CN107861287B - 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，该显示面板包括相对设置的阵列基板和盖板，设置在所述阵列基板和所述盖板之间的液晶层，以及设置在所述盖板远离所述阵列基板一侧的偏光片；其中，所述阵列基板包括：基板；反射层，所述反射层设置在所述基板靠近所述盖板的表面上；多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布在所述反射层远离所述基板的表面上，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色。该显示面板的反射彩膜层能够反射出R、G、B光，而通过液晶层和偏光片可以实现全色显示，且显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体的，涉及显示面板、显示装置及显示面板的制备方法。
背景技术
现有的反射显示技术通过在聚对苯二甲酸乙二酯或者玻璃基板上制备出能够反射出R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)光的像素结构以达到彩色显示的目的，但其显示颜色种类受到很大限制。
因而，现有显示面板的相关技术仍有待改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种反射彩膜层能够反射出R、G、B光，显示颜色鲜艳、逼真、显示效果好，或者可以实现全色显示的显示面板。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种显示面板。根据本发明的实施例，该显示面板包括相对设置的阵列基板和盖板，设置在所述阵列基板和所述盖板之间的液晶层，以及设置在所述盖板远离所述阵列基板一侧的偏光片，其中，所述阵列基板包括：基板；反射层，所述反射层设置在所述基板靠近所述盖板的表面上；多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布在所述反射层远离所述基板的表面上，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色。发明人发现，该显示面板的反射彩膜层结合所述反射层能够反射出R、G、B光，而通过液晶层和偏光片可以实现全色显示，且显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好。
根据本发明的实施例，所述反射彩膜层包括：氧化铝层，所述氧化铝层设置在所述反射层远离所述基板的表面上；金属等离子体纳米结构，所述金属等离子体纳米结构设置在所述氧化铝层远离所述基板的表面上。
根据本发明的实施例，所述金属等离子体纳米结构为金等离子体纳米结构。
根据本发明的实施例，所述预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。
根据本发明的实施例，所述预定颜色包括红色、绿色和蓝色，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为43-53nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为90-96nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为80-86nm。
根据本发明的实施例，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为48nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为93nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为83nm。
根据本发明的实施例，形成所述反射层的材料包括银、铝和铝钕合金中的至少一种。
根据本发明的实施例，所述阵列基板还包括：电路结构，所述电路结构与所述反射彩膜层同层设置，且位于相邻的反射彩膜层之间；第一平坦化层，所述第一平坦化层设置在所述多个反射彩膜层和所述电路结构远离所述基板的表面上；第一电极，所述第一电极设置在所述第一平坦化层远离所述基板的表面上。
根据本发明的实施例，所述盖板包括：透明基板；黑矩阵，所述黑矩阵设置在所述透明基板靠近所述阵列基板的表面上；第二平坦化层，所述第二平坦化层与所述黑矩阵同层设置；第二电极，所述第二电极设置在所述黑矩阵和所述第二平坦化层靠近所述阵列基板的表面上。
在本发明的另一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，所述显示装置包括前面所述的显示面板。发明人发现，该显示装置可以实现全色显示，显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好，且具有前面所述的显示面板的所有特征和优点，在此不再过多赘述。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种制备显示面板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：形成相对设置的阵列基板和盖板；将所述阵列基板和所述盖板进行对盒处理；在所述盖板远离所述阵列基板的表面形成偏光片，其中，形成所述阵列基板包括：在基板靠近所述盖板的表面上形成反射层；在所述反射层远离所述基板的表面上形成多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色。发明人发现，该方法操作简单、方便、容易实现，易于工业化生产，且所制备的显示面板的反射彩膜层能够反射出R、G、B光，而通过液晶层和偏光片可以实现全色显示，且显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好。
附图说明
图1显示了本发明一个实施例的显示面板的结构示意图。
图2A显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图。
图2B显示了本发明一个实施例的显示面板的部分结构示意图
图3显示了本发明又一个实施例的显示面板的结构示意图。
图4显示了本发明再一个实施例的显示面板的结构示意图。
图5显示了本发明再一个实施例的显示面板的结构示意图。
图6a至图6e显示了本发明一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图7显示了本发明另一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图8a至图8h显示了本发明又一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图9显示了本发明再一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图10a至图10f显示了本发明再一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图11显示了本发明再一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图12a至图12f显示了本发明再一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图13显示了本发明再一个实施例的制备显示面板的方法的流程示意图。
图14显示了本发明一个实施例的盖板的结构示意图。
附图标记：
100：阵列基板110：基板111：第一表面120：反射层130：反射彩膜层131：氧化铝层132：金属等离子体纳米结构140：电路结构150：第一平坦化层160：第一电极200：盖板210：透明基板220：黑矩阵230：第二平坦化层240：第二电极300：液晶层400：偏光片500：隔垫物600：配向层
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种显示面板。根据本发明的实施例，参照图1，该显示面板包括相对设置的阵列基板100和盖板200，设置在阵列基板100和盖板200之间的液晶层300和设置在盖板200远离阵列基板100一侧的偏光片400。其中，所述阵列基板100包括：基板110；反射层120，所述反射层120设置在所述基板110靠近盖板200的第一表面111上；多个反射彩膜层130，所述多个反射彩膜层130彼此间隔且呈阵列分布在所述反射层120远离所述基板110的表面上，用于使得经所述反射层120反射后且经过所述反射彩膜层130出射的光具有预定颜色。发明人发现，该显示面板的反射彩膜层130结合发射层120能够反射出R、G、B光，而通过液晶层300和偏光片400可以实现全色显示，且显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好。
根据本发明的实施例，所述基板110的具体种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基板、聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)基板、玻璃基板等。在本发明的一些实施例中，所述基板110的具体种类可以为玻璃基板。由此，材料来源广泛、易得，成本较低。
根据本发明的实施例，所述基板110的厚度不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述基板110的厚度可以为0.3-0.7mm。在本发明一些更加优选的实施例中，所述基板110的厚度为0.3mm。由此，可以使得所述显示面板更薄，符合轻薄化的市场趋势，且原材料成本更加低廉。
根据本发明的实施例，所述反射层120的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如包括但不限于银、铝和铝钕合金等金属材料。在本发明的一些实施例中，所述反射层120的具体材料种类可以为银。由此，可以使得反射率较高，提高光利用率，所述显示面板的显示效果较佳。
根据本发明的实施例，所述反射层120的厚度不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述反射层120的厚度可以为130-170nm。在本发明一些更加优选的实施例中，所述反射层的厚度为150nm。由此，所述反射层120的厚度适中，既不会因为所述反射层120过薄而使得反射率较低、光利用率低，所述显示面板的显示效果较差，也不会因为所述反射层120过厚而使得成本较高，难以进行大规模工艺生产。根据本发明的实施例，参照图2A和图2B，所述反射彩膜层130包括氧化铝层131和金属等离子体纳米结构132。所述氧化铝层131设置在所述反射层120远离所述基板110的表面上；所述金属等离子体纳米结构132设置在所述氧化铝层131远离所述基板110的表面上。由此，可以使得经所述反射层120反射后由所述反射彩膜层130出射的光具有预定颜色。
根据本发明的实施例，上述预定颜色的具体种类没有特别限制，本领域技术人员可以根据显示效果的需要灵活选择。在本发明的一些实施例中，预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。由此，可以通过调整氧化铝层的厚度调整预定颜色的种类，有效实现彩色显示。在本发明的一些实施例，可以通过调整氧化铝层的厚度实现三原色显示，具体的，预定颜色的种类包括红色、绿色和蓝色，红色、绿色和蓝色的反射彩膜层的排布方式可以与常规三原色显示装置中R、G、B子像素的排布方式一致，出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为43-53nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为90-96nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为80-86nm。由此，能够实现三原色显示，且显示颜色鲜艳，效果较好。在本发明一个具体示例中，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度可以为48nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度可以为93nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度可以为83nm。由此，氧化铝层为上述厚度颜色纯度更佳，单一性更好，显示颜色更鲜艳、逼真，效果更佳。
根据本发明的实施例，所述金属等离子体纳米结构132的具体金属材料不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如包括但不限于金等离子体纳米结构、银等离子体纳米结构等。在本发明的一些实施例中，所述金属等离子体纳米结构132的具体材料可以为金等离子体纳米结构。由此，可以使得反射出彩色的效果较好。
根据本发明的实施例，所述金属等离子体纳米结构132的厚度不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述金属等离子体纳米结构132的厚度可以为20-50nm。在本发明一些更加优选的实施例中，所述金属等离子体纳米结构132的厚度为20nm。由此，可以使保证经所述反射层120反射后由所述反射彩膜层130出射的光具有预定颜色的情况下，最大限度地降低所述金属等离子体纳米结构132的厚度，从而降低成本，更加易于工业化生产。
根据本发明的实施例，所述金属等离子体纳米结构132的具体结构不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，参照图2B，所述金属等离子体纳米结构132的具体结构为具有纳米级大小孔洞1321的金属等离子体薄膜。由此，可以进一步使得反射出彩色的效果更好。
根据本发明的实施例，所述孔洞的形状不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于圆形(参照图2B)、三角形、四边形以及多边形等。在本发明的一些实施例中，所述孔洞的形状可以为圆形。由此，可以进一步使得反射出彩色的效果更好，且制备工艺简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
根据本发明的实施例，所述孔洞的直径不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述孔洞的直径不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述孔洞的直径可以为100-300nm。在本发明一些更加优选的实施例中，所述孔洞的直径为150nm。由此，可以进一步使得反射出彩色的效果更好。
根据本发明的实施例，所述孔洞在所述金属等离子体纳米结构132上的排布方式不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如包括但不限于随机排布、呈正三角形交错分布等。在本发明的一些实施例中，所述孔洞在所述金属等离子体纳米结构132上的排布方式为孔洞之间呈正三角形交错分布。由此，可以进一步使得反射出彩色的效果更好。
根据本发明的实施例，相邻的两个所述孔洞之间的距离不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，相邻的两个所述孔洞之间的距离大于100nm。在本发明一些更加优选的实施例中，相邻的两个所述孔洞之间的距离为273nm。由此，可以进一步使得反射出彩色的效果更好。
根据本发明的实施例，参照图3，所述阵列基板100还包括电路结构140、第一平坦化层150，以及第一电极160。其中，所述电路结构140与所述反射彩膜层130同层设置，且位于相邻的反射彩膜层130之间；所述第一平坦化层150设置在所述多个反射彩膜层130和所述电路结构140远离所述基板110的表面上；所述第一电极160设置在所述第一平坦化层150远离所述基板110的表面上。
根据本发明的实施例，所述电路结构140的电路构造、连接方式等均不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。本领域技术人员可以理解，所述电路结构140可以为常规电路的结构，例如可以包括薄膜晶体管、连接线等等，在此不再过多赘述。由此，可以实现对反射光的控制，从而实现全色显示。
根据本发明的实施例，所述第一平坦化层150的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述第一平坦化层150的具体材料种类可以为介质材料，例如包括但不限于光刻胶、SOG(硅-玻璃键合结构材料)等。由此，可以使得所述阵列基板100的表面完全平坦。
根据本发明的实施例，所述第一电极160的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要灵活选择，例如可以包括但不限于氧化铟锌、ITO(氧化铟锡)等透明导电氧化物电极等。在本发明的一些实施例中，所述第一电极160的具体材料种类为ITO电极。由此，材料来源广泛、易得，透过率较高且导电性好。
根据本发明的实施例，参照图4，所述盖板200包括透明基板210、黑矩阵220、第二平坦化层230，以及第二电极240。其中，所述黑矩阵220设置在所述透明基板210靠近所述阵列基板100的表面上；所述第二平坦化层230与所述黑矩阵220同层设置；所述第二电极240设置在所述黑矩阵220和所述第二平坦化层230靠近所述阵列基板100的表面上。
根据本发明的实施例，所述透明基板210的具体种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基板、聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)基板、玻璃基板等。在本发明的一些实施例中，所述透明基板210的具体种类可以为玻璃基板。由此，材料来源广泛、易得，成本较低。
根据本发明的实施例，所述黑矩阵220的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述黑矩阵220的具体材料可以为金属氧化物膜、高遮光性树脂，例如包括但不限于氧化铬、氧化钨等。由此，可以有效防止像素之间漏光，增加色彩对比性。
根据本发明的实施例，所述第二平坦化层230的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述第二平坦化层230的具体材料种类可以为钝化材料，例如包括但不限于光学胶、SOG(硅-玻璃键合结构材料)等。由此，可以有效避免所述盖板200***电路出现静电腐蚀的不良现象，提高了该显示面板的画面品质，减少了大量不良品引起的成本损失。
根据本发明的实施例，所述第二电极240的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要灵活选择，例如可以包括但不限于ITO(氧化铟锡)、氧化铟锌等透明导电氧化物电极等。在本发明的一些实施例中，所述第二电极240的具体材料种类为ITO电极。由此，材料来源广泛、易得，成本较低，且导电性好。
根据本发明的实施例，参照图5，在所述第二电极240靠近所述液晶层300的一侧还设置有隔垫物500。由此，可以对所述阵列基板100起支撑作用，保证显示面板的盒厚。
根据本发明的实施例，参照图5，在所述液晶层300靠近阵列基板和盖板的两个表面上还可以具有配向层600。所述配向层600的具体材料种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述配向层600的具体材料可以为PI(聚酰亚胺)。由此，可以使得液晶具有预定的排列方向，有效实现显示功能。
根据本发明的实施例，所述液晶层300的具体材料不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于高分子液晶材料等。在本发明的一些实施例中，所述液晶层300的材料可以为酯类和联苯类液晶化合物。由此，可以通过控制所述液晶层300中液晶分子的偏转来实现控制反射层120对应像素显示灰阶。
根据本发明的实施例，所述偏光片400的具体种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于碘系偏光片、染料系偏光片。在本发明的一些实施例中，所述偏光片400的具体种类可以为碘系偏光片。由此，容易获得高透过率、高偏光度的光学特性。在本发明的另一些实施例中，所述偏光片400的具体种类可以为染料系偏光片。由此，可以使得所述显示面板的耐高温高湿能力较好，不易损坏。
下面参照图5详细说明本发明的显示面板的工作原理。具体的，环境光经过偏光片400形成偏振光照射进入显示面板，并经过反射彩膜层130照射到反射层120，经反射层120反射后再次经过反射彩膜层130，由于反射彩膜层的作用，经过反射彩膜层130出射的光转换为具有预定颜色的偏振光，通过第一电极160和第二电极240给液晶层施加不同的电压，由此上述具有预定颜色的偏振光经过液晶层时可以发生不同程度的偏转，再次经过偏光片400射出时则实现了灰阶显示，同时由于射出的偏振光具有预定颜色，即可实现全色显示。
在本发明的另一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，所述显示装置包括前面所述的显示面板。发明人发现，该显示装置可以实现全色显示，显示颜色鲜艳、逼真，显示效果好，且具有前面所述的显示面板的所有特征和优点，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，该显示装置的具体种类不受特别限制，例如包括但不限于手机、平板电脑、可穿戴设备、游戏机等。根据本发明的实施例，该显示装置的形状、构造、制造工艺均不受特别限制，只要满足使用要求，本领域技术人员可以根据需要灵活选择。且本领域技术人员可以理解，除了前面所述的显示面板，该显示装置具有常规显示装置的结构，例如以手机为例，还可以包括外壳、CPU、摄像模组、指纹识别模组、声音处理***等等，在此不再过多赘述。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种制备显示面板的方法。根据本发明的实施例，参照图6a至图6e，以及图7，该方法包括以下步骤：
S100：形成阵列基板100。
根据本发明的实施例，参照图6a至图6b，所述形成阵列基板100具体包括以下步骤：
S110：在基板110的第一表面111上形成反射层120，参照图6a。
根据本发明的实施例，在基板110的第一表面111上形成反射层120的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在基板110的第一表面111上形成反射层120的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
S120：在所述反射层120远离所述基板110的表面上形成多个反射彩膜层130，所述多个反射彩膜层130彼此间隔且呈阵列分布，用于使得经所述反射层120反射后由所述反射彩膜层130出射的光具有预定颜色，参照图6b。
S200：形成盖板200，且与所述阵列基板100相对设置，参照图6c。
S300：将所述阵列基板100和所述盖板200进行对盒处理，参照图6d。
根据本发明的实施例，将所述阵列基板100和所述盖板200进行对盒处理的具体步骤没有特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，可以将所述阵列基板100和所述盖板200先进行封装，然后向所述阵列基板100和所述盖板200之间灌装液晶以形成液晶层300。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
S400：在所述盖板200远离所述液晶层300的表面形成偏光片400，参照图6e。
根据本发明的实施例，在所述盖板200远离所述液晶层300的表面形成偏光片400的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述盖板200远离所述液晶层300的表面形成偏光片400的具体工艺可以为贴附。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
需要说明的是，该方法可以适用于制备前面所述的显示面板，该方法中描述的阵列基板100、盖板200、液晶层300和偏光片400等均可与前面所述的显示面板一致，在此不再一一赘述。
根据本发明的另一个实施例，参照图8a至图8h，以及图9，上述步骤S100中，所述形成阵列基板100还可以包括以下步骤：
S130：在所述多个反射彩膜层130之间形成电路结构140，参照图8c。
根据本发明的实施例，在所述多个反射彩膜层130之间形成电路结构140的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。
S140：在所述多个反射彩膜层130和所述电路结构140远离所述基板110的表面上形成第一平坦化层150，参照图8d。
根据本发明的实施例，在所述多个反射彩膜层130和所述电路结构140远离所述基板110的表面上形成第一平坦化层150的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述多个反射彩膜层130和所述电路结构140远离所述基板110的表面上形成第一平坦化层150的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
S150：在所述第一平坦化层150远离所述基板110的表面形成第一电极160，参照图8e。
根据本发明的实施例，在所述第一平坦化层150远离所述基板110的表面形成第一电极160的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述第一平坦化层150远离所述基板110的表面形成第一电极160的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
根据本发明的又一个实施例，参照图10a至图10f，以及图11，上述步骤S120中，形成所述反射彩膜层130具体可以包括以下步骤：
S121：在所述反射层120远离所述基板110的表面上形成氧化铝层131，参照图10b。
根据本发明的实施例，在所述反射层120远离所述基板110的表面上形成氧化铝层131的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述反射层120远离所述基板110的表面上形成氧化铝层131的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
S122：在所述氧化铝层131远离所述基板110的表面上形成金属等离子体纳米结构132，参照图10c。
根据本发明的实施例，在所述氧化铝层131远离所述基板110的表面上形成金属等离子体纳米结构132的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述氧化铝层131远离所述基板110的表面上形成金属等离子体纳米结构132的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
根据本发明的再一个实施例，参照图12a至图12f，以及图13，上述步骤S200中，所述形成盖板200具体可以包括以下步骤：
S210：在透明基板210上形成同层设置的黑矩阵220和第二平坦化层230，参照图12c。
根据本发明的实施例，在透明基板210上形成同层设置的黑矩阵220和第二平坦化层230的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在透明基板210上形成同层设置的黑矩阵220和第二平坦化层230的具体工艺可以为化学气相沉积以及光刻等图案化处理。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
S220：在所述黑矩阵220和第二平坦化层230靠近所述阵列基板100的表面上形成第二电极240，参照图12d。
根据本发明的实施例，在所述黑矩阵220和第二平坦化层230靠近所述阵列基板100的表面上形成第二电极240的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，在所述黑矩阵220和第二平坦化层230靠近所述阵列基板100的表面上形成第二电极240的具体工艺可以为化学气相沉积。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产。
根据本发明的实施例，参照图14，在形成第二电极240后，所述形成盖板200还可以包括在所述第二电极240靠近所述液晶层300的一侧形成隔垫物500的步骤。
根据本发明的实施例，所述形成隔垫物500的具体工艺不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，所述形成隔垫物500的具体工艺可以为化学气相沉积或物理气相沉积及光刻等。由此，操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且形成所述隔垫物500的均一性较高，有效提高所述显示面板的质量。
根据本发明的实施例，在形成所述隔垫物500后，制备所述显示面板的其他步骤与上述S300、S400相同，在此不再过多赘述，最终形成的显示面板的结构参照图5。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (9)

1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的阵列基板和盖板，设置在所述阵列基板和所述盖板之间的液晶层，以及设置在所述盖板远离所述阵列基板一侧的偏光片；
其中，所述阵列基板包括：
基板；
反射层，所述反射层设置在所述基板靠近所述盖板的表面上；
多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布在所述反射层远离所述基板的表面上，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色；所述反射彩膜层包括：
氧化铝层，所述氧化铝层设置在所述反射层远离所述基板的表面上；
金属等离子体纳米结构，所述金属等离子体纳米结构设置在所述氧化铝层远离所述基板的表面上，所述金属等离子体纳米结构为具有纳米级大小孔洞的金属等离子体薄膜，所述孔洞的直径为100-300nm；
其中，所述预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属等离子体纳米结构为金等离子体纳米结构。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述预定颜色包括红色、绿色和蓝色，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为43-53nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为90-96nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为80-86nm。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为48nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为93nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为83nm。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，形成所述反射层的材料包括银、铝和铝钕合金中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
电路结构，所述电路结构与所述反射彩膜层同层设置，且位于相邻的反射彩膜层之间；
第一平坦化层，所述第一平坦化层设置在所述多个反射彩膜层和所述电路结构远离所述基板的表面上；
第一电极，所述第一电极设置在所述第一平坦化层远离所述基板的表面上。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述盖板包括：
透明基板；
黑矩阵，所述黑矩阵设置在所述透明基板靠近所述阵列基板的表面上；
第二平坦化层，所述第二平坦化层与所述黑矩阵同层设置；
第二电极，所述第二电极设置在所述黑矩阵和所述第二平坦化层靠近所述阵列基板的表面上。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的显示面板。
9.一种制备显示面板的方法，其特征在于，包括：
形成相对设置的阵列基板和盖板；
将所述阵列基板和所述盖板进行对盒处理；
在所述盖板远离所述阵列基板的表面上形成偏光片；
其中，形成所述阵列基板包括：
在基板靠近所述盖板的表面上形成反射层；
在所述反射层远离所述基板的表面上形成多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色；
其中，所述反射彩膜层包括：
氧化铝层，所述氧化铝层设置在所述反射层远离所述基板的表面上；
金属等离子体纳米结构，所述金属等离子体纳米结构设置在所述氧化铝层远离所述基板的表面上，所述金属等离子体纳米结构为具有纳米级大小孔洞的金属等离子体薄膜，所述孔洞的直径为100-300nm；
所述预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。
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