模M1、M2冲压两个以上的基板的压印方法，其技术特征在于，同时进行分别对第一、第二模M1、M2冲压的过程和松释的过程。由此，能够提高生产性。
即，进行等离子处理以对第一模M1表面进行改性，并冲压于第一基板B1，并进行等离子处理以对第二模M2表面进行改性后，从第一基板B1松释被冲压的第一模M1的同时，将进行了等离子处理的第二模M2冲压于第二基板B2。
下面按照过程对利用图5的压印装置的压印方法进行具体说明。
在涂覆部50的旋涂部52旋转第一基板B1以使树脂通过离心力被均匀地涂覆于基板B上，并在干燥部54干燥被均匀地涂覆的树脂。
在树脂被涂覆而干燥的状态下，第一基板B1被供应至结合部10的低真空腔室16。
另一方面，随着第一模M1通过第二表面改性部24对第一模M1进行大气压等离子处理，经等离子处理而进行了表面改性的第一模M1将随着被向正方向移送而位于低真空腔室16上，并随着通过压制部12的动作使第一模M1和第一基板B1结合，进行使第一模M1的图案被转印于第一基板B1的冲压过程。
此时，与第一模M1在相同的PET膜上间隔规定间距而设置的第二模M2将位于第二分离部34上，而第二分离部34不另行进行动作，而是维持等待状态。
在腔室16结合的第一模M1和第一基板B1随着移送部40的动作再次向正方向移动。
若第一模M1和第一基板B1以被结合的状态移动至第一表面改性部22，则第二模M2将位于第二表面改性部24。
此时，第一表面改性部22不另行工作，只有第二表面改性部24工作来对第二模M2表面进行等离子处理并进行改性。
若第二模M2表面被改性，则移送部40再次工作来移送第二模M2、被结合的状态的第一模M1与第一基板B1，第一模M1与第一基板B1将以被结合的状态位于第一分离部32，第二模M2被移送至结合部10。
之后，在第一分离部32使第一模M1与第一基板B1分离。
在进行第一模M1与第一基板B1的分离过程的同时，第二模M2与在涂覆部50进行涂覆处理而在腔室16内部等待中的第二基板B2结合，从而使第二模M2的图案被转印于第二基板B2。
第一模M1与第一基板B1的分离以及第二模M2与第二基板B2的结合过程结束后，移送部40向逆方向移送第一模M1、被结合的状态的第二模M2与第二基板B2，第一模M1将位于第一表面改性部22，第二模M2与第二基板B2将以被结合的状态位于第二表面改性部24。
此时，第一表面改性部22为打开ON状态，并对第一模M1表面进行等离子处理。在进行该过程的期间内，第二表面改性部24为关闭(OFF)状态，不另行进行动作。
若第一模M1表面的等离子处理结束，则移送部40再次向逆方向进行，在第一模M1位于结合部10的腔室16内部的同时，第二模M2和第二基板B2将位于第二分离部34。
之后，第一模M1与在腔室16内部等待中的第三基板B3结合，并在第二分离部34解除第二模M2与第二基板B2的结合状态。
另一方面，本发明的又一实施例的压印装置的技术特征在于，虽然为改善脱模性利用诸如等离子处理的物理方式，但利用通过诸如涂覆层形成的化学方式进行表面处理的模。
上述具体描述的压印装置包括：结合部，其以使通过物理或化学方式进行了表面处理的模的图案能够被冲压于基板的方式，结合模和基板；分离部，其分离被结合的模和基板；以及移送部，其移送模。另外，移送部构成为将在分离部分离的模移送至结合部而再使用模。
利用这种压印装置的压印方法包括：将通过物理或化学方式进行了表面处理的模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送模而从被冲压的基板松释模的过程；向另一方向移送模而将进行了表面处理的模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送模而从被冲压的新的基板松释所述模的过程。另外，这种各个过程被反复而连续地进行。
尽管上面以本发明的实施例为中心进行了说明，但可以基于本发明的实施例对上述表面改性部、结合部、分离部等的构成要素的个数或配置形态等进行多种变形，显而易见地，这种变形例也落入本发明的权利范围内。

Claims (21)

1.一种压印装置，其特征在于，包括：
表面改性部，其对形成有图案的模表面进行等离子处理；
结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；
分离部，其分离被结合的所述模和所述基板；以及
移送部，其移送所述模，
所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。
2.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。
3.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
还包括控制部，其对所述模与所述基板的结合或分离次数进行计数，并根据所设定的次数控制所述移送部将所述模更换为新的模。
4.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
还包括控制部，其检查在所述分离部分离的模表面状态，根据所述表面状态控制所述移送部将所述模更换为新的模。
5.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述表面改性部、结合部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。
6.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述结合部、表面改性部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。
7.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述模包括相互间隔规定间距而设置于所述移送部上的第一模和第二模，
所述表面改性部包括隔着所述结合部分别间隔规定间距而设置的第一表面改性部和第二表面改性部，
所述分离部包括隔着所述结合部和所述表面改性部分别间隔规定间距而设置的第一分离部和第二分离部，
所述移送部将在所述第一、第二分离部中的任一个分离的所述第一或第二模移送至所述第一、第二表面改性部中的任一个。
8.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
还包括涂覆部，其用树脂涂覆所述基板上部。
9.根据权利要求8所述的压印装置，其特征在于，
所述涂覆部包括：
旋涂部，其在所述基板上部涂覆液体树脂；以及
干燥部，其干燥所述树脂。
10.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述结合部包括：
腔室，其维持低真空状态，以能够防止异物流入；以及
硬化部，其使所述基板上的树脂硬化。
11.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，
所述移送部包括：
PET膜；
第一辊，其供所述PET膜的一端结合而卷绕；以及
第二辊，其供所述PET膜的另一端结合而卷绕且与所述第一辊间隔规定间距而配置，
所述模形成于所述PET膜上。
12.一种压印装置，其特征在于，包括：
表面改性部，其对形成有图案的模表面进行等离子处理；
工作部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，将所述模冲压于所述基板，并从所述基板松释所述模；以及
移送部，其移送所述模，
所述移送部将在所述工作部松释的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。
13.一种压印方法，其特征在于，包括：
进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；
将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；以及
从被冲压的所述基板松释所述模的过程，
执行所述等离子处理的过程，以能够再使用经所述松释的过程的所述模。
14.根据权利要求13所述的压印方法，其特征在于，
还包括将经所述松释的过程的模中执行了所设定的冲压或松释次数的模更换为新的模的过程。
15.一种压印方法，其特征在于，包括：
进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；
向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；
向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；
向另一方向移送所述模而进行等离子处理以对被松释的所述模的表面进行改性的过程；
向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及
向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，
所述的各个过程被反复而连续地进行。
16.一种压印方法，其特征在于，包括：
进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；
向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；
向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；
向另一方向移送所述模而对被松释的所述模的表面进行等离子处理的过程；
向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及
向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，
所述的各个过程被反复而连续地进行。
17.一种压印方法，利用形成有图案的第一、第二模冲压两个以上的基板，所述压印方法的特征在于，
进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性而将所述第一模冲压于第一基板，并进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性后，从所述第一基板松释被冲压的所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模冲压于第二基板。
18.根据权利要求17所述的压印方法，其特征在于，包括：
进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性的过程；
向一方向移送所述第一模而将进行了等离子处理的所述第一模的图案冲压于第一基板的过程；
向一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性的过程；
向一方向移送所述第一、第二模而从被冲压的所述基板松释所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模的图案冲压于第二基板的过程；
向另一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对被松释的所述第一模的表面进行改性的过程；以及
向另一方向移送所述第一、第二模而将进行了等离子处理的所述第一模的图案冲压于第三基板的同时，从被冲压的所述第二基板松释所述第二模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。
19.根据权利要求13至18中任一项所述的压印方法，其特征在于，
所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。
20.一种压印装置，其特征在于，包括：
结合部，其以使进行了表面处理的模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；
分离部，其分离被结合的所述模和所述基板；以及
移送部，其移送所述模，
所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述结合部而再使用所述模。
21.一种压印方法，其特征在于，包括：
将进行了表面处理的模的图案冲压于基板的过程；
向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；
向另一方向移送所述模而将进行了表面处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及
向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，
所述的各个过程被反复而连续地进行。
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