CN108220412B - 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置 - Google Patents

一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置 Download PDF

Info

Publication number
CN108220412B
CN108220412B CN201810004294.3A CN201810004294A CN108220412B CN 108220412 B CN108220412 B CN 108220412B CN 201810004294 A CN201810004294 A CN 201810004294A CN 108220412 B CN108220412 B CN 108220412B
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
gene sequencing
concave structure
protective layer
plastic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810004294.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108220412A (zh
Inventor
蔡佩芝
庞凤春
耿越
古乐
车春城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810004294.3A priority Critical patent/CN108220412B/zh
Publication of CN108220412A publication Critical patent/CN108220412A/zh
Priority to PCT/CN2018/123109 priority patent/WO2019134547A1/zh
Priority to US16/486,038 priority patent/US11708604B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN108220412B publication Critical patent/CN108220412B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • B01L3/502707—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by the manufacture of the container or its components
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
    • C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
    • C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
    • C12Q1/6869—Methods for sequencing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
    • B01J2219/00277—Apparatus
    • B01J2219/00279—Features relating to reactor vessels
    • B01J2219/00306—Reactor vessels in a multiple arrangement
    • B01J2219/00313—Reactor vessels in a multiple arrangement the reactor vessels being formed by arrays of wells in blocks
    • B01J2219/00315—Microtiter plates
    • B01J2219/00317—Microwell devices, i.e. having large numbers of wells
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00—Additional constructional details
    • B01L2300/08—Geometry, shape and general structure
    • B01L2300/0848—Specific forms of parts of containers
    • B01L2300/0851—Bottom walls
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00—Additional constructional details
    • B01L2300/08—Geometry, shape and general structure
    • B01L2300/0861—Configuration of multiple channels and/or chambers in a single devices
    • B01L2300/0877—Flow chambers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00—Additional constructional details
    • B01L2300/08—Geometry, shape and general structure
    • B01L2300/0896—Nanoscaled
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Clinical Laboratory Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Measuring Or Testing Involving Enzymes Or Micro-Organisms (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)

Abstract

本发明提供一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置，属于基因测序技术领域，其可解决现有的高通量测序芯片制作成本高的问题。本发明的基因测序基板是以塑性材料为衬底，在塑性的面上形成内凹结构作为反应池。由于衬底具有可塑性，这样可以采用简单的工艺形成内凹结构，降低基因测序基板的生产成本。同时，在内凹结构的内壁上增设第一保护层的作用是：保护塑性材料形成的内凹结构的内壁，防止内凹结构的内壁被反应液腐蚀。本发明的基因测序装置是通过将反应池、微流道、进样口和出样口等集成到第一基板和第二基板上从而对液体进行检测，其集成度非常高，所需的测试样品和反应试剂都非常少，然而其检测反应速度快，便于高通量测试等。

Description

一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置
技术领域
本发明属于基因测序技术领域，具体涉及一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置。
背景技术
基因测序技术是现代分子生物学研究中最常用的技术，从1977第一代基因测序发展至今，基因测序技术取得了相当大的发展。其中，基因测序技术的发展过程包括：第一代sanger测序技术，第二代高通量测序技术，第三代单分子测序技术，***纳米孔测序技术；目前市场主流的测序技术仍以第二代高通量测序为主。
第二代高通量测序技术主要包括Illumina的边合成边测序技术，Thermo Fisher的离子半导体测序技术、连接法测序技术和Roche的焦磷酸测序技术等。
目前市场主流二代高通量测序芯片为纳米井测序芯片，占据市场80％以上的份额。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题：现有测序芯片的基因测序基板如图1所示，是以玻璃为衬底，直接在玻璃上形成纳米井。其中，在硬质的玻璃衬底上形成纳米井，需要使用光刻胶进行保护，通过纳米压印形成图案后进行干法刻蚀，形成纳米井后再去除光刻胶。这样制备工艺复杂，制作成本较高，很难被普通消费者承受，故需开发可降低测序成本的其它芯片进行替代。
发明内容
本发明针对现有的高通量测序芯片制作成本高的问题，提供一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是：
一种基因测序基板，包括由塑性材料形成的衬底，所述衬底的一面上设有内凹结构，所述内凹结构为基因测序的反应池；所述内凹结构的内壁上设有第一保护层。
优选的是，所述塑性材料包括PMMA、PDMS、PET中的任意一种或几种。
优选的是，所述反应池的尺寸为10nm-100μm。
优选的是，所述第一保护层的材料包括透明金属氧化物；所述透明金属氧化物包括ITO、IZO、TaOx、HfOx中的任意一种或几种。
本发明还提供一种基因测序基板的制备方法，包括以下制备步骤：
直接在塑性材料的一面上形成内凹结构，所述内凹结构为基因测序的反应池；
在所述内凹结构内壁形成第一保护层。
优选的是，所述直接在塑性材料的一面上形成内凹结构包括采用纳米压印工艺形成；
所述形成内凹结构之前还包括将塑性材料进行加热以使塑性材料软化的步骤；
形成内凹结构之后还包括将塑性材料冷却的步骤。
优选的是，所述直接在塑性材料的一面上形成内凹结构包括采用曝光刻蚀工艺形成。
本发明还提供一种基因测序装置，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板为上述的基因测序基板。
优选的是，所述第二基板上设有与内凹结构连接的进样口和出样口。
优选的是，所述第二基板上设有微流道，用于连接内凹结构与进样口或出样口，所述微流道内壁具有金属氧化物第二保护层。
本发明的基因测序基板是以塑性材料为衬底，在塑性的面上形成内凹结构作为反应池。由于衬底具有可塑性，这样可以采用简单的工艺形成内凹结构，降低基因测序基板的生产成本。同时，在内凹结构的内壁上增设第一保护层的作用是：保护塑性材料形成的内凹结构的内壁，防止内凹结构的内壁被反应液腐蚀。本发明的基因测序装置是通过将反应池、微流道、进样口和出样口等集成到第一基板和第二基板上从而对液体进行检测，其集成度非常高，所需的测试样品和反应试剂都非常少，然而其检测反应速度快，便于高通量测试等。
附图说明
图1为现有的基因测序基板的的制备流程示意图；
图2为本发明的实施例1的基因测序基板的结构示意图；
图3、图4为本发明的实施例2的基因测序基板的结构示意图；
图5、图6为本发明的实施例5的基因测序装置的结构示意图；
图7为本发明的实施例3的基因测序基板的制备方法流程图；
其中，附图标记为：1、玻璃；2、纳米井；3、光刻胶；51、衬底；52、内凹结构；53、第一保护层；6、第二基板；61、微流道；62、进样口；63、出样口。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种基因测序基板，如图2所示，包括由塑性材料形成的衬底51，所述衬底51的一面上设有内凹结构52，所述内凹结构52为基因测序的反应池；所述内凹结构52的内壁上设有第一保护层53。
本实施例的基因测序基板是以塑性材料为衬底51，在塑性的面上形成内凹结构52作为反应池(也可称为纳米井)。其中塑性材料是指：在外力作用下，虽然产生较显著变形而不被破坏的材料。由于衬底51具有可塑性，这样可以采用简单的工艺形成内凹结构52，降低基因测序基板的生产成本。同时，在内凹结构52的内壁上增设第一保护层53的作用是：保护塑性材料形成的内凹结构52的内壁，防止内凹结构52的内壁被反应液腐蚀。
实施例2：
本实施例提供一种基因测序基板，如图3、图4所示，包括由塑性材料形成的衬底51，所述衬底51的一面上设有内凹结构52，所述内凹结构52为基因测序的反应池；所述内凹结构52的内壁上设有第一保护层53。其中，第一保护层53可以如图2所示是整层保护层，也可以如图3的截面所示，仅仅在用于与反应液接触的位置处设置，以节省材料。
作为本实施例中的一种可选实施方案，所述塑性材料包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的任意一种或几种。
也就是说，有现有技术中的刚性的玻璃衬底51不同，本实施例中选用塑性聚合物材料作为衬底51，相较于玻璃衬底51，塑性聚合物衬底51更容易加工出内凹结构52，有效降低的衬底51的成本。
需要说明的是，本实施例中的塑性材料还包括柔性材料，即衬底51还可以由柔性材料构成。其中，柔性(也可称为挠性)材料与刚性彩料相对，其受力后变形，作用力失去之后物体自身不能恢复原来形状，例如聚酰亚胺薄膜(PI)或聚酯薄膜与铜箔复合而成的材料等。
在一个实施例中，所述反应池的尺寸为10nm-100μm。
具体的，本实施例中反应池的横截面的尺寸范围可以是10-1000nm或者1-100μm，其中，当反应池的横截面的尺寸较小时，通常可将反应池称为纳米井，当反应池的横截面的尺寸为1-100μm时，通常可将反应池称为微米井。
在一个实施例中，所述第一保护层53的材料包括透明金属氧化物；所述透明金属氧化物包括ITO、IZO、TaOx、HfOx中的任意一种或几种。
也就是说，第一保护层53可以是一层透明薄膜，透明薄膜的材料选自氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化钽(TaOx)、氧化铪(HfOx)。
可以理解的是，在本实施例对应的附图中，附图所示各结构层的大小、厚度等仅为示意。在工艺实现中，各结构层在衬底51上的投影面积可以相同，也可以不同；同时，附图所示结构也不限定各结构层的几何形状，例如可以是附图所示的矩形，还可以是梯形，或其它刻蚀所形成的形状，同样可通过刻蚀实现。
实施例3：
本实施例提供一种基因测序基板的制备方法，如图7所示，包括以下制备步骤：
S01、将塑性材料进行加热以使塑性材料软化；其中，该步骤中的实际加热温度可以参考材料的玻璃化转变温度。塑性材料选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的任意一种或几种。该步骤中的加热的作用是使得塑性材料***，从而对其表面进行变形以形成内凹结构52。具体的加热温度，可以根据不同材料的选择进行改变。
S02、采用纳米压印工艺直接在塑性材料的一面上形成内凹结构52，所述内凹结构52为基因测序的反应池；
纳米压印是采用绘有纳米图案的刚性压模将塑性材料的表面压出纳米级图形，从而形成纳米结构即内凹结构52。纳米压印可以大批量重复性地在大面积的塑性材料表面上制备纳米图形结构，并且所制出的图案具有相当好的均匀性和重复性。具有制作成本极低、简单易行、效率高等优点。
S03、将塑性材料冷却；
为了方便步骤S02中快速的形成内凹结构52，步骤S01中进行了加热，为了使得基因测序基板更加牢固，在该步骤中将塑性材料冷却至室温。
S04、在所述内凹结构52内壁形成第一保护层53。
本发明的塑性材料(柔性有机衬底51)的耐化学试剂腐蚀能力较弱，因此，本实施例中在内凹结构52内壁增加保护层。具体的，在纳米井及衬底51表面沉积一层金属氧化物保护层，保护层材料主要为透明金属氧化物，例如ITO、IZO、TaOx、HfOx等。
实施例4：
本实施例提供一种基因测序基板的制备方法，其与实施例3的制备方法类似，其与实施例3的区别在于，本实施例采用曝光刻蚀工艺直接在塑性材料的一面上形成内凹结构。
本实施例中采用曝光刻蚀工艺在塑性材料表面形成1～100μm的微米井，该微米井的结构与实施例2的纳米井的结构类似一致。微米井虽然测序通量较纳米井稍低，但测序原理相同；同时本实施例的微米井形成工艺成本较低，可实现量产。
实施例5：
本实施例提供了一种基因测序装置，如图5、图6所示，包括相对设置的第一基板和第二基板6，所述第一基板为上述的基因测序基板。
其中，图5为本实施例基因测序装置的截面图，图6为基因测序装置的侧视示意图。本实施例对应的附图5中显示了：第二基板6设于第一基板上方，第一基板包括由塑性材料形成的衬底51，所述衬底51的一面上设有内凹结构52，所述内凹结构52为基因测序的反应池；所述内凹结构52的内壁上设有第一保护层53。
具体的，所述第二基板6上设有与内凹结构52连接的进样口62和出样口63。
作为本实施例中的一种可选实施方案，所述第二基板6上设有微流道61，用于连接内凹结构52与进样口62或出样口63，所述微流道61内壁具有金属氧化物第二保护层。
其中，进样口62和出样口63均与微流道61联通，这样，可通过进样口62加入各种用于基因测序的试剂，出样口63用于各种废液和试剂的排出。需要说明的是，本实施例的进样口62和出样口63的形状并不限于图5中所示的形状，进样口62和出样口63的形状和尺寸可以根据实际情况进行改变。
本实施例的基因测序装置是通过将反应池、微流道61、进样口62和出样口63，以及生化反应单元(图中未示出)，或其他所需要的功能单元集成到第一基板和第二基板6上，其集成度非常高，且尺度可以为微米级或者纳米级，故所需的测试样品和反应试剂都非常少，然而其检测反应速度快，便于高通量测试等。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种基因测序基板，其特征在于，包括：由塑性材料形成的衬底，所述衬底的一面上设有内凹结构，所述内凹结构为基因测序的反应池；所述内凹结构的内壁上设有第一保护层，其中，所述第一保护层是整层保护层，或，第一保护层是在与反应液接触的位置处设置的膜层；
所述第一保护层的材料为透明金属氧化物；
所述反应池的横截面的尺寸范围是10-1000nm或者1-100μm。
2.根据权利要求1所述的基因测序基板，其特征在于，所述塑性材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚对苯二甲酸乙二醇酯中的任意一种或多种。
3.根据权利要求1所述的基因测序基板，其特征在于，所述透明金属氧化物包括氧化铟锡、氧化铟锌、氧化钽、氧化铪中的任意一种或多种。
4.一种基因测序基板的制备方法，其特征在于，包括：以下制备步骤：
直接在塑性材料的一面上形成内凹结构，所述内凹结构为基因测序的反应池；
在所述内凹结构内壁形成第一保护层，其中，所述第一保护层是整层保护层，或，第一保护层是在与反应液接触的位置处设置的膜层；
所述第一保护层的材料为透明金属氧化物；
所述反应池的横截面的尺寸范围可以是10-1000nm或者1-100μm。
5.根据权利要求4所述的基因测序基板的制备方法，其特征在于，所述直接在塑性材料的一面上形成内凹结构采用纳米压印工艺形成；
所述形成内凹结构之前还包括将塑性材料进行加热以使塑性材料软化的步骤；
形成内凹结构之后还包括将塑性材料冷却的步骤。
6.根据权利要求4所述的基因测序基板的制备方法，其特征在于，所述直接在塑性材料的一面上形成内凹结构采用曝光刻蚀工艺形成。
7.一种基因测序装置，其特征在于，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板为权利要求1-3任一项所述的基因测序基板；
所述第二基板上设有微流道，用于连接内凹结构与进样口或出样口，所述微流道内壁具有金属氧化物第二保护层。
8.根据权利要求7所述的基因测序装置，其特征在于，所述第二基板上设有与内凹结构连接的进样口和出样口。
CN201810004294.3A 2018-01-03 2018-01-03 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置 Active CN108220412B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810004294.3A CN108220412B (zh) 2018-01-03 2018-01-03 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置
PCT/CN2018/123109 WO2019134547A1 (zh) 2018-01-03 2018-12-24 基因测序基板及其制备方法、基因测序装置和基因测序方法
US16/486,038 US11708604B2 (en) 2018-01-03 2018-12-24 Gene sequencing substrate and method for manufacturing the same, gene sequencing device and gene sequencing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810004294.3A CN108220412B (zh) 2018-01-03 2018-01-03 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108220412A CN108220412A (zh) 2018-06-29
CN108220412B true CN108220412B (zh) 2021-10-01

Family

ID=62645138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810004294.3A Active CN108220412B (zh) 2018-01-03 2018-01-03 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11708604B2 (zh)
CN (1) CN108220412B (zh)
WO (1) WO2019134547A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108220412B (zh) 2018-01-03 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置
CN109401940A (zh) * 2018-10-22 2019-03-01 深圳华因康基因科技有限公司 基因测序反应小室
KR102634755B1 (ko) * 2019-01-28 2024-02-06 비지아이 션전 서열화 칩 및 이의 제조 방법
CN109735441A (zh) * 2019-03-01 2019-05-10 赛纳生物科技(北京)有限公司 一种基因测序芯片及其制备方法
CN110591903A (zh) * 2019-09-19 2019-12-20 京东方科技集团股份有限公司 基因测序基板及其制作方法和基因测序芯片

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106591109A (zh) * 2017-02-20 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 基因测序基板及其测序方法和基因测序装置
CN107402199A (zh) * 2017-07-31 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 基因测序芯片及其测序方法以及基因测序装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101523260B1 (ko) * 2007-04-04 2015-06-01 네트바이오, 인코포레이티드 플라스틱 미세유체 분리 및 검출 플랫폼
WO2010008480A2 (en) * 2008-06-25 2010-01-21 Ion Torrent Systems Incorporated Methods and apparatus for measuring analytes using large scale fet arrays
JP2010080680A (ja) 2008-09-26 2010-04-08 Bridgestone Corp 凹凸パターンの形成方法及び凹凸パターンの製造装置
CN104073425A (zh) * 2014-06-17 2014-10-01 深圳威芯华创科技有限公司 Lspr传感装置及其制备方法和dna检测方法
CN106755292B (zh) * 2015-11-19 2019-06-18 赛纳生物科技(北京)有限公司 一种磷酸修饰荧光团的核苷酸分子测序方法
CN106497774A (zh) 2017-01-03 2017-03-15 京东方科技集团股份有限公司 基因测序芯片、基因测序设备及基因测序方法
US10739299B2 (en) * 2017-03-14 2020-08-11 Roche Sequencing Solutions, Inc. Nanopore well structures and methods
CN106939284A (zh) * 2017-05-05 2017-07-11 京东方科技集团股份有限公司 用于基因测序的芯片和基因测序方法
CN108220412B (zh) * 2018-01-03 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106591109A (zh) * 2017-02-20 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 基因测序基板及其测序方法和基因测序装置
CN107402199A (zh) * 2017-07-31 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 基因测序芯片及其测序方法以及基因测序装置

Also Published As

Publication number Publication date
US11708604B2 (en) 2023-07-25
WO2019134547A1 (zh) 2019-07-11
US20200048698A1 (en) 2020-02-13
CN108220412A (zh) 2018-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108220412B (zh) 一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置
Zhu et al. Well-defined porous membranes for robust omniphobic surfaces via microfluidic emulsion templating
Ehrfeld Electrochemistry and microsystems
Nunes et al. Cyclic olefin polymers: emerging materials for lab-on-a-chip applications
Watt et al. Ion beam lithography and nanofabrication: a review
Duan et al. Fabrication of nanofluidic devices
Xia et al. Non-photolithographic methods for fabrication of elastomeric stamps for use in microcontact printing
Lei Materials and fabrication techniques for nano-and microfluidic devices
Krumpfer et al. Dip-coating crystallization on a superhydrophobic surface: A million mounted crystals in a 1 cm2 array
JP3811108B2 (ja) プラスチック基板上の金属微細パターンの形成方法
US20120009665A1 (en) Methods of producing multi-layered microfluidic devices
Kim et al. Fracture-based micro-and nanofabrication for biological applications
Cheng et al. Fabrication of 2D polymer nanochannels by sidewall lithography and hot embossing
Röhrig et al. Hot pulling and embossing of hierarchical nano-and micro-structures
Mandsberg et al. Spatial control of condensation on chemically homogeneous pillar-built surfaces
Kalkman et al. Bisecting microfluidic channels with metallic nanowires fabricated by nanoskiving
CN110591903A (zh) 基因测序基板及其制作方法和基因测序芯片
Yin et al. Multilayer patterning technique for micro-and nanofluidic chip fabrication
US9349545B2 (en) Method for producing microcarriers
Zhong et al. Investigation of antiadhesive coatings for nanoimprinting lithography
Zhang et al. Integrated fabrication of micro/nano-fluidic chip based on nano-imprint lithography and bonding
Razaulla et al. Deterministic lateral displacement using hexagonally arranged, bottom-up-inspired micropost arrays
Shi et al. Tri-layer soft UV imprint lithography and fabrication of high density pillars
US20150190803A1 (en) Method for producing structured microcarriers
Cheng et al. Design and fabrication of a hybrid nanofluidic channel

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant