CN108246750B - 一种大面阵ccd光窗清洁方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种大面阵CCD光窗清洁方法，通过吸尘装置、有机溶剂、涂抹防静电清洁胶等方式对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁。该方法避免了清洁时对CCD芯片产生静电伤害；一次清洁后CCD光窗表面的暗斑像个数降低了约10倍，清洁时间大大缩短；并且降低了相机装配完成后在环境试验中的二次污染。
Description
技术领域
本发明属于光学技术领域，涉及一种大面阵CCD光窗清洁方法。
背景技术
大面阵CCD表面会覆盖有光窗对大面阵CCD进行保护，大面阵CCD光窗一旦被污染会导致以下两点问题：所成图像出现遮挡，无法准确全面的得到所需观测的全部场景照片；如果需要跟踪目标，附着物有可能会遮挡目标，导致任务失败。
大面阵CCD光窗面积约为一般光电产品采用的CCD面阵的约10倍～20倍大小，清洁较为困难。
采用酒精***的混合溶液进行清洁，操作人员接触到***气体，会使人体受到伤害，且这种清洁方式依旧容易留有污斑，并在振动冲击等环境下出现二次污染；采用气吹及清洁棒粘接的方法进行清洁，但是这种清洁方式只能去除浮动类附着物。
发明内容
鉴于上述的分析，本发明提出了一种大面阵CCD光窗清洁方法，解决大面阵CCD光窗清洁困难的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
一种大面阵CCD光窗清洁方法，包括如下步骤：
步骤S1、对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁；所述附着物包括移动附着物和非移动附着物；
步骤S2、采用光学防静电清洁胶对CCD光窗表面上的剩余附着物进行进一步清洁；
步骤S3、目视确认CCD光窗的清洁效果；用手电照射CCD光窗表面，目视检查是否存在可移动附着物，如果存在可移动附着物，用粘接棒轻轻粘除，如果存在非移动附着物，重复步骤S2～步骤S3；
步骤S4、通电检查CCD光窗的清洁效果；将含有镜头的相机装配好后通电，对照度均匀的灯板成像，检查是否存在附着物形成的暗斑像；是，则重复步骤S2～步骤S4；否，则结束清洁工作。
进一步地，所述步骤S1包括以下子步骤：
步骤S101、采用吸尘装置，吸取CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的可移动附着物；
步骤S102、对CCD芯片周边结构框表面上残余的牢固可移动附着物采用粘接纸胶带粘取；
步骤S103、对CCD芯片周边结构框表面上残余的非移动附着物进行清洁；
步骤S104、对CCD光窗表面上残余的非移动附着物进行清洁。
进一步地，所述吸尘装置包括防静电部件，所述防静电部件安装在吸尘装置前端的夹嘴上，包括，软管、金属空心管和导电橡胶；所述软管一端固定安装在吸尘器前端的夹嘴上，另一端与所述金属空心管的一端相连，所述金属空心管的另一端被导电橡胶包裹。
进一步地，清洁时，相机清洁人员手握住所述金属空心管，且所述导电橡胶间或与大面阵CCD光窗接触。
进一步地，所述步骤S103、S104中对残余的非移动附着物的清洁方法是使用清洁工具蘸取有机溶剂对附着物进行擦拭。
进一步地，所述有机溶剂为无水乙醇。
进一步地，所述无水乙醇浓度不小于99％。
进一步地，所述清洁工具为棉质清洁棒，其清洁头为长绒纯棉制成，外观洁净光滑，无浮动毛屑。
进一步地，步骤S2的清洁方法包括：
步骤S201、将光学防静电清洁胶均匀涂抹在CCD光窗面上，清洁胶覆盖住CCD光窗，而后放置在百级洁净度的试验台上，等待胶层干透；
步骤S202、胶层干透后，用粘接胶带粘取CCD芯片周边结构框表面上残余的可移动附着物；
步骤S203、采用非金属细杆轻轻挑起干透的胶层边缘，揭除干透的清洁胶。
进一步地，所述清洁胶为First ContactTM防静电清洁胶。
本发明有益效果如下：
1、避免了清洁时对CCD芯片产生静电伤害；
2、一次清洁后CCD光窗表面的暗斑像个数降低了约10倍；
3、清洁时间由1～3天降低至不超过3小时，大大提升了生产效率；
4、降低了相机装配完成后在环境试验中的二次污染。
附图说明
附图仅用于示出具体实施例的目的，而并不认为是对本发明的限制，在整个附图中，相同的参考符号表示相同的部件。
图1为清洁方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图来具体描述本发明的优选实施例，其中，附图构成本申请一部分，并与本发明的实施例一起用于阐释本发明的原理。
本发明的一个具体实施例，公开一种大面阵CCD光窗清洁方法，如图1所示，包括如下步骤：
步骤一：采用吸尘装置，吸取CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的可移动附着物。
为防止产生静电，损坏相机，所述吸尘装置包括防静电部件。所述防静电部件安装在吸尘装置前端的夹嘴上，包括，软管、金属空心管和导电橡胶，所述软管一端固定在吸尘器前端的夹嘴上，另一端与所述金属空心管的一端相连，所述金属空心管的另一端安装有所述导电橡胶。
所述吸尘装置工作时，相机上的可移动附着物通过金属空心管到软管进入吸尘装置内部。操作时，相机清洁人员必须手腕环套防静电手环，手环与操作台的接地线相连，清洁时工人手握金属管，且导电橡胶间或与大面阵CCD光窗接触。使在吸尘过程中产生的静电通过导电橡胶，传导到金属管上，而后被人体传导至大地。
步骤二：对CCD芯片周边结构框表面上残余的牢固可移动附着物采用粘接纸胶带粘取；
步骤三：对CCD芯片周边结构框表面上残余的非移动附着物进行清洁；
用清洁工具蘸取有机溶剂擦拭CCD芯片周边结构框表面上残余的非移动附着物，所述清洁工具为棉质清洁棒，其清洁头为长绒纯棉制成，外观洁净光滑，无浮动毛屑。
使用清洁棒擦拭后，保证周边框架没有残余的非移动附着物。
所述有机溶剂为刚拆封的无水乙醇，浓度不小于99％，刚拆封时乙醇还未吸附空气中的水分，采用这种乙醇擦拭CCD光窗表面，干透效果较好，不会残留水渍，可以实时观察清洁效果。
步骤四：对CCD光窗表面上残余的非移动附着物进行清洁；
用清洁工具蘸取有机溶剂擦拭CCD光窗表面上残余的非移动附着物，直至用手电照射CCD光窗，人眼看不到CCD光窗表面存在任何附着物；所述清洁工具与有机溶剂与步骤三中相同。
步骤五：采用光学防静电清洁胶对CCD光窗表面上的附着物进行进一步清洁；
1)将光学防静电清洁胶均匀涂抹在CCD光窗面上，清洁胶应覆盖住CCD光窗，而后放置在百级洁净度的试验台上，等待胶层干透；
2)胶层干透后，用粘接胶带粘取CCD芯片周边结构框表面上残余的可移动附着物；
3)采用非金属细杆轻轻挑起干透的胶层边缘，揭除干透的清洁胶。
所述清洁胶为First ContactTM防静电清洁胶，该胶的清洁能力强，且可以防止清洁前后在光窗表面产生静电。
步骤六：目视确认CCD光窗的清洁效果；
用手电照射CCD光窗表面，目视检查是否存在可移动附着物，如果存在可移动附着物，用粘接棒轻轻粘除，如果存在非移动附着物，重复步骤四～步骤六；
步骤七：通电检查CCD光窗的清洁效果；
将相机(含镜头)装配好后通电，对照度均匀的灯板成像，检查是否存在附着物形成的暗斑像，是，则按照步骤四～步骤七对CCD光窗进行重复清洁。
综上所述，本实施例公开的大面阵CCD光窗清洁方法，避免了清洁时对CCD芯片产生静电伤害；一次清洁后CCD光窗表面的暗斑像个数降低了约10倍；清洁时间由1～3天降低至不超过3小时，大大提升了生产效率；降低了相机装配完成后在环境试验中的二次污染。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (1)
1.一种大面阵CCD光窗清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁；所述附着物包括移动附着物和非移动附着物；
步骤S101、采用吸尘装置，吸取CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的可移动附着物；
所述吸尘装置包括防静电部件，所述防静电部件安装在吸尘装置前端的夹嘴上，包括，软管、金属空心管和导电橡胶；所述软管一端固定安装在吸尘装置前端的夹嘴上，另一端与所述金属空心管的一端相连，所述金属空心管的另一端被导电橡胶包裹；
清洁时，相机清洁人员必须手腕环套防静电手环，手环与操作台的接地线相连，相机清洁人员手握住所述金属空心管，且所述导电橡胶间或与大面阵CCD光窗接触；
步骤S102、对CCD芯片周边结构框表面上残余的牢固可移动附着物采用粘接纸胶带粘取；
步骤S103、对CCD芯片周边结构框表面上残余的非移动附着物进行清洁；
步骤S104、对CCD光窗表面上残余的非移动附着物进行清洁；
所述步骤S103、S104中对残余的非移动附着物的清洁方法是使用清洁工具蘸取有机溶剂对残余的非移动附着物进行擦拭，直至用手电照射CCD光窗，人眼看不到CCD光窗表面存在任何附着物；所述有机溶剂为浓度不小于99％的无水乙醇；所述清洁工具为棉质清洁棒，其清洁头为长绒纯棉制成，外观洁净光滑，无浮动毛屑；步骤S2、采用光学防静电清洁胶对CCD光窗表面上的剩余附着物进行进一步清洁；所述清洁胶为First ContactTM防静电清洁胶；
步骤S201、将光学防静电清洁胶均匀涂抹在CCD光窗面上，清洁胶覆盖住CCD光窗，而后放置在百级洁净度的试验台上，等待胶层干透；
步骤S202、胶层干透后，用粘接胶带粘取CCD芯片周边结构框表面上残余的可移动附着物；
步骤S203、采用非金属细杆轻轻挑起干透的胶层边缘，揭除干透的清洁胶；
步骤S3、目视确认CCD光窗的清洁效果；用手电照射CCD光窗表面，目视检查是否存在可移动附着物，如果存在可移动附着物，用粘接棒轻轻粘除，如果存在非移动附着物，重复步骤S2～步骤S3；
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