CN107709029A - 印刷用原版、平版印刷版、印刷用废弃版及其层叠体 - Google Patents
印刷用原版、平版印刷版、印刷用废弃版及其层叠体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107709029A CN107709029A CN201680038902.1A CN201680038902A CN107709029A CN 107709029 A CN107709029 A CN 107709029A CN 201680038902 A CN201680038902 A CN 201680038902A CN 107709029 A CN107709029 A CN 107709029A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- particulate
- printing
- original plate
- compound
- printing original
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 283
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 85
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 127
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 121
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 90
- -1 formate ester Chemical class 0.000 claims description 68
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 59
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 42
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 31
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 31
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 24
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 11
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 8
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 6
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 217
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 186
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 182
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 description 65
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 65
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 55
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 49
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 45
- 238000011161 development Methods 0.000 description 44
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 44
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 41
- 239000000047 product Substances 0.000 description 33
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 26
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 25
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 22
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 22
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 21
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 19
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 19
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 15
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 13
- 230000006870 function Effects 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 12
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 11
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 11
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 11
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 10
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 10
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 9
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- 241000894007 species Species 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 6
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical compound [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 6
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 5
- OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dioctadecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 5
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 230000010148 water-pollination Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229940063557 methacrylate Drugs 0.000 description 4
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 3
- 210000000981 epithelium Anatomy 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical class COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHUXAYLZEGLXDA-UHFFFAOYSA-N 8-azido-5-ethyl-6-phenylphenanthridin-5-ium-3-amine;bromide Chemical compound [Br-].C12=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C2C2=CC=C(N)C=C2[N+](CC)=C1C1=CC=CC=C1 GHUXAYLZEGLXDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQODPTQLXVVEJG-UHFFFAOYSA-N [O].C=C Chemical compound [O].C=C BQODPTQLXVVEJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043237 diethanolamine Drugs 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004050 enoyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000004028 organic sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trichloromethyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=C(C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APQXWKHOGQFGTB-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-9h-carbazole Chemical group C12=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2C=C APQXWKHOGQFGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]butyliminomethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=NCCCCN=CC1=CC=CC=C1O CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095095 2-hydroxyethyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLUWLNIMIAFOSY-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfinic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)=O VLUWLNIMIAFOSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- IAAASXBHFUJLHW-UHFFFAOYSA-N 3,5-diethyl-1-phenyl-2-propyl-2h-pyridine Chemical compound C1=C(CC)C=C(CC)C(CCC)N1C1=CC=CC=C1 IAAASXBHFUJLHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutan-2-ylcyclopropane Chemical compound CC(C)C(C)C1CC1 JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCZNNAKNUVJVGX-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(C#N)C=C1 VCZNNAKNUVJVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N Acetyl tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C(=O)OCCCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCCCC QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015437 B(OC4H9)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015446 B(OCH3)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000790917 Dioxys <bee> Species 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- 240000000249 Morus alba Species 0.000 description 1
- 235000008708 Morus alba Nutrition 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001597008 Nomeidae Species 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- GBCVPHYNFFHJKB-UHFFFAOYSA-N OC(C(C)O)(CCCC)O Chemical compound OC(C(C)O)(CCCC)O GBCVPHYNFFHJKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019082 Osmanthus Nutrition 0.000 description 1
- 241000333181 Osmanthus Species 0.000 description 1
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002070 Pluronic® P 84 Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003978 SiClx Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000001785 acacia senegal l. willd gum Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde dimethyl acetal Natural products COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 235000010410 calcium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000648 calcium alginate Substances 0.000 description 1
- 229960002681 calcium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- OKHHGHGGPDJQHR-YMOPUZKJSA-L calcium;(2s,3s,4s,5s,6r)-6-[(2r,3s,4r,5s,6r)-2-carboxy-6-[(2r,3s,4r,5s,6r)-2-carboxylato-4,5,6-trihydroxyoxan-3-yl]oxy-4,5-dihydroxyoxan-3-yl]oxy-3,4,5-trihydroxyoxane-2-carboxylate Chemical compound [Ca+2].O[C@@H]1[C@H](O)[C@H](O)O[C@@H](C([O-])=O)[C@H]1O[C@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]2[C@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O2)C([O-])=O)O)[C@H](C(O)=O)O1 OKHHGHGGPDJQHR-YMOPUZKJSA-L 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid monoamide Natural products NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006352 cycloaddition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCC[NH+](C)C JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 235000003642 hunger Nutrition 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004452 microanalysis Methods 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;methanesulfonic acid Chemical class C[NH+](C)C.CS([O-])(=O)=O GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N oxaloacetic acid Chemical compound OC(=O)CC(=O)C(O)=O KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003017 phosphorus Chemical class 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002986 polymer concrete Substances 0.000 description 1
- 239000012985 polymerization agent Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005996 polystyrene-poly(ethylene-butylene)-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 231100000241 scar Toxicity 0.000 description 1
- 238000009288 screen filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000005266 side chain polymer Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M sodium chloroacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CCl FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229960005137 succinic acid Drugs 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N tetrahydroxy-1,4-benzoquinone Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C(O)=C(O)C1=O DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002397 thermoplastic olefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N trimethylazanium;acetate Chemical compound CN(C)C.CC(O)=O KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/036—Chemical or electrical pretreatment characterised by the presence of a polymeric hydrophilic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/038—Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/06—Backcoats; Back layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/20—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by inorganic additives, e.g. pigments, salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/31—Pre-treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Architecture (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
本发明提供一种印刷用原版,其在支撑体上的一侧具有含有聚合物的层,且在另一侧具有含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及微粒的层,所述印刷用原版中,通过所述微粒的平均粒径为0.3μm以上且比所述含有金属氧化物及微粒的层的厚度大的印刷用原版而层叠印刷用原版时,即使无衬纸,也能够防止原版集成位移、原版彼此的粘结、擦伤这三者。
Description
技术领域
本发明涉及一种包含平版印刷版原版及废弃版原版的印刷用原版、其层叠体以及使用印刷用原版而制成的平版印刷版及印刷用废弃版、其层叠体。
背景技术
平版印刷版原版常常作为叠加多张而成的层叠体而进行保管、传送。该层叠体中,通常以防止平版印刷版原版的集成位移,防止平版印刷版原版彼此的粘结,防止平版印刷版原版的记录层侧表面的擦伤等为目的,在平版印刷版原版之间***衬纸。但是,衬纸的使用本身包含成本上升、废弃处理等问题,并且需要在曝光工序之前去除,因此成为制版工序的负载、产生衬纸剥离不良故障的风险。而且,去除衬纸时,需要考虑平版印刷版原版的记录层侧表面不受损伤。从而,需要研发能够以无衬纸的方式进行层叠的平版印刷版原版。
例如,已知有一种在支撑体的与具有记录层的面相反的一侧的面具有含有数均粒径1~100μm的被交联的聚合物粒子的有机聚合物层的平版印刷版原版(专利文献1)、设置有由玻璃化转变温度(Tg)40℃以下的聚合物胶乳构成且含有平均粒径10μm以下的消光剂的背涂层的平版印刷版材料(专利文献2)。并且,已知有一种在支撑体的一面具有含有聚合物微粒等的感光层,且在相反的一侧的面具有含有有机高分子化合物的背涂层的平版印刷版原版(专利文献3)。而且,已知作为支撑体的记录层侧的最上层而具有含有用亲水性聚合物及二氧化硅覆盖了表面的有机树脂微粒的保护层,且在相反的一侧具有包含有机树脂的背涂层的平版印刷版原版(专利文献4)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-148040号公报
专利文献2:日本特开2006-56185号公报
专利文献3:日本特开2008-249851号公报
专利文献4:日本特开2008-15503号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而,专利文献1中所记载的技术中,明确了若包含交联聚合物粒子和有机聚合物的层的Tg过高则有时无法充分防止产生擦伤。并且,公知文献2中所记载的技术中,明确了有时无法充分防止原版彼此的粘结。并且,公知文献3中所记载的技术中,明确了在感光层中含有有机树脂微粒,但感光层为大大影响平版印刷版原版及由其制成的平版印刷版的性能的层,因此不对平版印刷版原版的性能、尤其图像形成性产生影响,且微粒不会脱落为必须要件,为了使感光层具有有机树脂微粒,需要充分考虑这些性能,且有时感光层的设计范围非常受限。
并且,当将公知文献4中所记载的技术应用到保护层的厚度比以往的湿式显影型平版印刷版原版明显薄的机上显影型平版印刷版原版等时,明确了无法得到充分的效果。认为其原因为,有机树脂微粒未被充分保持,从而导致从保护层脱落。
本发明的目的在于提供一种印刷用原版,其中当层叠包含平版印刷版原版及废弃版原版的印刷用原版时,即使无衬纸,也能够防止原版集成位移、原版彼此的粘结、擦伤这三者。并且,本发明的目的在于提供一种上述印刷用原版的层叠体。
而且,本发明的目的在于提供一种平版印刷版或印刷用废弃版,其使用上述印刷用原版而制成。并且,本发明的目的在于提供一种上述平版印刷版或印刷用废弃版的层叠体。
用于解决技术课题的手段
本发明包含下述结构。
1.一种印刷用原版,其在支撑体上的一侧具有含有聚合物的层,且在另一侧具有含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及微粒的层,所述印刷用原版中,
上述微粒的平均粒径为0.3μm以上,并且,比上述含有金属氧化物及微粒的层的厚度大。
2.根据1.所述的印刷用原版,其中,
上述微粒为具有亲水性表面的微粒。
3.根据2.所述的印刷用原版,其中,
上述具有亲水性表面的微粒为选自具有亲水性表面的有机树脂微粒、具有亲水性表面的无机微粒中的至少一种。
4.根据3.所述的印刷用原版,其中,
上述具有亲水性表面的有机树脂微粒为被选自二氧化硅、氧化铝、二氧化钛及氧化锆中的至少一种无机化合物覆盖的有机树脂微粒。
5.根据3.或4.所述的印刷用原版,其中,
上述具有亲水性表面的有机树脂微粒为被二氧化硅覆盖的有机树脂微粒。
6.根据3.至5.中任一项所述的印刷用原版,其中,
构成上述具有亲水性表面的有机树脂微粒的有机树脂为选自聚丙烯酸类树脂、聚氨基甲酸酯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚酯类树脂、环氧类树脂、酚醛类树脂及三聚氰胺树脂中的至少一种树脂。
7.根据1.至6.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂的正型图像记录层。
8.根据1.至6.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物的负型图像记录层。
9.根据1.至6.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及微粒状高分子化合物的负型图像记录层。
10.根据1.至6.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂及热塑性聚合物微粒的负型图像记录层。
11.根据权利要求7.至10.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层能够通过印刷油墨及润版液中的至少任一个而去除。
12.根据1.至6.中任一项所述的印刷用原版,其中,
上述含有聚合物的层为非感光性层。
13.根据12.所述的印刷用原版,其特征在于,
上述含有聚合物的层能够通过印刷油墨及润版液中的至少任一个而去除。
14.一种平版印刷版,其使用1.至11.中任一项所述的印刷用原版而制成。
15.一种印刷用废弃版,其使用12.或13.所述的印刷用原版而制成。
16.一种层叠体,其使1.至11.中任一项所述的印刷用原版直接接触并层叠多张而成。
17.一种层叠体,其使12.或13.所述的印刷用原版直接接触并层叠多张而成。
18.一种层叠体,其使14.所述的平版印刷版直接接触并层叠多张而成。
19.一种层叠体,其使15.所述的印刷用废弃版直接接触并层叠多张而成。
而且,本发明还包含下述结构。
20.一种方法,对11.所述的印刷用原版进行图像曝光,供给印刷油墨及润版液而在印刷机上去除图像记录层的上述含有聚合物的层的非图像部,从而进行印刷。
21.一种方法,未对12.所述的印刷用原版进行图像曝光,供给印刷油墨及润版液而在印刷机上去除上述含有聚合物的层,从而进行印刷。
发明效果
根据本发明,能够提供一种印刷用原版,其中当层叠包含平版印刷版原版及废弃版原版的印刷用原版时,即使无衬纸,也能够防止原版集成位移、原版彼此的粘结、擦伤这三者。并且,本发明能够提供一种上述印刷用原版的层叠体。
而且,根据本发明,能够提供一种平版印刷版或印刷用废弃版,其使用上述印刷用原版而制成。并且,能够提供一种上述平版印刷版或印刷用废弃版的层叠体。
附图说明
图1为表示平版印刷版原版的自动显影装置的结构的一例的示意图。
具体实施方式
以下对本发明进行详细说明。
本说明书中,“印刷用原版”这一术语包含平版印刷版原版及印刷用废弃版原版。并且,“印刷版”这一术语包含经对印刷用原版进行曝光、显影等操作而制成的平版印刷版及印刷用废弃版。为印刷用废弃版原版时,未必一定需要曝光、显影的操作。
本发明所涉及的印刷用原版为如下印刷用原版,其在支撑体上的一侧具有含有聚合物的层,且在另一侧具有含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及微粒的层,所述印刷用原版中,上述微粒的平均粒径为0.3μm以上,并且比上述含有金属氧化物及微粒的层的厚度大。
本发明所涉及的印刷用原版的一特征在于,在支撑体的与含有聚合物的层相反的一侧具有含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及具有特定的平均粒径的微粒的层(以下,还称为背涂层)。
〔背涂层〕
本发明所涉及的印刷用原版中的背涂层含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及微粒,上述微粒的平均粒径为0.3μm以上,并且比上述含有金属氧化物及微粒的层的厚度大。
(使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物)
背涂层包含使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物。
背涂层中所含有的使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物(以下,还简称为金属氧化物),优选为使有机金属化合物或无机金属化合物在水及有机溶剂中通过酸或碱等催化剂水解及缩聚合而得到的、所谓的溶胶-凝胶反应液。
作为有机金属化合物或无机金属化合物,例如,可列举金属醇盐、金属乙酰丙酮盐、金属乙酸盐、金属草酸盐、金属硝酸盐、金属硫酸盐、金属碳酸盐、金属氯氧化物、金属氯化物及将它们局部水解并低聚化而成的缩合物。
金属醇盐为由式M(OR)n(式中,M表示金属元素,R表示烷基,n表示金属元素的氧化数)表示的化合物。作为具体例,可列举Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、Al(OCH3)3、Al(OC2H5)3、Al(OC3H7)3、Al(OC4H9)3、B(OCH3)3、B(OC2H5)3、B(OC3H7)3、B(OC4H9)3、Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4、Ti(OC3H7)4、Ti(OC4H9)4、Zr(OCH3)4、Zr(OC2H5)4、Zr(OC3H7)4、Zr(OC4H9)4等,除此以外,可列举Ge、Li、Na、Fe、Ga、Mg、P、Sb、Sn、Ta、V等原子的醇盐。而且,还可使用CH3Si(OCH3)3、C2H5Si(OCH3)3、CH3Si(OC2H5)3、C2H5Si(OC2H5)3等单取代的硅醇盐。
有机金属化合物或无机金属化合物中,金属醇盐的反应性丰富,且容易形成由金属-氧的键组成的聚合物,因此优选。这些中,Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等硅的醇盐化合物为低价且容易获得,且从这些得到的金属氧化物的覆盖性优异,因此尤其优选。并且,还优选将这些硅的醇盐化合物局部水解并缩合而成的低聚物。例如,可列举含有约40质量%的SiO2的平均5聚体的硅酸乙酯低聚物。
有机金属化合物或无机金属化合物能够单独使用或组合使用两种以上。
而且,还优选将用烷基或具有反应性的基团取代上述硅的四烷氧基化合物的一个或两个烷氧基的、所谓的硅烷偶联剂与金属醇盐同时使用。作为硅烷偶联剂,可列举用碳原子数4~20的长链烷基、氟取代烷基等疏水性取代基取代上述硅的四烷氧基化合物中的一个或两个烷氧基而成的硅烷偶联剂,尤其优选具有氟取代烷基的硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂的具体例,可列举CF3CH2CH2Si(OCH3)3、CF3CF2CH2CH3Si(OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OC2H5)3等,市售品中,可列举Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制LS-1090等。硅烷偶联剂的含量优选为背涂层的总固体成分的5~90质量%,更优选为10~80质量%。
作为形成溶胶-凝胶反应液时实用的催化剂,可列举有机、无机酸及碱。作为其例,可列举盐酸、硫酸、亚硫酸、硝酸、亚硝酸、氢氟酸、磷酸、亚磷酸等无机酸、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、乙醇酸、氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、氟乙酸、溴乙酸、甲氧基乙酸、草酰乙酸、柠檬酸、草酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、富马酸、马来酸、丙二酸、抗坏血酸、苯甲酸、3,4-二甲氧基苯甲酸等取代苯甲酸、苯氧基乙酸、邻苯二甲酸、苦味酸、烟酸、吡啶甲酸、吡嗪、吡唑、二吡啶甲酸、己二酸、对甲苯甲酸、对苯二甲酸、1,4-环己烯-2,2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸等有机酸、碱金属及碱土类金属的氢氧化物、氨、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等碱。
作为其他优选的催化剂,还能够使用磺酸类、亚磺酸类、烷基硫酸类、膦酸类和磷酸酯类等,具体而言,还能够使用对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯亚磺酸、乙酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯等有机酸。
催化剂能够单独使用或组合使用两种以上。关于催化剂量,相对于原料的金属化合物,优选为0.001~10质量%,更优选为0.05~5质量%。若催化剂量为该范围,则良好地引发溶胶-凝胶反应,并且抑制急剧反应,从而能够防止产生不均匀的溶胶-凝胶粒子。
引发溶胶-凝胶反应时,需要适量的水。水的添加量优选为完全水解原料的金属化合物时所需要的量的0.05~50倍摩尔,优选0.5~30倍摩尔。若水的量为该范围,则良好地进行水解。
溶胶-凝胶的反应液中可添加溶剂。溶剂只要是对原料的金属化合物进行溶解,且对在反应中所生成的溶胶-凝胶粒子进行溶解或分散的溶剂即可,且可使用甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等低级醇、丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮等酮类。并且,以提高背涂层的涂布面质量等为目的,能够使用乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇等乙二醇类单或二烷基醚或乙酸酯。作为溶剂,优选能够与水混合的低级醇类。关于溶胶-凝胶反应液,用溶剂调节成适合涂布的浓度,但如果从一开始就将溶剂的总量加入到反应溶液中,则有可能因为原料被稀释而难以进行水解反应。于是,优选将溶剂的一部分添加到溶胶-凝胶反应液中,且在反应进行时添加剩余的溶剂的方法。
(微粒)
背涂层包含微粒。
背涂层中所含有的微粒的特征在于,平均粒径为0.3μm以上,并且比背涂层的厚度大。
微粒优选为具有亲水性表面的微粒。具有亲水性表面的微粒包含具有亲水性表面的有机树脂微粒或具有亲水性表面的无机微粒。
具有亲水性表面的有机树脂微粒优选为被选自二氧化硅、氧化铝、二氧化钛及氧化锆中的至少一种无机化合物覆盖的有机树脂微粒。尤其优选被二氧化硅覆盖的有机树脂微粒。
构成具有亲水性表面的有机树脂微粒的有机树脂优选为选自聚丙烯酸类树脂、聚氨基甲酸酯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚酯类树脂、环氧类树脂、酚醛类树脂及三聚氰胺树脂中的至少一种树脂。
以下,以被二氧化硅覆盖的有机树脂微粒(以下,还称为覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒)为例对具有亲水性表面的有机树脂微粒进行详细说明,但本发明中的具有亲水性表面的有机树脂微粒并不限定于此。
(覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒)
覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒为用二氧化硅覆盖包含有机树脂的微粒而成的微粒。构成芯的有机树脂微粒优选不会根据空气中的湿气或温度而被软化,或者发粘。
作为构成覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的有机树脂微粒的有机树脂,例如可列举聚丙烯酸类树脂、聚氨基甲酸酯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚酯类树脂、环氧类树脂、苯酚树脂、三聚氰胺树脂等。
作为形成覆盖覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的表面的二氧化硅层的材料,可优选地列举烷氧基硅氧烷类化合物的缩合物等具有烷氧基甲硅烷基的化合物,尤其可优选地列举硅氧烷类材料,具体而言,可优选地列举二氧化硅溶胶、胶体二氧化硅、二氧化硅纳米粒子等二氧化硅微粒等。
覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的结构可以是在有机树脂微粒表面作为固体成分而粘附有二氧化硅微粒的结构,也可以是使烷氧基硅氧烷类化合物缩合反应而在有机树脂微粒表面形成了硅氧烷类化合物层的结构。
二氧化硅未必一定要覆盖有机树脂微粒表面的整个区域,若至少相对于有机树脂微粒的质量,以0.5质量%以上的量覆盖表面,则可轻松地得到本发明的效果。即,在有机树脂微粒的表面的至少一部分中存在二氧化硅,由此能够实现有机微粒表面中的共存的水溶性高分子、例如,与PVA的亲和性的提高,且即使受到外部应力的情况下也抑制微粒的脱落,并维持优异的耐刮伤性、耐粘结性。因此,本发明中的“覆盖有二氧化硅”还包含如此在有机树脂微粒的表面的至少一部分中存在二氧化硅的状态。
二氧化硅的表面覆盖状态能够通过扫描型电子显微镜(TEM)等进行形态观察而确认。并且,二氧化硅的覆盖量能够通过利用荧光X射线分析等元素分析检测Si原子,并计算存在于Si原子中的二氧化硅的量而进行确认。
覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的制造方法并无特别限制,可以是使二氧化硅微粒或二氧化硅前体化合物与成为有机树脂微粒的原料的单体成分共存而形成有机树脂微粒的同时形成二氧化硅表面覆盖层的方法,并且也可以是在形成有机树脂微粒之后,将二氧化硅微粒物理性地粘附于表面,然后固定化的方法。
以下,列举覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的制造方法的1例。首先,对包含从聚乙烯醇、甲基纤维素、聚丙烯酸等水溶性高分子或磷酸钙、碳酸钙等无机类悬浮剂等中适当选择的悬浮稳定剂的水添加二氧化硅和原料树脂(更具体而言,构成上述有机树脂的、能够悬浮聚合的单体、能够悬浮交联的预聚物或树脂液等原料树脂)并搅拌、混合而制备分散有二氧化硅和原料树脂的悬浮液。此时,通过调节悬浮稳定剂的种类、其浓度、搅拌次数等,能够形成具有目标粒径的悬浮液。接着,对该悬浮液加温而使其引发反应,且使树脂原料悬浮聚合或悬浮交联而生成树脂粒子。此时,共存的二氧化硅固定于通过聚合或交联反应而固化的树脂粒子,尤其由于该物性而固定于树脂粒子表面附近。然后,对悬浮液进行固液分离,并清洗而去除粘附在粒子的悬浮稳定剂,且使其干燥。如此,可得到二氧化硅固定而成的所希望粒径的大致球形覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒。
如此,能够在悬浮聚合或悬浮交联时控制条件而得到所希望的粒径的覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒,且还能够在未严密进行这种控制的情况下生成覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒之后,通过筛网过滤法等而得到所希望大小的覆盖有二氧化硅的有机微粒。
关于通过上述方法制造覆盖有二氧化硅的有机微粒时的混合物中的原料的添加量等,例如,原料树脂与二氧化硅的总量为100重量份时,首先对作为分散介质的水200~800重量份添加悬浮稳定剂0.1~20重量份,并充分溶解或分散,对该液中投入上述100重量份的原料树脂与二氧化硅的混合物,以分散粒子成为规定粒度的方式调整搅拌速度的同时进行搅拌,且在进行了该粒度调整之后将液温升温至30~90℃而反应1~8小时。
关于覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒的制造方法,上述的方法为其1例,例如还能够将通过日本特开2002-327036号公报、日本特开2002-173410号公报、日本特开2004-307837号公报及日本特开2006-38246号公报等中详细记载的方法得到的覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒优选地使用于本发明中。
并且,覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒还能够作为市售品而获得,具体而言,作为二氧化硅/三聚氰胺复合微粒,可列举Nissan Chemical Industries,Ltd.制OPTBEADS2000M、OPTBEADS 3500M、OPTBEADS 6500M、OPTBEADS 10500M、OPTBEADS 3500S、OPTBEADS6500S。作为二氧化硅/丙烯酸复合微粒,可列举Negami Chemical Industrial Co.,Ltd制ART PEARL G-200透明、ART PEARL G-400透明、ART PEARL G-800透明、ART PEARL GR-400透明、ART PEARLGR-600透明、ART PEARL GR-800透明、ART PEARL J-7P。作为二氧化硅/氨基甲酸酯复合微粒,可列举Negami Chemical Industrial Co.,Ltd制ART PEARLC-400透明、C-800透明、P-800T、U-600T、U-800T、CF-600T、CF800T、Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.,Ltd.制Dynamicbeads CN5070D、Danplacoat THU。
以上,以覆盖有二氧化硅的有机树脂微粒为例,对本发明所涉及的背涂层中所使用的有机树脂微粒进行了说明,但对于被氧化铝、二氧化钛或氧化锆覆盖的有机树脂微粒,能够通过替代二氧化硅而使用氧化铝,二氧化钛或氧化锆而以相同的方式实施。
作为具有亲水性表面的无机微粒,能够使用公知的具有亲水性表面的无机粒子。尤其优选包括二氧化硅、氧化铝、氧化锆或二氧化钛的微粒。
作为背涂层中所含有的微粒,还能够使用有机树脂微粒。作为有机树脂微粒,可优选地列举包括聚(甲基)丙烯酸酯类、聚苯乙烯及其衍生物、聚酰胺类、聚酰亚胺类、低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类、聚氨基甲酸酯、聚脲、聚酯类等合成树脂的微粒及包括壳多糖、壳聚糖、纤维素、交联淀粉、交联纤维素等天然高分子的微粒等。
其中,合成树脂微粒具有容易控制粒子尺寸,且通过表面改性而容易控制所希望的表面特性等优点。
这种有机树脂微粒的制造方法中,为如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)那样的比较硬的树脂时,还能够通过破碎法而微粒化,但从粒径控制的容易性、精度的观点考虑,优选地采用通过乳化/悬浮聚合法而合成粒子的方法。
有机树脂微粒的制造方法详细记载在“超微粒和材料”日本材料科学会编,Shokabo1993年发行,“微粒、粉体的制作和应用”川口春马监修、CMC出版2005年发行等。
有机树脂微粒还能够作为市售品而获得,例如可列举Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.制、交联丙烯酸树脂MX-300、MX-500、MX-1000、MX-1500H、MR-2HG、MR-7HG,MR-10HG、MR-3GSN、MR-5GSN、MR-7G、MR-10G、MR-5C、MR-7GC、苯乙烯树脂类SX-350H、SX-500H、Sekisui Plastics Co.,Ltd.制丙烯酸树脂、MBX-5、MBX-8、MBX-12、MBX-15、MBX-20、MB20X-5、MB30X-5、MB30X-8、MB30X-20、SBX-6、SBX-8、SBX-12、SBX-17、MitsuiChemicals,Inc.制聚烯烃树脂、CHEMIPEARL W100、W200、W300、W308、W310、W400、W401、W405、W410、W500、WF640、W700、W800、W900、W950、WP100等。
背涂层中所使用的微粒的形状优选为正球形,但也可以是平板形状或投影图成为椭圆形状等所谓的纺锤形状。
重要的是微粒的平均粒径比背涂层的厚度大。微粒的平均粒径优选比背涂层的厚度大0.3μm以上。
微粒的平均粒径优选为0.3~30μm,更优选为0.5~15μm,进一步优选为1~10μm。在该范围能够显现充分的间隔功能,容易固定于背涂层,且相对于来自外部的接触应力也具有优异的保持功能。
本发明中的微粒的平均粒径是指通常所使用的体积平均粒径,所述体积平均粒径能够通过激光衍射/散射式粒度分布计而测定。作为测定装置,例如可列举粒度分布测定装置“micro-trac MT-3300II」(Nikkiso Co.,Ltd.制)。
背涂层中的覆盖有二氧化硅的微粒的添加量优选为5~1000mg/m2,更优选为10~500mg/m2,进一步优选为20~200mg/m2。
能够根据需要,对背涂层添加其他添加剂,例如,用于提高背涂层的涂布性等的氟类表面活性剂、用于调整光滑性的其他表面活性剂、用于着色而辨别版种类的染料或颜料等。这些添加剂例如详细记载在日本特开平6-234284号公报的〔0030〕~〔0036〕段中。
背涂层的厚度优选为0.01~30μm,更优选为0.1~10μm,进一步优选为0.2~5μm。但是,背涂层的厚度应比背涂层中所含有的上述微粒的平均粒径小。
背涂层的厚度的测定能够通过如下而进行,即在待涂布背涂层的支撑体表面涂布背涂层涂布液而形成背涂层,用扫描型电子显微镜(SEM)观察背涂层的截面并测定5处不存在微粒的平滑区域的膜厚,并求出其平均值。
背涂层能够通过如下而制作,即对含有上述金属氧化物及微粒,且根据需要含有其他添加剂等的背涂层涂布液进行调整,并将背涂层涂布液涂布于支撑体上并干燥。背涂层的涂布中可使用棒涂布机涂布等公知的涂布方法。干燥优选50~200℃的温度、10秒钟~5分钟左右的时间。
[印刷用原版]
本发明所涉及的印刷用原版在支撑体的一侧具有含有聚合物的层。
以下,对作为印刷用原版的一优选方式的平版印刷版原版进行记载。
[平版印刷版原版]
本发明所涉及的平版印刷版原版在支撑体上具有图像记录层。平版印刷版原版中的图像记录层相当于上述印刷用原版中的含有聚合物的层。图像记录层平版印刷版原版可以根据需要而在支撑体与图像记录层之间具有底涂层,且在图像记录层上具有保护层。
〔图像记录层〕
图像记录层的一优选方式为,其非图像部在印刷机上通过酸性~碱性润版液及印刷油墨的至少一方而被去除的图像记录层。
根据一方式,图像记录层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及粘合剂聚合物的负型图像记录层(以下,还称为图像记录层A)。
根据另一方式,图像记录层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及微粒状高分子化合物的负型图像记录层(以下,还称为图像记录层B)。
根据又一方式,图像记录层为含有红外线吸收剂及热塑性聚合物微粒的图像记录层(以下,还称为图像记录层C)。
(图像记录层A)
图像记录层A含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及粘合剂聚合物。以下,对图像记录层A的构成成分进行说明。
<红外线吸收剂>
红外线吸收剂具有将所吸收的红外线转换为热的功能和通过红外线而被激发并向后述的聚合引发剂电子移动和/或能量移动的功能。本发明中所使用的红外线吸收剂优选波长760~1200nm下具有极大吸收的染料或颜料,更优选染料。
作为染料,能够使用日本特开2014-104631号公报的〔0082〕~〔0088〕段中所记载的染料。
颜料的粒径优选0.01~1μm,更优选0.01~0.5μm。分散颜料时,能够使用油墨制造或调色剂制造等中所使用的公知的分散技术。详细内容记载于“最新颜料应用技术”(CMC出版,1986年刊)等。
红外线吸收剂可以仅使用一种也可以同时使用两种以上。
红外线吸收剂的含量相对于图像记录层的总固体成分100质量份,优选为0.05~30质量份,更优选为0.1~20质量份,尤其优选为0.2~10质量份。
<聚合引发剂>
聚合引发剂为引发并促进聚合性化合物的聚合的化合物。作为聚合引发剂,能够使用公知的热聚合引发剂、具有键离解能较小的键的化合物、光聚合引发剂等。具体而言,能够使用日本特开2014-104631号公报的〔0092〕~〔0106〕段中所记载的自由基聚合引发剂。
聚合引发剂中,作为优选的化合物,可列举鎓盐,其中可列举碘鎓盐及硫鎓盐。各自的盐中的优选的具体化合物与日本特开2014-104631号公报的〔0104〕~〔0106〕段中所记载的化合物相同。
聚合引发剂的含量相对于图像记录层的总固体成分优选0.1~50质量%,更优选0.5~30质量%,尤其优选0.8~20质量%。在该范围内可得到更良好的灵敏度和印刷时的非图像部的更良好的耐污性。
<聚合性化合物>
聚合性化合物为具有至少一个烯属不饱和双键的加成聚合性化合物,选自具有至少一个末端烯属不饱和键的化合物,优选选自具有两个以上的末端烯属不饱和键的化合物。这些例如具有单体、预聚物、即二聚体、三聚体及低聚物、或它们的混合物等化学形态。具体而言,能够使用日本特开2014-104631号公报的〔0109〕~〔0113〕段中所记载的聚合性化合物。
上述中,从与机上显影性有关的亲水性和与印刷耐久性有关的聚合能力的均衡优异的方面考虑,尤其优选三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、双(丙烯酰氧基乙基)羟乙基异氰脲酸酯等异氰脲酸环氧乙烷改性丙烯酸酯类。
聚合性化合物的结构、单独使用或同时使用、添加量等的使用方法的详细内容可对应于最终的平版印刷版原版的性能设计而任意设定。聚合性化合物相对于图像记录层的总固体成分,优选在5~75质量%,进一步优选在10~70质量%,尤其优选在15~60质量%的范围内使用。
<粘合剂聚合物>
粘合剂聚合物主要以提高图像记录层的膜强度为目的而使用。粘合剂聚合物能够使用以往公知的聚合物,优选具有成膜性的聚合物。其中,优选丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂等。
作为较佳的粘合剂聚合物,可列举如日本特开2008-195018号公报中所记载的在主链或侧链具有用于提高图像部的成膜强度的交联性官能团的聚合物,优选在侧链具有的聚合物。通过交联性基团在聚合物分子间形成交联,并促进固化。
作为交联性官能团,优选(甲基)丙烯酸基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等烯属不饱和基团或环氧基等,交联性官能团能够通过高分子反应或共聚合而导入于聚合物。例如,能够利用在侧链具有羧基的丙烯酸聚合物或聚氨酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯的反应,或具有环氧基的聚合物与甲基丙烯酸等含有烯属不饱和基团的羧酸的反应。
粘合剂聚合物中的交联性基团的含量对每1g粘合剂聚合物,优选为0.1~10.0mmol,更优选为0.25~7.0mmol,尤其优选为0.5~5.5mmol。
并且,粘合剂聚合物优选具有亲水性基团。亲水性基团有助于向图像记录层赋予机上显影性。尤其,通过使交联性基团与亲水性基团共存,可兼备印刷耐久性和机上显影性。
作为亲水性基团,例如有羟基、羧基、环氧烷结构、氨基、铵基、酰胺基、磺基、磷酸基等,其中,优选具有1~9个碳原子数2或3的环氧烷单元的环氧烷结构。向粘合剂聚合物赋予亲水性基团时,例如能够通过将具有亲水性基团的单体共聚合来进行。
为了控制着墨性,粘合剂聚合物中还能够导入烷基、芳基、芳烷基、烯基等亲油性基团。例如,能够通过将甲基丙烯酸烷基酯等含亲油性基团的单体共聚合来进行。
粘合剂聚合物优选质均分子量(Mw)为2,000以上,更优选为5,000以上,进一步优选为10,000~300,000。
粘合剂聚合物的含量相对于图像记录层的总固体成分为3~90质量%为适宜,优选5~80质量%,更优选10~70质量%。
作为粘合剂聚合物的优选例,可列举在侧链具有聚氧化烯链的高分子化合物。通过在图像记录层含有高分子化合物(以下,还称为含POA链高分子化合物),润版液的浸透性得到促进,且机上显影性得到提高,该高分子化合物在侧链具有聚氧化烯链。
作为构成含POA链高分子化合物的主链的树脂,可列举丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯类树脂、酚醛清漆型酚醛类树脂、聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶,尤其优选丙烯酸树脂。
含POA链高分子化合物为实质上不包含全氟烷基的化合物。“实质上不包含全氟烷基”为高分子化合物中作为全氟烷基而存在的氟原子的质量比小于0.5质量%,优选不包含氟原子。氟原子的质量比可通过元素分析法测定。
并且,“全氟烷基”为烷基的所有氢原子被氟原子取代的基团。
作为聚氧化烯链中的环氧烷(氧亚烷基)优选碳原子数为2~6的环氧烷,更优选环氧乙烷(氧乙烯)或环氧丙烷(氧丙烯),进一步优选环氧乙烷。
聚氧化烯链、即聚(环氧烷)部位中的环氧烷的重复数优选2~50,更优选4~25。
环氧烷的重复数为2以上,则可充分提高润版液的浸透性,并且,重复数为50以下,则印刷耐久性不会因磨损而降低,因此优选。
关于聚(环氧烷)部位,优选日本特开2014-104631号公报的〔0060〕~〔0062〕段中所记载的结构。
为了提高图像部的皮膜强度,含POA链高分子化合物可以具有交联性。关于具有交联性的含POA链高分子化合物,记载在日本特开2014-104631号公报的〔0063〕~〔0072〕段中。
相对于构成含POA链高分子化合物的总重复单元,具有聚(环氧烷)部位的重复单元的比率并无特别限定,优选为0.5~80摩尔%,更优选0.5~50摩尔%。关于含POA链高分子化合物的具体例,可列举日本特开2014-104631号公报的〔0075〕~〔0076〕段中所记载的化合物。
含POA链高分子化合物能够根据需要而同时使用日本特开2008-195018号公报中所记载的聚丙烯酸、聚乙烯醇等亲水性高分子化合物。并且,还能够同时使用亲油性高分子化合物和亲水性高分子化合物。
含POA链高分子化合物在图像记录层中的形态为如下:作为发挥连接图像记录层成分的功能的粘合剂而存在,除此以外,还可以以微粒形状存在。以微粒形状存在的情况下,平均粒径为10~1000nm的范围,优选为20~300nm的范围,尤其优选为30~120nm的范围。
含POA链高分子化合物的含量相对于图像记录层的总固体成分,优选为3~90质量%,更优选为5~80质量%。在3~90质量%的范围内,能够进一步可靠地兼备润版液的浸透性和图像形成性。
作为粘合剂聚合物的另一优选例,可列举具有以6官能以上且10官能以下的多官能硫醇作为核,并通过硫醚键键合到该核的聚合物链,且该聚合物链具有聚合性基团的高分子化合物(以下,还称为星型高分子化合物)。作为星型高分子化合物,例如能够优选使用日本特开2012-148555号公报中所记载的化合物。
关于星型高分子化合物,可列举在主链或侧链,优选在侧链具有如日本特开2008-195018号公报中所记载的用于提高图像部的成膜强度的烯属不饱和键等聚合性基团的化合物。通过聚合性基团在聚合物分子间形成交联,且促进固化。
作为聚合性基团,优选(甲基)丙烯酸基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等烯属不饱和基团或环氧基等,从聚合反应性的观点考虑,更优选(甲基)丙烯酸基、乙烯基、苯乙烯基,尤其优选(甲基)丙烯酸基。这些基团能够通过高分子反应或共聚合而导入于聚合物。例如,能够利用在侧链具有羧基的聚合物与甲基丙烯酸缩水甘油酯的反应或具有环氧基的聚合物与甲基丙烯酸等含烯属不饱和基团的羧酸的反应。该些基团可以同时使用。
星型高分子化合物中的交联性基团的含量对每1g星型高分子化合物,优选为0.1~10.0mmol,更优选为0.25~7.0mmol,最优选为0.5~5.5mmol。
并且,星型高分子化合物优选还具有亲水性基团。亲水性基团有助益于向图像记录层赋予机上显影性。尤其,通过使聚合性基团与亲水性基团共存,可兼备印刷耐久性和显影性。
作为亲水性基团,可列举-SO3M1、-OH、-CONR1R2(M1表示氢、金属离子、铵离子、鏻离子,R1,R2各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基。R1与R2可以键合而形成环。)、-N+R3R4R5X-(R3~R5各自独立地表示碳原子数1~8的烷基,X-表示抗衡阴离子)、由下述通式(1)表示的基团及由通式(2)表示的基团。
[化学式1]
上式中,n及m分别独立地表示1~100的整数,R分别独立地表示氢原子或碳原子数1~18的烷基。
在此,星型高分子化合物为在侧链具有聚氧化烯链(例如,由上述通式(1)或(2)表示的基团)的星型高分子化合物的情况下,这种星型高分子化合物为在侧链具有上述聚氧化烯链的高分子化合物。
这些亲水性基团中,也优选-CONR1R2、由通式(1)表示的基团及由通式(2)表示的基团,更优选-CONR1R2及由通式(1)表示的基团,尤其优选由通式(1)表示的基团。而且由通式(1)表示的基团中,更优选n为1~10,尤其优选1~4。并且,R更优选氢原子或碳原子数1~4的烷基,尤其优选氢原子或甲基。这些亲水性基团可以同时使用两种以上。
并且,星型高分子化合物优选实质上不具有羧酸基、磷酸基、膦酸基。具体而言,优选小于0.1mmol/g,更优选小于0.05mmol/g,尤其优选为0.03mmol/g以下。这些酸基小于0.1mmol/g时显影性得到进一步提高。
并且,为了抑制着墨性,星型高分子化合物中可导入烷基、芳基、芳烷基、烯基等亲油性基团。具体而言,将甲基丙烯酸烷基酯等含亲油性基团的单体共聚合即可。
作为星型高分子化合物的具体例,可列举日本特开2014-104631号公报的〔0153〕~〔0157〕段中所记载的化合物。
存在上述多官能硫醇化合物的情况下,星型高分子化合物能够通过将构成聚合物链的上述单体自由聚合等公知的方法来合成。
星型高分子化合物的质均分子量优选5,000~500,000,更优选10,000~250,000,尤其优选20,000~150,000。在该范围内,机上显影性和印刷耐久性变得更加良好。
星型高分子化合物可以单独使用一种也可以混合使用两种以上。并且,可以与通常的直链型粘合剂聚合物同时使用。
星型高分子化合物的含有率相对于图像记录层的总固体成分,优选5~95质量%,更优选10~90质量%以下,尤其优选15~85质量%以下。
尤其,从润版液的浸透性得到促进,机上显影性得到提高的方面考虑,优选日本特开2012-148555号公报中所记载的星型高分子化合物。
<其他成分>
图像记录层A中能够根据需要而含有以下所记载的其他成分。
(1)低分子亲水性化合物
为了不降低印刷耐久性而提高机上显影性,图像记录层可以含有低分子亲水性化合物。
作为低分子亲水性化合物,例如作为水溶性有机化合物,可列举乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇等乙二醇类及其醚或酯衍生物类、甘油、季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等多元醇类、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺等有机胺类及其盐、烷基磺酸、对甲苯磺酸、苯磺酸等有机磺酸类及其盐、烷基氨基磺酸等有机氨基磺酸类及其盐、烷基硫酸、烷基醚硫酸等有机硫酸类及其盐、苯基膦酸等有机膦酸类及其盐、酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡萄糖酸、氨基酸类等有机羧酸类及其盐、甜菜碱类等。
这些中,优选含有选自多元醇类、有机硫酸盐类、有机磺酸盐类,甜菜碱类的组中的至少一个。
作为有机磺酸盐的具体化合物,可列举日本特开2007-276454号公报的〔0026〕~〔0031〕段、日本特开2009-154525号公报的〔0020〕~〔0047〕段中所记载的化合物等。盐可以为钾盐、锂盐。
作为有机硫酸盐,可列举日本特开2007-276454号公报的〔0034〕~〔0038〕段中所记载的化合物。
作为甜菜碱类,优选为针对氮原子的烃取代基的碳原子数为1~5的化合物,作为具体例,可列举三甲基铵醋酸盐、二甲基丙基铵醋酸盐、3-羟基-4-三甲基铵丁酸盐、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟基乙基-1-咪唑醋酸盐、三甲基铵甲烷磺酸盐、二甲基丙基铵甲烷磺酸盐、3-三甲基铵基-1-丙烷磺酸盐、3-(1-吡啶基)-1-丙烷磺酸盐等。
低分子亲水性化合物由于疏水性部分的结构小,因此润版液不会浸透于图像记录层曝光部(图像部)而降低图像部的疏水性或成膜强度,且能够良好地维持图像记录层的受墨性或印刷耐久性。
低分子亲水性化合物的添加量优选图像记录层总固体成分量的0.5~20质量%。更优选1~15质量%,进一步优选2~10质量%。在该范围内可得到良好的机上显影性和印刷耐久性。
化合物可以单独使用,也可以混合使用两种以上。
(2)感脂化剂
为了提高着墨性,图像记录层中能够使用鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物等感脂化剂。尤其,保护层中含有无机质层状化合物的情况下,这些化合物作为无机质层状化合物的表面覆盖剂而发挥功能,并具有防止因无机质层状化合物而印刷中途的着墨性降低的作用。
鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物的具体内容记载在日本特开2014-104631号公报的〔0184〕~〔0190〕段中。
感脂化剂的含量相对于图像记录层的总固体成分,优选0.01~30.0质量%,更优选0.1~15.0质量%,进一步优选1~10质量%。
(3)其他成分
图像记录层中作为其他成分,还能够含有表面活性剂、着色剂、印相剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机微粒、无机质层状化合物、共增感剂、链转移剂等。具体而言,能够优选使用日本特开2008-284817号公报的〔0114〕~〔0159〕段、日本特开2006-091479号公报的〔0023〕~〔0027〕段、美国专利公开2008/0311520号说明书的〔0060〕段中所记载的化合物及添加量。
<图像记录层A的形成>
图像记录层A通过如下形成:例如,如日本特开2008-195018号公报的〔0142〕~〔0143〕段中所记载,将必要的上述各成分分散或溶解于公知的溶剂来制备涂布液,在支撑体上将该涂布液直接或隔着底涂层并通过棒涂布机涂布等公知的方法进行涂布并干燥。涂布、干燥后得到的支撑体上的图像记录层涂布量(固体成分)根据用途而不同,通常优选0.3~3.0g/m2。在该范围内,可得到良好的灵敏度和图像记录层的良好的成膜特性。
(图像记录层B)
图像记录层B含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及微粒状高分子化合物。以下,对图像记录层B的构成成分进行说明。
关于图像记录层B中的红外线吸收剂、聚合引发剂及聚合性化合物,能够同样使用图像记录层A中所记载的红外线吸收剂、聚合引发剂及聚合性化合物。
<微粒状高分子化合物>
微粒状高分子化合物优选选自热塑性聚合物微粒、热反应性聚合物微粒、具有聚合性基团的聚合物微粒、内含疏水性化合物的微胶囊及微凝胶(交联聚合物微粒)。其中,优选具有聚合性基团的聚合物微粒及微凝胶。尤其优选的实施方式中,微粒状高分子化合物至少包含一个烯属不饱和聚合性基团。由于存在这种微粒状高分子化合物,可得到提高曝光部的印刷耐久性及未曝光部分的机上显影性的效果。
作为热塑性聚合物微粒,优选1992年1月的Research Disclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报及欧洲专利第931647号说明书等中所记载的热塑性聚合物微粒。
作为构成热塑性聚合物微粒的聚合物的具体例,能够列举乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或共聚物或它们的混合物。优选能够列举聚苯乙烯、包含苯乙烯及丙烯腈的共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯。热塑性聚合物微粒的平均粒径优选0.01~3.0μm。平均粒径可通过激光散射法而计算。
作为热反应性聚合物微粒,可列举具有热反应性基团的聚合物微粒。热反应性聚合物微粒通过基于热反应的交联及此时的官能团变化而形成疏水化区域。
作为具有热反应性基团的聚合物微粒中的热反应性基团,若可形成化学键,则可以为进行任何反应的官能团,优选为聚合性基团,作为其例,优选列举进行自由聚合反应的烯属不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基团(例如,乙烯基、乙烯氧基、环氧基、氧杂环丁基等)、进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段物、环氧基、乙烯氧基及作为这些的反应对象的具有活性氢原子的官能团(例如,氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基及作为反应对象的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐及作为反应对象的氨基或羟基等。
作为微胶囊,例如如日本特开2001-277740号公报、日本特开2001-277742号公报中所记载,在微胶囊内含图像记录层的构成成分的至少一部分。图像记录层的构成成分还可在微胶囊外含有。含有微胶囊的图像记录层的优选方式为如下结构,即在微胶囊内含疏水性构成成分,且在微胶囊外含有亲水性构成成分。
微凝胶(交联聚合物微粒)能够在其表面或内部的至少一方含有图像记录层的构成成分的一部分。尤其,从图像形成灵敏度或印刷耐久性的观点考虑,优选在其表面具有自由聚合性基团的反应性微凝胶。
将图像记录层的构成成分微胶囊化或微凝胶化时,能够应用公知的方法。
微粒状高分子化合物的平均粒径优选0.01~3.0μm,更优选0.03~2.0μm,进一步优选0.10~1.0μm。在该范围内,可得到良好的分辨率和经时稳定性。平均粒径可通过激光散射法而计算。
微粒状高分子化合物的含量优选图像记录层总固体成分的5~90质量%。
<其他成分>
图像记录层B中能够根据需要而含有上述图像记录层A中所记载的其他成分。
<图像记录层B的形成>
关于图像记录层B的形成,能够应用形成上述图像记录层A的记载。
(图像记录层C)
图像记录层C含有红外线吸收剂及热塑性聚合物微粒。以下,对图像记录层C的构成成分进行说明。
<红外线吸收剂>
图像记录层C中所包含的红外线吸收剂优选为在760~1200nm具有极大吸收的染料或颜料。更优选染料。
作为染料,能够利用市售的染料及文献(例如“染料便览”有机合成化学协会编辑,昭和45年刊,“化学工业”1986年5月号P.45~51的“近红外吸收色素”,“90年代功能性色素的开发和市场动向”第2章2.3项(CMC出版,1990年刊))或日本专利中所记载的公知的染料。具体而言,优选偶氮染料、金属络盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亚胺染料、聚次甲基染料、花青染料等红外线吸收染料。
这些中,添加于图像记录层时尤其优选的染料为具有水溶性基的红外线吸收染料。
以下示出红外线吸收染料的具体例,但本发明并不限定于这些。
[化学式2]
[化学式3]
作为颜料,能够利用市售的颜料及比色指数(C.I.)便览、“最新颜料便览”(日本颜料技术协会编,1977年刊),“最新颜料应用技术”(CMC出版,1986年刊),“印刷油墨技术”(CMC出版,1984年刊)中所记载的颜料。
颜料的粒径优选0.01~1μm,更优选0.01~0.5μm。作为分散颜料的方法,可使用油墨制造或调色剂制造等中所使用的公知的分散技术。详细内容记载于“最新颜料应用技术”(CMC出版,1986年刊)。
红外线吸收剂的含量优选图像记录层固体成分的0.1~30质量%,更优选0.25~25质量%,尤其优选0.5~20质量%。在该范围内,不会损害图像记录层的膜强度且可得到良好的灵敏度。
<热塑性聚合物微粒>
热塑性聚合物微粒优选其玻璃化转变温度(Tg)为60℃~250℃。热塑性聚合物微粒的Tg更优选70℃~140℃,进一步优选80℃~120℃。
作为Tg为60℃以上的热塑性聚合物微粒,例如作为较佳的微粒能够列举1992年1月的Reseach Disclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报及EP931647号公报等中所记载的热塑性聚合物微粒。
具体而言,能够例示由乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯咔唑等单体构成的均聚物或共聚物或它们的混合物等。作为较佳的化合物,可列举聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等。
若考虑分辨率及经时稳定性,则热塑性聚合物微粒的平均粒径优选为0.005~2.0μm。该值还可作为混合有两种以上的热塑性聚合物微粒的情况下的平均粒径而应用。平均粒径更优选为0.01~1.5μm,尤其优选为0.05μm~1.0μm。混合有两种以上的热塑性聚合物微粒的情况下的多分散性优选为0.2以上。平均粒径及多分散性可通过激光散射法来计算。
可以混合使用两种以上的热塑性聚合物微粒。具体而言,可列举使用粒子尺寸不同的至少两种或使用Tg不同的至少两种的情况。通过混合使用两种以上,图像部的成膜固化性进一步提高,作为平版印刷版的情况下,印刷耐久性进一步提高。
例如,作为热塑性聚合物微粒使用粒子尺寸相同的微粒的情况下,在热塑性聚合物微粒间会存在一定程度的孔隙,且即使通过图像曝光而使热塑性聚合物微粒熔融固化,有时成膜固化性也达不到所希望的程度。相对于此,作为热塑性聚合物微粒而使用粒子尺寸不同的微粒的情况下,可降低热塑性聚合物微粒间的孔隙率,其结果,能够提高图像曝光后的图像部的成膜固化性。
并且,作为热塑性聚合物微粒而使用Tg相同的微粒的情况下,通过图像曝光而图像记录层的温度未充分上升时,热塑性聚合物微粒未充分熔融固化而有时成膜固化性达不到所希望的程度。相对于此,作为热塑性聚合物微粒而使用Tg不同的微粒的情况下,即使通过图像曝光而图像记录层的温度未充分上升,也能够提高图像部的成膜固化性。
混合使用两种以上的Tg不同的热塑性聚合物微粒的情况下,至少一种热塑性聚合物微粒的Tg优选为60℃以上。此时,Tg之差优选为10℃以上,更优选为20℃以上。并且,优选相对于所有热塑性聚合物微粒含有70质量%以上的Tg为60℃以上的热塑性聚合物微粒。
热塑性聚合物微粒可具有交联性基团。使用具有交联性基团的热塑性聚合物微粒,由此通过图像曝光部中所产生的热而交联性基团热反应并在聚合物间形成交联,图像部的成膜强度得到提高,且印刷耐久性变得更加优异。若作为交联性基团可形成化学键,则可以为进行任何反应的官能团,例如,能够列举进行聚合反应的烯属不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段物及作为其反应对象的具有活性氢原子的基团(例如,氨基、羟基、羧基等)、同样地进行加成反应的环氧基及作为其反应对象的氨基、羧基或羟基、进行缩合反应的羧基和羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐和氨基或羟基等。
作为具有交联性基团的热塑性聚合物微粒,具体而言,能够列举丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基、环氧基、氨基、羟基、羧基、异氰酸酯基、酸酐及保护这些的基团等具有交联性基团的微粒。将这些交联性基团导入到聚合物时,可在聚合物微粒聚合时进行,也可以在聚合物微粒聚合之后利用高分子反应来进行。
在聚合物微粒聚合时导入交联性基团的情况下,优选乳液聚合或悬浮聚合具有交联性基团的单体。作为具有交联性基团的单体的具体例、能够列举甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸乙烯酯、丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯、2-甲基丙烯酸异氰基乙酯或基于其醇等的封端异氰酸酯、2-丙烯酸异氰基乙酯或基于其醇等的封端异氰酸酯、2-氨乙基甲基丙烯酸酯、2-氨乙基丙烯酸酯、2-甲基丙烯酸羟乙酯、2-丙烯酸羟乙酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、2官能丙烯酸酯、2官能甲基丙烯酸酯等。
作为在聚合物微粒聚合之后进行交联性基团的导入时所利用的高分子反应,例如能够列举WO96/34316号中所记载的高分子反应。
关于热塑性聚合物微粒,聚合物微粒彼此可以经由交联性基团而反应,也可以与添加在图像记录层的高分子化合物或低分子化合物反应。
热塑性聚合物微粒的含量优选为图像记录层固体成分的50~95质量%,更优选60~90质量%,尤其优选70~85质量%。
<其他成分>
图像记录层C中可根据需要而还含有其他成分。
<具有聚氧化烯基或羟基的表面活性剂>
作为具有聚氧化烯基(以下,还记载为POA基)或羟基的表面活性剂,能够适当地使用具有POA基或羟基的表面活性剂,但优选阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂。具有POA基或羟基的阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂中,优选具有POA基的阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂。
作为POA基,优选聚氧乙烯基、聚氧丙烯基、聚氧丁烯基等,尤其优选聚氧乙烯基。
氧化烯基的平均聚合度通常为2~50为适宜,优选为2~20。
羟基的数通常为1~10为适宜,优选为2~8。但是,氧化烯基中的末端羟基并不包含于羟基的数量中。
(具有POA基或羟基的阴离子表面活性剂)
作为具有POA基的阴离子表面活性剂,并无特别限定,可列举聚氧化烯烷基醚羧酸盐类、聚氧化烯烷基磺基琥珀酸盐类、聚氧化烯烷基醚硫酸酯盐类、烷基苯氧基聚氧化烯丙基磺酸盐类、聚氧化烯烷基磺基苯醚类、聚氧化烯芳基醚硫酸酯盐类、聚氧化烯多环苯基醚硫酸酯盐类、聚氧化烯苯乙烯基苯基醚硫酸酯盐类、聚氧化烯烷基醚磷酸酯盐类、聚氧化烯烷基苯基醚磷酸酯盐类、聚氧化烯全氟烷基醚磷酸酯盐类等。
作为具有羟基的阴离子表面活性剂,并无特别限定,可列举羟基羧酸盐类、羟烷基醚羧酸盐类、羟烷基磺酸盐类、脂肪酸单甘油酯硫酸酯盐类、脂肪酸单甘油酯磷酸酯盐类等。
具有POA基或羟基的表面活性剂的含量优选为图像记录层固体成分的0.05~15质量%,更优选0.1~10质量%。
以下,列举具有POA基或羟基的表面活性剂的具体例,但本发明并不限定于这些。下述表面活性剂A-12为ZONYL FSP的产品名且能够从Du Pont公司得到。并且,下述表面活性剂N-11为ZONYL FSO 100的产品名且能够从Du Pont公司得到。
[化学式4]
[化学式5]
以确保图像记录层的涂布的均匀性为目的,图像记录层中可以含有不具有聚氧化烯基及羟基的阴离子表面活性剂。
该阴离子表面活性剂只要能实现上述目的,则并无特别限制。其中,优选烷基苯磺酸或其盐、烷基萘磺酸或其盐、(二)烷基二苯基醚(二)磺酸或其盐、烷基硫酸酯盐。
不具有聚氧化烯基及羟基的阴离子表面活性剂的添加量相对于具有聚氧化烯基或羟基的表面活性剂优选1~50质量%,更优选1~30质量%。
以下,列举不具有聚氧化烯基及羟基的阴离子表面活性剂的具体例,但本发明并不限定于该些。
[化学式6]
并且,以确保图像记录层的涂布的均匀性为目的,可以使用不具有聚氧化烯基及羟基的非离子表面活性剂或氟类表面活性剂。例如,优选使用日本特开昭62-170950号中所记载的氟类表面活性剂。
图像记录层能够含有亲水性树脂。作为亲水性树脂,例如优选具有羟基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨乙基、氨丙基、羧基、羧酸盐基、磺基、磺酸基、磷酸基等亲水基团的树脂。
作为亲水性树脂的具体例,能够列举***胶、酪蛋白、明胶、淀粉衍生物、羧甲基纤维素及其钠盐、醋酸纤维素、海藻酸钠、醋酸乙烯-马来酸共聚物类、苯乙烯-马来酸共聚物类、聚丙烯酸类及其盐、聚甲基丙烯酸类及其盐、羟乙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟乙基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丙基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丁基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丁基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、聚乙二醇类、羟丙烯聚合物类、聚乙烯醇类、水解度至少为60%、优选至少为80%的水解聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇丁缩醛、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酰胺的均聚物及共聚物、甲基丙烯酰胺的均聚物及共聚物、N-羟甲基丙烯酰胺的均聚物及共聚物等。
从可得到充分的成膜强度和印刷耐久性的观点考虑,亲水性树脂的质均分子量优选为2,000以上。
亲水性树脂的含量优选为图像记录层固体成分的0.5~50质量%,更优选1~30质量%。
图像记录层可以含有无机微粒。作为无机微粒,可将二氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化钛、碳酸镁、海藻酸钙或它们的混合物等作为较佳的例而列举。无机微粒能够以强化皮膜等为目的而使用。
无机微粒的平均粒径优选5nm~10μm,更优选10nm~1μm。在该范围内,能够与热塑性聚合物微粒稳定地分散,充分保持图像记录层的膜强度,并形成不易产生印刷污染且亲水性优异的非图像部。
无机微粒能够作为胶体二氧化硅分散物等市售品而得到。
无机微粒的含量优选为图像记录层固体成分的1.0~70质量%,更优选5.0~50质量%。
图像记录层中,为了赋予涂膜的柔软性等而能够含有增塑剂。作为增塑剂,例如可列举聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、四氢糠基油酸酯等。
增塑剂的含量优选为图像记录层固体成分的0.1%~50质量%,更优选1~30质量%。
图像记录层中,使用具有热反应性官能团(交联性基团)的聚合物微粒的情况下,能够根据需要添加引发或促进热反应性官能团(交联性基团)的反应的化合物。作为引发或促进热反应性官能团的反应的化合物,能够列举通过热而产生如自由基或阳离子的化合物。例如,可列举包含洛粉碱二聚体、三卤甲基化合物、过氧化物、偶氮化合物、重氮盐、二苯碘鎓盐等的鎓盐、酰基膦、酰亚胺磺酸等。这种化合物的添加量优选为图像记录层固体成分的1~20质量%,更优选1~10质量%。在该范围内,不会损害机上显影性且可得到引发或促进反应的良好的效果。
<图像记录层C的形成>
图像记录层C如下形成:将必要的上述各成分溶解或分散于适当的溶剂来制备涂布液,并在支撑体上直接或隔着底涂层涂布该涂布液。作为溶剂,可使用水或水与有机溶剂的混合溶剂,但从使涂布后的面状为良好的方面考虑,优选混合使用水与有机溶剂。有机溶剂的量根据有机溶剂的种类而不同,因此无法明确确定,优选通常在混合溶剂中为5~50容量%。然而,有机溶剂需要以热塑性聚合物微粒不凝聚的范围的量使用。图像记录层用涂布液的固体成分浓度优选为1~50质量%。
用作涂布液的溶剂的有机溶剂优选可溶解于水的有机溶剂。具体而言,可列举甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-甲氧基-2-丙醇等醇溶剂、丙酮、甲基乙基酮等酮溶剂、乙二醇二甲醚等二醇醚溶剂、γ-丁内酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二甲基亚砜等。尤其,优选沸点为120℃以下,且相对于水的溶解度(相对于水100g的溶解量)为10g以上的有机溶剂,更优选20g以上的有机溶剂。
作为图像记录层用涂布液的涂布方法,能够利用各种方法。例如,可列举棒涂布机涂布、旋转涂布、喷射涂布、帘式涂布、浸渍涂布、气刀涂布、刮板涂布、辊式涂布等。涂布、干燥后得到的支撑体上的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同,通常优选0.5~5.0g/m2,更优选0.5~2.0g/m2。
本发明所涉及的平版印刷版原版的图像记录层中,其非图像部可以是通过显影液而被去除的图像记录层。这种图像记录层包含作为所谓的显影处理型平版印刷版原版而公知的大多数的平版印刷版原版的图像记录层。
根据通过显影液而被去除的图像记录层的一方式,图像记录层为含有增感色素、聚合引发剂、聚合性化合物及粘合剂聚合物的负型图像记录层。这种负型图像记录层例如作为<记录层>记载在日本特开2008-15503号公报的〔0057〕-〔0154〕段中。
根据通过显影液而被去除的图像记录层的一方式,图像记录层为含有水不溶性且碱溶性树脂及红外线吸收剂的正型图像记录层。这种正型图像记录层例如作为〔记录层〕记载在日本特开2007-148040号公报的〔0055〕-〔0132〕段中。
以下,对平版印刷版原版的其他构成要件进行记载。
〔底涂层〕
平版印刷版原版中,在图像记录层与支撑体之间,能够根据需要设置底涂层。底涂层由于在曝光部中强化支撑体与图像记录层的粘合,且在未曝光部分中使得容易从图像记录层的支撑体产生剥离,从而不损害印刷耐久性而有助于提高机上显影性。并且,红外线激光曝光的情况下,底涂层作为绝热层而发挥功能,由此具有通过曝光而产生的热扩散于支撑体而防止灵敏度下降的作用。
作为使用于底涂层的化合物,具体而言,可列举日本特开平10-282679号公报中所记载的具有可加成聚合的烯属双键反应性基团的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报中所记载的具有烯属双键反应性基团的磷化合物。作为优选的化合物,可列举如日本特开2005-125749号公报及日本特开2006-188038号公报中所记载那样,具有可吸附于支撑体表面的吸附性基团、亲水性基团及交联性基团的高分子化合物。作为这种高分子化合物,优选为具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体及具有交联性基团的单体的共聚物。进一步具体而言,可列举酚性羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3等具有吸附性基团的单体、磺基等具有亲水性基团的单体、及甲基丙烯酸基、烯丙基等具有可聚合交联性基团的单体的共聚物。高分子化合物可以具有通过高分子化合物的极性取代基与具有相反电荷的取代基及具有烯属不饱和键的化合物的盐形成而导入的交联性基团。并且,可以进一步共聚合上述以外的单体,优选亲水性单体。
底涂层用高分子化合物中的不饱和双键的含量对每1g高分子化合物,优选为0.1~10.0mmol,更优选为2.0~5.5mmol。
底涂层用高分子化合物的质均分子量优选为5,000以上,更优选为10,000~300,000。
底涂层中,除了上述底涂层用化合物以外,为了防止随着时间的推移的污染,能够含有螯合剂、仲胺或叔胺、聚合抑制剂、具有氨基或具有聚合抑制能的官能团和与铝支撑体表面相互作用的基团的化合物等(例如,1,4-二氮杂二环[2,2,2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对苯醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、羟乙基亚氨二乙酸等)。
底涂层可通过公知的方法来涂布。底涂层的涂布量(固体成分)优选0.1~100mg/m2,更优选1~30mg/m2。
〔支撑体〕
作为平版印刷版原版的支撑体,可使用公知的支撑体。其中,优选通过公知的方法进行粗糙化处理,且进行阳极氧化处理的铝板。
关于铝板,能够根据需要对其适当选择进行如下处理,即日本特开2001-253181号公报或日本特开2001-322365号公报中所记载的阳极氧化皮膜的微孔的扩大处理或封孔处理及基于如美国专利第2,714,066号、美国专利第3,181,461号、美国专利第3,280,734号及美国专利第3,902,734号的各说明书中所记载的碱金属硅酸盐或如美国专利第3,276,868号、美国专利第4,153,461号及美国专利第4,689,272号的各说明书中所记载的聚乙烯基膦酸等的表面亲水处理。
支撑体的中心线平均粗细优选为0.10~1.2μm。
〔保护层〕
平版印刷版原版中,能够根据需要在图像记录层上设置保护层。保护层除了通过阻氧来抑制图像形成阻碍反应的功能以外,还具有防止图像记录层中产生伤痕及防止高照度激光曝光时烧蚀的功能。
关于具有这种功能的保护层,能够使用日本特开2014-104631号公报的〔0202〕~〔0204〕段中所记载的保护层。
保护层可通过公知的方法来涂布。保护层的涂布量以干燥后的涂布量计,优选0.01~10g/m2,更优选0.02~3g/m2,尤其优选0.02~1g/m2。
平版印刷版原版能够通过如下来制造,即依照通常的方法涂布各结构层的涂布液,并干燥而形成各结构层。涂布中使用模具涂布法、浸渍涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法、辊式涂布法、线棒涂布法、凹版涂布法、滑动式涂布法等。
以下,对作为印刷用原版的另一优选方式的印刷用废弃版原版进行记载。
印刷用废弃版原版为用于经与平版印刷版原版相同的制版工序(其中,不进行图像曝光)而制作印刷用废弃版的原版,基本上不具有感光性。关于印刷用废弃版,如在印刷领域中众所周知那样,例如,在彩色报刊印刷(多色印刷)中需要用2色或1色对一部分的纸面进行印刷时,安装于印版滚筒而使用。
[印刷用废弃版原版]
本发明所涉及的印刷用废弃版原版在支撑体上具有非感光性层。印刷用废弃版原版中的非感光性层相当于上述印刷用原版中的含有聚合物的层。印刷用废弃版原版可以根据需要在支撑体与非感光性层之间具有底涂层,且在非感光性层上具有亲水层。
非感光性层的一优选方式为其在印刷机上通过酸性~碱性润版液及印刷油墨中的至少一方而被去除的非感光性层。
印刷用废弃版原版中的非感光性层优选包含水溶性粘合剂聚合物或水不溶性且碱溶性粘合剂聚合物(以下,还称为“粘合剂聚合物”。)。并且,非感光性层能够含有在350~550nm具有极大吸收的着色剂及低分子酸性化合物。
印刷用废弃版原版中的非感光性层中所含有的粘合剂例如记载在日本特开2011-218778号公报的〔0069〕-〔0074〕段中。
印刷用废弃版原版中的非感光性层及其形成方法例如记载在日本特开2011-218778号公报的〔0021〕-〔0054〕段中。
印刷用废弃版原版中的亲水层含有粘合剂。
亲水层的形成能够通过如下而形成,即例如应用美国专利第3,458,311号说明书或日本特开昭55-49729号公报中所记载的方法,将对粘合剂及根据目的而添加的着色剂、水溶性增塑剂、表面活性剂等各种添加剂进行搅拌、混合而制备的亲水层涂布液涂布于非感光性层上。亲水层的涂布量优选为0.2~5.0g/m2,更优选为0.3~3.0g/m2。
印刷用废弃版原版中的亲水层中所含有的粘合剂例如记载在日本特开2011-218778号公报的〔0069〕-〔0074〕段中。
以下,对本发明所涉及的印刷用原版的制版进行记载。本发明所涉及的印刷用原版的制版基本上包括图像曝光工序及显影处理工序。另外,本发明所涉及的印刷用原版中,印刷用废弃版原版不经过图像曝光工序而进行显影处理工序。
〔图像曝光工序〕
平版印刷版原版的图像曝光能够依据通常的平版印刷版原版的图像曝光操作来进行。
关于图像曝光,通过具有线图像、网点图像等的透明原图而激光曝光或通过基于数字数据的激光扫描等进行。优选使用700~1400nm的光源的波长。作为700~1400nm的光源,优选辐射红外线的固体激光及半导体激光。关于红外线激光,输出优选为100mW以上,每1像素的曝光时间优选为20微秒以内,且照射能量优选为10~300mJ/cm2。为了缩短曝光时间,优选使用多束激光设备。曝光机构可以为内鼓方式、外鼓方式、平板方式等中的任一个。图像曝光能够使用板定型机等并通过常规方法来进行。
〔显影处理工序〕
显影处理能够通过通常的方法来进行。机上显影时,对经图像曝光的平版印刷版原版,在印刷机上供给润版液和印刷油墨,则在图像记录层的曝光部中,由通过曝光而固化的图像记录层形成具有亲油性表面的印刷油墨容纳部。另一方面,在未曝光部分,通过所供给的润版液和/或印刷油墨,未固化的图像记录层通过溶解或分散而被去除,且亲水性表面露出于该部分。其结果,润版液附着于露出的亲水性表面,印刷油墨着墨于曝光区域的图像记录层而开始进行印刷。
在此,最初向平版印刷版原版的表面供给的可以为润版液也可以为印刷油墨,但为了使润版液浸透而促进机上显影性,优选最初供给润版液。
使用显影液的显影处理能够通过常规方法来进行。显影处理型负型平版印刷版原版的显影处理例如记载在日本特开2008-15503号公报的〔0197〕-〔0220〕段中。显影处理型正型平版印刷版原版的显影处理例如记载在日本特开2007-148040号公报的〔0157〕-〔0160〕段中。
〔印刷用原版层叠体、印刷版层叠体〕
本发明所涉及的印刷用原版层叠体为不隔着衬纸而将本发明所涉及的印刷用原版直接层叠多个(通常为2~500张)而成的层叠体。
本发明所涉及的印刷用原版层叠体中,由于本发明所涉及的印刷用原版所具有的特定结构的背涂层而滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任意性能均优异,并且不会产生集成位移。
本发明所涉及的印刷版层叠体为不隔着衬纸而将平版印刷版或印刷用废弃版分别直接层叠多张左右而成的层叠体。关于这种层叠体,在制版后,直至印刷开始隔着几个小时~几天左右时,在将平版印刷版或印刷用废弃版分别层叠多张左右而静置于适当的位置时形成。
本发明所涉及的印刷用层叠体中,由于本发明所涉及的印刷用原版所具有的特定结构的背涂层而滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任意性能均优异,并且很难产生集成位移。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行详细说明,但本发明并不限定于这些。另外,高分子化合物中,在无特别规定的情况以外,分子量为质均分子量(Mw),重复单元的比率为摩尔百分率。并且,质均分子量(Mw)为作为基于凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算值而测定的值。
[实施例101~114及比较例101~107]
〔平版印刷版原版101的制作〕
<支撑体1的制作>
对厚度0.3mm的表A中所示的组成的铝合金板实施下述(a)~(m)的处理,从而制作了支撑体1。另外,在所有处理工序之间实施水洗处理,且在水洗处理之后通过轧辊进行了排液。
[表1]
表A
(a)机械性粗糙化处理(刷粒法)
将浮石粉悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液而向铝板表面供给的同时通过旋转的硬毛束刷来进行了机械性粗糙化处理。
机械性粗糙化处理中,将研磨材料的浮石粉的中值粒径设为30μm,将硬毛束刷的数量设为4,将硬毛束刷的转速设为250rpm来进行。硬毛束刷的材质为6·10尼龙,刷毛的直径为0.3mm,毛长为50mm。硬毛束刷为在φ300mm的不锈钢制筒中开孔并进行植毛而使其变密的刷子。硬毛束刷下部的2根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。将硬毛束刷按压至使刷子旋转的驱动马达的负载比向铝板按压硬毛束刷之前的负载大10kW为止。硬毛束刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(b)碱性蚀刻处理
在温度70℃下通过喷射管向铝板喷吹苛性钠浓度26质量%、铝离子浓度6.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。之后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为10g/m2。
(c)酸性水溶液中的除污处理
接着,在硝酸水溶液中进行了除污处理。除污处理中所使用的硝酸水溶液使用了在下一工序的电化学粗糙化中所使用的硝酸电解液。液温为35℃。通过喷射喷吹除污液来进行了3秒钟的除污处理。
(d)电化学粗糙化处理
使用60Hz的交流电压来连续进行了电化学粗糙化处理。电解液使用了向温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液添加硝酸铝来将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。交流电源波形使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec,duty比1∶1,梯形的矩形波交流,且将碳电极作为对电极来进行了电化学粗糙化处理。辅助阳极使用了铁氧体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2,使来自电源的5%的电流向辅助阳极分流。电量以铝板为阳极时的电量的总和计为185C/dm2。之后通过喷射进行了水洗。
(e)碱性蚀刻处理
在温度50℃下通过喷射管向铝板喷吹苛性钠浓度5质量%、铝离子浓度0.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。之后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(f)酸性水溶液中的除污处理
接着,在硝酸水溶液中进行了除污处理。除污处理中使用了硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的硫酸水溶液。液温为60℃。通过喷射喷吹除污液来进行了3秒钟的除污处理。
(g)电化学粗糙化处理
使用60Hz的交流电压来连续进行了电化学粗糙化处理。电解液使用了向液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液添加盐化铝来将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。交流电源波形使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec,duty比1∶1,梯形的矩形波交流,且将碳电极作为对电极来进行了电化学粗糙化处理。辅助阳极使用了铁氧体。电解槽使用了图4所示的电解槽。电流密度以电流的峰值计为25A/dm2,盐酸电解中的电量以铝板为阳极时的电量的总和计为63C/dm2。之后通过喷射进行了水洗。
(h)碱性蚀刻处理
在温度50℃下通过喷射管向铝板喷吹苛性钠浓度5质量%、铝离子浓度0.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。之后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(i)酸性水溶液中的除污处理
接着,在硝酸水溶液中进行了除污处理。使用阳极氧化处理工序中所使用的硫酸水溶液(硫酸170g/L水溶液中含有5g/L的铝离子),在液温35℃下进行了4秒钟的除污处理。通过喷射喷吹除污液来进行了3秒钟的除污处理。
(j)第1阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行了第1阶段的阳极氧化处理。通过表B所示的条件进行阳极氧化处理,从而形成了规定皮膜厚度的阳极氧化皮膜。电解液中使用了包含表B所示的成分的水溶液。表B~表D中,“成分浓度”表示“溶液成分”栏中所记载的各成分的含有浓度(g/L)。
[表2]
表B
(k)第2阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行了第2阶段的阳极氧化处理。通过表C所示的条件进行阳极氧化处理,从而形成了规定皮膜厚度的阳极氧化皮膜。电解液中使用了包含表C所示的成分的水溶液。
[表3]
表C
(l)第3阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行了第3阶段的阳极氧化处理。通过表D所示的条件进行阳极氧化处理,从而形成了规定皮膜厚度的阳极氧化皮膜。电解液中使用了包含表D所示的成分的水溶液。
[表4]
表D
(m)亲水化处理
为了确保非图像部的亲水性,使用2.5质量%的3号硅酸钠水溶液在50℃下浸渍7秒钟来实施了硅酸盐处理。Si的附着量为8.5mg/m2。之后,通过喷射进行了水洗。
将上述中所得到的具有微孔的阳极氧化皮膜中的大径孔部的阳极氧化皮膜表面中的平均直径(表层平均直径)、大径孔部的连通位置中的平均直径(底部平均直径)、小径孔部的连通位置中的平均直径(小径孔部直径)、大径孔部及小径孔部的平均深度、小径孔部的底部至铝板表面为止的阳极氧化皮膜的厚度(阻挡层厚度)、小径孔部的密度等示于表E。上述小径孔部包含深度不同的第1小径孔部及第2小径孔部,将较深的一方称为第1小径孔部。
[表5]
表E(其1)
[表6]
表E(其2)
表E中,作为阻挡层厚度,示出平均值和最小值。平均值为如下:在50处测定第1小径孔部的底部至铝板表面为止的阳极氧化皮膜的厚度,并进行算数平均而得。
微孔的平均直径(大径孔部及小径孔部的平均直径)为如下值:以倍率15万倍的FE-SEM观察N=4张大径孔部表面及小径孔部表面,在所得到的4张图像中,测定存在于400×600nm2的范围的微孔(大径孔部及小径孔部)的直径,并进行平均而得到。另外,大径孔部的深度较深,且很难测定小径孔部的直径的情况下,切削阳极氧化皮膜上部,之后求出各种直径。
大径孔部的平均深度为以倍率50万倍的FE-TEM观察支撑体(阳极氧化皮膜)的截面,在所得到的图像中,测定60个(N=60)任意的微孔表面至连通位置为止的距离,并进行平均而得到的值。并且,小径孔部的平均深度为通过FE-SEM(5万倍)观察支撑体(阳极氧化皮膜)的截面,在所得到的图像中,测定任意25个微孔的深度,并进行平均而得到的值。
“连通部密度”是指,连通位置中的阳极氧化皮膜截面的小径孔部的密度“表面积增加倍率”是指,根据下述式(A)计算的值。
式(A)
表面积增加倍率=1+孔密度×((π×(表层平均直径/2+底部平均直径/2)×((底部平均直径/2-表层平均直径/2)2+深度A2)1/2+π×(底部平均直径/2)2-π×(表层平均直径/2)2))
小径孔部的“平均深度(nm)”栏中,第2小径孔部的平均深度示于左侧,且将第1小径孔部的平均深度示于右侧。表E中的小径孔部的“连通部密度”栏中,将第1小径孔部的密度与小径孔部的连通部密度一同示于括号内。
并且,位于从第2小径孔部的底部至第1小径孔部的底部为止的第1小径孔部的平均直径为12nm左右。
<背涂层的形成>
(背涂层涂布液(1)的制备)
若将上述成分进行混合、搅拌,则在约5分钟开始发热。反应60分钟之后,通过添加以下所示的溶液而制备了背涂层涂布液(1)。另外,通过上述成分的混合、搅拌而生成的反应生成物在后面揭示的表F~I中表示为金属氧化物1。
在支撑体1的一表面,将上述组成的背涂层涂布液(1)进行棒涂,在100℃下干燥120秒钟而形成了厚度1.5μm的背涂层。
<底涂层的形成>
在支撑体1的另一表面,将下述组成的底涂层涂布液(1)以干燥涂布量成为20mg/m2的方式进行涂布,从而形成了底涂层。
(底涂层涂布液(1))
[化学式7]
<图像记录层的形成>
在底涂层上,将下述组成的图像记录层涂布液(1)进行棒涂之后,在100℃下烘干60秒钟,从而形成了干燥涂布量1.0g/m2的图像记录层。
图像记录层涂布液(1)通过在即将涂布之前混合并搅拌下述感光液(1)及微凝胶液(1)来得到。
(图像记录层涂布液(1))
(感光液(1))
三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯
(NK酯A-9300,Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)
·阴离子性表面活性剂1(下述结构) 0.050g
·感脂化剂 0.055g
鏻化合物(1)(下述结构)
·感脂化剂 0.018g
苄基二甲基辛基铵·PF6盐
·感脂化剂 0.040g
含铵基聚合物(下述结构)
(Mw:50,000,折合比浓粘度45ml/g)
·氟类表面活性剂(1)(下述结构) 0.008g
·2-丁铜 1.091g
·1-甲氧基-2-丙醇 8.609g
(微凝胶液(1))
·微凝胶(1) 2.640g
·蒸馏水 2.425g
[化学式8]
[化学式9]
(微凝胶(1)的制作)
作为油相成分,加成下述结构的多官能异氰酸酯(Mitsui Chemicals,Inc.制;75质量%的乙酸乙酯溶液)4.46g、三羟甲基丙烷(6摩尔)和二甲苯二异氰酸酯(18摩尔),并对这些加成甲基单端末聚氧乙烯(1摩尔,氧乙烯单元的重复数:90)而成的加成物(MitsuiChemicals Polyurethanes Inc.制;50质量%的乙酸乙酯溶液)10g、季戊四醇三丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制,SR444)3.15g及PIONIN A-41C(Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制)0.1g溶解于乙酸乙酯17g。作为水相成分制备了聚乙烯醇(Kuraray Co.,Ltd.制,PVA-205)的4质量%水溶液40g。将油相成分及水相成分混合,并使用均料器以12,000rpm乳化了10分钟。将所得到的乳化物添加于25g的蒸馏水,在室温下搅拌30分钟之后,在50℃下搅拌了3小时。使用蒸馏水进行稀释,使得如此得到的微凝胶液的固体成分浓度成为15质量%,从而制作了微凝胶(1)。通过光散射法测定的微凝胶的平均粒径为0.2μm。
[化学式10]
<保护层的形成>
在图像记录层上,将下述组成的保护层涂布液(1)棒涂后,在120℃下烘干60秒钟,并形成干燥涂布量0.15g/m2的保护层来制作了平版印刷版原版101。
(保护层用涂布液(1))
·无机层状化合物分散液(1)(下述) 1.5g
·亲水性聚合物(1)(下述结构,Mw:30,000)(固体成分) 0.03g
·聚乙烯醇(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制,CKS50,
0.10g
磺酸改性,皂化度99摩尔%以上,聚合度300)6质量%水溶液
·聚乙烯醇(Kuraray Co.,Ltd.制,PVA-405,0.03g皂化度81.5摩尔%,聚合度500)6质量%水溶液
·表面活性剂(EMALEX710,Nihon Emulsion Co.,Ltd.制) 0.86g
(下述结构)1质量%水溶液
·离子交换水 6.0g
[化学式11]
(无机层状化合物分散液(1)的制备)
向离子交换水193.6g添加合成云母SOMASIF ME-100(Co-op Chemical Co.,Ltd.制)6.4g,使用均料器分散至体积平均粒径(激光散射法)成为3μm。所得到的分散粒子的纵横比为100以上。
〔平版印刷版原版102~111的制作〕
在平版印刷版原版101的制作中,如下述表F中所示出那样对背涂层涂布液中的金属氧化物的种类、微粒的种类、平均粒径及添加量、以及背涂层的厚度进行变更,除此以外,以相同的方式制作了平版印刷版原版102~111。
〔平版印刷版原版112的制作〕
<图像记录层的形成>
在平版印刷版原版1的制作中所使用的具有背涂层及底涂层的支撑体的底涂层上,将下述组成的图像记录层涂布液(2)棒涂之后,在70℃下烘干60秒钟,从而形成了干燥涂布量0.6g/m2的图像记录层。如此,制作了平版印刷版原版112。
(图像记录层涂布液(2))
以上述组成中的产品名记载的化合物如下述。
·IRGACURE 250:(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘鎓=六氟磷酸盐(75质量%的碳酸丙烯酯溶液)
·SR-399:二季戊四醇五丙烯酸酯
·Byk 336:改性二甲聚硅氧烷共聚物(25质量%二甲苯/甲氧基乙酸丙酯溶液)
·Klucel M:羟丙基纤维素(2质量%的水溶液)
·ELVACITE 4026:高分支聚甲基丙烯酸甲酯(10质量%的2-丁酮溶液)
[化学式12]
[化学式13]
(热塑性聚合物微粒水分散液的制备)
对1000ml的4口烧瓶设置搅拌机、温度计、滴液漏斗、氮导入管、回流冷却器,导入氮气来进行脱氧,并且添加聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(PEGMA,乙二醇的平均重复单元数:20)10g、蒸馏水200g及正丙醇200g来加热至内温成为70℃为止。接着将预混合的苯乙烯(St)10g、丙烯腈(AN)80g及2,2’-偶氮二异丁腈0.8g的混合物经1小时进行滴加。滴加结束后原封不动地继续反应5小时,之后添加0.4g的2,2’-偶氮二异丁腈,将内温升温至80℃。接着,将0.5g的2,2’-偶氮二异丁腈经6小时来添加。在合计反应了20小时的阶段,聚合物化进行了98%以上,从而得到了以质量比计为PEGMA/St/AN=10/10/80的热塑性聚合物微粒水分散液。该热塑性聚合物微粒的粒径分布在体积平均粒径150nm具有极大值。
在此,如下求出粒径分布:拍摄聚合物微粒的电子显微镜照片,在照片上测定总计5000个微粒的粒径,将所得到的粒径测定值的最大值至0之间以对数刻度分割为50份来标绘各粒径的出现频率。另外,关于非球状粒子,将具有与照片上的粒子面积相同的粒子面积的球状粒子的粒径值作为粒径。
〔平版印刷版原版113的制作〕
<支撑体2的制作>
在40g/l的氢氧化钠水溶液中,将厚度0.19mm的铝板以60℃浸渍8秒钟来脱脂,并以脱盐水清洗2秒钟。接着,利用15秒钟交流在含有12g/l的盐酸及38g/l的硫酸铝(18水和物)的水溶液中,将铝板以33℃的温度及130A/dm2的电流密度进行了电化学粗糙化处理。以脱盐水清洗2秒钟之后,将铝板通过155g/l的硫酸水溶液以70℃蚀刻4秒钟,由此进行除污处理,并以脱盐水在25℃下清洗了2秒钟。在155g/l的硫酸水溶液中,将铝板以45℃的温度及22A/dm2的电流密度进行13秒钟的阳极氧化处理,以脱盐水清洗了2秒钟。而且,使用4g/l的聚乙烯基膦酸水溶液在40℃下处理10秒钟,以脱盐水在20℃下清洗2秒钟,并干燥来制作了支撑体。支撑体2中,表面粗糙度Ra为0.21μm,且阳极氧化皮膜量为4g/m2。
<背涂层的形成>
在支撑体2的一表面,将上述背涂层涂布液(1)进行棒涂,在100℃下干燥120秒钟而形成了厚度1.5μm的背涂层。
<图像记录层的形成>
制备含有下述热塑性聚合物微粒、红外线吸收剂及聚丙烯酸的图像记录层水类涂布液,将pH调整至3.6之后涂布于支撑体2的另一表面上,在50℃下干燥1分钟来形成图像记录层,从而制作了平版印刷版原版113。以下示出各成分的干燥后的涂布量。
热塑性聚合物微粒:0.7g/m2
红外线吸收剂IR-01:1.20×10-4g/m2
聚丙烯酸:0.09g/m2
图像记录层涂布液中所使用的热塑性聚合物微粒、红外线吸收剂IR-01、聚丙烯酸如以下所示。
热塑性聚合物微粒:苯乙烯/丙烯腈共聚物(摩尔比50/50),Tg:99℃,体积平均粒径:60nm
红外线吸收剂IR-01:下述结构的红外线吸收剂
[化学式14]
聚丙烯酸Mw:250,000
〔平版印刷版原版114的制作〕
<背涂层的形成>
在进行双轴拉伸(拉伸比为纵、横各3.3倍)并在240℃下进行了3分钟的热固定的厚度180μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜的一表面实施了电晕放电处理之后,棒涂上述背涂层涂布液(1),在100℃下干燥120秒钟而形成了厚度1.5μm的背涂层。
<图像记录层的形成>
在上述聚对苯二甲酸乙二酯膜的另一表面实施了8W/m2的电晕放电处理之后,使用上述图像记录层涂布液(1)并以与平版印刷版原版1的制作相同的方式形成了图像记录层。
<保护层的形成>
在上述图像记录层上,使用上述保护层涂布液(1)并以与平版印刷版原版1的制作相同的方式形成保护层而制作了平版印刷版原版114。
〔平版印刷版原版115的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版101的制作中,将背涂层的厚度变更为10μm,除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版115。
〔平版印刷版原版116的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版109的制作中,将背涂层涂布液中的金属氧化物变更为聚酯树脂(KEMIT K-588 TORAY INDUSTRIES,INC.制、Tg:100℃),除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版116。
〔平版印刷版原版117的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版109的制作中,将背涂层涂布液中的金属氧化物变更为丙烯酸酯类聚合物胶乳(AE-337 JSR CORPORATION制、Tg:-30℃),除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版117。
〔平版印刷版原版118的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版114的制作中,将背涂层涂布液中的金属氧化物变更为丙烯酸酯类聚合物胶乳(AE-337 JSR CORPORATION制、Tg:-30℃),除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版118。
〔平版印刷版原版119的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版101的制作中,去除了背涂层涂布液中的微粒,除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版119。
〔平版印刷版原版120的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版118的制作中,去除了背涂层涂布液中的微粒,除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版120。
〔平版印刷版原版121的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版117的制作中,去除了背涂层涂布液中的微粒,除此以外,以相同的方式形成背涂层而制作了平版印刷版原版121。
〔平版印刷版原版的评价〕
关于所得到的各平版印刷版原版,如下述对滑落性、粘结性、擦伤、压痕及贝克平滑度(Bekk smoothness)进行了评价。将评价结果示于下述表F。
<滑落性>
将平版印刷版原版的背面(背涂层侧)朝上静置,在其上载置纵2cm×横2cm的乙烯丙烯二烯橡胶(EDPM)片,施加1kg的荷载的同时向近前侧拉伸橡胶片。然后,用扫描型电子显微镜(SEM)观察平版印刷版原版的背面,并观察5处的规定视角(200μm×300μm)而测定了脱落的微粒的比例。评价依照下述基准进行,3为实用下限水平,2以下为在实用上不容许的水平。
5:脱落的微粒的比例为0%。
4:脱落的微粒的比例为0%,但存在一部分未被背涂层覆盖的微粒。
3:脱落的微粒的比例大于0%且25%以下。
2:脱落的微粒的比例大于25%且75%以下。
1:脱落的微粒的比例大于75%且100%以下。
<粘结性>
在25℃75%RH的环境下对3张平版印刷版原版(10×10em)进行2小时的调湿之后,在相同方向上无衬纸的夹入的状态下依次层叠而作为层叠体。用具有铝层压层的牛皮纸将该层叠体密封包装,在施加4kg的荷载的状态下,在30℃环境下放置了5天。然后,剥离平版印刷版原版,并用肉眼观察了与平版印刷版原版的支撑体侧表面的粘结状态,该平版印刷版原版的支撑体侧与平版印刷版原版的图像记录层侧表面相邻。评价依照下述基准而进行,3为实用下限水平,2以下为在实用上不容许的水平。
5:无粘结。
4:有轻微的粘结。
3:有少许粘结。
2:若施力则用手勉强剥离的强力粘结。
1:粘结而很难用手剥离的非常强的粘结。
<擦伤>
在25℃60%RH的环境下对平版印刷版原版进行2小时的调湿之后,以2.5cm×2.5cm进行冲压,并安装于Shinto Scientific Co.,Ltd.制连续负载型划痕强度试验机TYPE(类型):18,以未冲压的平版印刷版原版的表面与已冲压的平版印刷版原版的背面接触的方式进行安装,以500gf的负载对平版印刷版原版的多处施加擦伤。将施加擦伤的平版印刷版原版安装于Creo公司制Trendsetter3244,以分辨率2400dpi,输出7W、外鼓转速150rpm、版面能量110mJ/cm2进行了图像曝光。将图像曝光后的平版印刷版原版安装于TOKYO KIKAI SEIS AKUSHO,LTD.制胶印滚筒印刷机,作为报刊用印刷油墨使用INKTECCO.,LTD.制SOYBI KKST-S(红),并作为润版液而使用SAKATA INX CORPORATION.制ECOSEVEN N-1,对报刊用纸以100,000张/小时的速度进行了印刷。在印刷过程中,将第1,000张印刷物作为样品而取样,用肉眼观察因擦伤而导致的划痕污染的程度。评价依照下述基准进行,3为实用下限水平,2以下为在实用上不容许的水平。
5:无划痕污染。
4:视觉辨认中无法确认,但存在1处能够用6倍率的放大镜确认到的划痕污染。
3:视觉辨认中无法确认,但存在多处能够用6倍率的放大镜确认到的划痕污染。
2:在多处存在能够通过视觉辨认而确认到的划痕污染。
1:在整个面存在划痕污染。
<压痕>
在25℃60%RH的环境下,对10张平版印刷版原版(10cm×65cm)进行2小时的调湿之后,在相同方向上无衬纸的夹入的状态下依次层叠而作为层叠体。用具有铝层压层的牛皮纸将该层叠体密封包装,且用5cm×5cm的不锈钢(SUS)板上下夹持,以成为500kgf的负载的方式用虎头钳进行了加压。以已加压的状态,在25℃环境下放置了5天。然后,以与擦伤评价相同的条件对平版印刷版原版进行了曝光、显影、印刷。在印刷过程中,将第1,000张印刷物作为样品而取样,用肉眼观察了因压痕而导致的划痕污染的程度。评价依照下述基准进行,3为实用下限水平,2以下为在实用上不容许的水平。
5:无污染。
4:视觉辨认中无法确认,但局部存在能够用6倍率的放大镜确认到的划痕污染。
3:视觉辨认中无法确认,但在整个面存在能够用6倍率的放大镜确认到的划痕污染。
2:局部存在能够视觉辨认到的污染。
1:在整个面存在能够视觉辨认到的污染。
<贝克平滑度>
依照JIS P8119(1998)测定了平版印刷版原版背面(背涂层表面)的贝克平滑度。关于测定,使用KUMAGAI RIKI KOGYO Co.,Ltd.制贝克平滑度试验机,以标准空气量的1/10即1ml的空气量进行了测定。从防止平版印刷版原版的集成位移的观点考虑,贝克平滑度优选为200秒钟以下,更优选为100秒钟以下,进一步优选为50秒钟以下。
表F中所记载的背涂层中所使用的各成分如以下。
聚酯树脂1:KEMIT K-588 TORAY INDUSTRIES,INC.制、(Tg:100℃)
聚合物胶乳1:丙烯酸酯类聚合物胶乳(AE-337 JSR CORPORATION制、(Tg:-30℃)
覆盖有二氧化硅的丙烯酸树脂粒子:ART PEARL J-7P Negami ChemicalIndustrial Co.,Ltd制
覆盖有二氧化硅的三聚氰胺树脂粒子:OPTBEADS 6500M Nissan ChemicalIndustries,Ltd.制
覆盖有二氧化硅的聚氨基甲酸酯树脂粒子:ART PEARL C-800T Negami ChemicalIndustrial Co.,Ltd制
丙烯酸树脂粒子:MX-500 Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.制
聚乙烯树脂粒子:CHEMIPEARL W200 Mitsui Chemicals,Inc.制
聚苯乙烯树脂粒子:CHEMISNOW SX-500H Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.制
从表F所示的结果可知,本发明所涉及的具有包含特定金属氧化物和特定微粒的背涂层的平版印刷版原版在滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任一个评价中均优异,并且,即使无衬纸而层叠,也不会发生集成位移。另外,具有不满足本发明所涉及的要件的背涂层的比较例的平版印刷版原版在滑落性、粘结性、擦伤、压痕及集成位移中的任一个评价中均不充分。
[实施例201~207及比较例201]
〔平版印刷版原版201~207的制作〕
在平版印刷版原版101的制作中,如下述表G中所示那样对背涂层涂布液中的金属氧化物的种类、微粒的种类、平均粒径及添加量、以及背涂层的厚度进行变更,除此以外,以相同的方式制作了平版印刷版原版201~207。
〔平版印刷版原版208的制作〕(比较用)
在平版印刷版原版203的制作中,将背涂层的厚度变更为3.5μm,除此以外,以相同的方式制作了平版印刷版原版208。
〔平版印刷版原版的评价〕
关于所得到的各平版印刷版原版,以与实施例101相同的方式对滑落性、粘结性、擦伤及压痕及贝克平滑度进行了评价。将评价结果示于下述表G。
表G中所记载的背涂层中所使用的各成分如以下。
二氧化硅粒子1:SYLYSIA 440Fuji Silysia Chemical Ltd.
二氧化硅粒子2:SYLYSIA 436Fuji Silysia Chemical Ltd.
二氧化硅粒子3:SYLYSIA 320Fuji Silysia Chemical Ltd.
从表G所示的结果可知,本发明所涉及的具有包含特定金属氧化物和特定微粒的背涂层的平版印刷版原版在滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任一个评价中均优异,并且,即使无衬纸而层叠,也不会发生集成位移。另外,具有不满足本发明所涉及的要件的背涂层的比较例的平版印刷版原版在滑落性、粘结性、擦伤、压痕及集成位移中的任一个评价中均不充分。
[实施例301~302]
〔平版印刷版原版301的制作〕
<底涂层的形成>
通过线棒涂布机将下述组成的底涂层涂布液(2)涂布于平版印刷版原版101的制作中所使用的具有背涂层的支撑体的另一表面(不具有背涂层的表面),在90℃下干燥了30秒钟。涂布量为10mg/m2。
(底涂层涂布液(2))
·高分子化合物A(下述结构)(质均分子量:3万) 0.05g
·甲醇 27g
·离子交换水 3g
[化学式15]
<图像记录层的形成>
使用线棒涂布机将下述组成的图像记录层涂布液(3)涂布在底涂层上。关于干燥,通过暖风式干燥装置在115℃下进行了34秒钟。干燥后的覆盖量为1.4g/m2。
(图像记录层涂布液(3))
[化学式16]
[化学式17]
<保护层的形成>
在图像记录层上,用线棒涂布机涂布下述组成的保护层涂布液(2),通过暖风式干燥装置在125℃下干燥75秒钟而形成了保护层。干燥后的涂布量为1.6g/m2。如此,制作了平版印刷版原版301。
<保护层涂布液(2)>
〔平版印刷版原版302的制作〕
<底涂层的形成>
用棒涂布机将下述组成的底涂层涂布液(3)涂布于平版印刷版原版101的制作中所使用的具有背涂层的支撑体的另一表面(不具有背涂层的表面),在80℃下干燥15秒钟而形成了干燥后的涂布量为18mg/m2的底涂层。
(底涂层涂布液(3))
·高分子化合物(下述结构) 0.3g
·甲醇 100g
[化学式18]
<图像记录层的形成>
在底涂层上,以干燥后的涂布量成为0.85g/m2的方式用棒涂布机涂布下述组成的下层涂布液,在160℃下干燥44秒钟,立即在17~20℃的冷风下冷却至支撑体的温度成为35℃而形成了下层。然后,以干燥后的涂布量成为0.22g/m2的方式用棒涂布机涂布下述组成的上层涂布液,在148℃下干燥25秒钟,进而在20~26℃的风下逐渐冷却而形成了上层。如此,制作了平版印刷版原版302。
(下层涂布液)
[化学式19]
[化学式20]
(上层涂布液)
[化学式21]
〔平版印刷版原版的评价〕
关于所得到的各平版印刷版原版,以与实施例101相同的方式对滑落性、粘结性、擦伤、压痕及贝克平滑度进行了评价。其中,如下述那样进行了擦伤及压痕的评价中的图像曝光及显影处理、以及印刷。将结果示于下述表H。
<显影处理型负型平版印刷版原版301的图像曝光及显影处理>
(图像曝光)
将平版印刷版原版安装在Creo公司制Trendsetter3244,以分辨率2400dpi、输出7W、外鼓转速150rpm、版面能量110mJ/cm2进行了图像曝光。
(显影处理)
使用Fujifilm Corporation制自动显影机LP-1310HII,以传送速度(线速度)2m/分钟、显影温度30℃对经图像曝光的平版印刷版原版进行了显影处理。显影液使用了Fujifilm Corporation制DH-N的1∶4水稀释液,显影补充液使用了Fujifilm Corporation制FCT-421的1∶1.4水稀释液,润饰液使用了Fujifilm Corporation制HN-GV的1∶1水稀释液。
<显影处理型正型平版印刷版原版302的图像曝光及显影处理>
(图像曝光)
将平版印刷版原版安装于Creo公司制Trendsetter3244,以分辨率2400dpi、输出7W、外鼓转速150rpm、版面能量110mJ/cm2进行了图像曝光。
(显影处理)
将Fujifilm Corporation制显影液DT-2用水稀释成1∶8而添加到FujifilmCorporation制自动显影机LP-940HII,以显影温度32℃、显影时间12秒钟对经图像曝光的平版印刷版原版进行了显影处理。
(印刷)
将平版印刷版安装于TOKYO KIKAI SEISAKUSHO,LTD.制胶印滚筒印刷机,作为报刊用印刷油墨使用INKTEC CO.,LTD.制SOYBI KKST-S(红),并作为润版液而使用SAKATAINX CORPORATION.制ECOSEVEN N-1,对报刊用纸以100,000张/小时的速度进行了印刷。
从表H所示的结果可知,本发明所涉及的具有包含特定金属氧化物和特定微粒的背涂层的显影处理型负型平版印刷版原版301及显影处理型正型平版印刷版原版302在滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任一个评价中均优异,并且,即使无衬纸而层叠,也不会发生集成位移。
[实施例401~402]
〔印刷用废弃版原版401的制作〕
在平版印刷版原版101的制作中,从图像记录层涂布液(1)去除了红外线吸收剂(1),除此以外,以相同的方式制作了印刷用废弃版原版401。
〔印刷用废弃版原版402的制作〕
<底涂层的形成>
将下述组成的底涂层涂布液(4)棒涂于平版印刷版原版101的制作中所使用的具有背涂层的支撑体的另一表面(不具有背涂层的表面),在100℃下干燥20秒钟而形成了干燥后的涂布量为20mg/m2的底涂层。
<底涂层用涂布液(4)>
·聚合物(下述结构) 0.3质量份
·纯水 60.0质量份
·甲醇 939.7质量份
[化学式22]
<非感光性层的形成>
在底涂层上,棒涂下述组成的非感光性层涂布液(1),在100℃下干燥60秒钟而形成了干燥后的涂布量为1.0mg/m2的非感光性层。
(非感光性层涂布液(1))
上述粘合剂聚合物A为下述(1)~(4)的4种单体的缩合反应物(质均分子量:85,000,酸含量:1.64meq/g)的MFG/MEK=1/1的16质量%溶液。
<亲水层的形成>
在非感光性层上,棒涂下述组成的亲水层涂布液(1),在125℃下干燥75秒钟而形成了干燥后的涂布量为1.6mg/m2的亲水层。如此,制作了印刷用废弃版原版402。
(亲水层涂布液(1))
上述Pluronic P-84为环氧乙烷/环氧丙烷嵌段共聚物,EMALEX710为聚氧乙烯月桂醚。
〔印刷用废弃版原版的评价〕
关于所得到的各印刷用废弃版原版,以与实施例101相同的方式对滑落性、粘结性、擦伤、压痕及贝克平滑度进行了评价。但是,关于印刷用废弃版原版401,未进行擦伤及压痕的评价中的图像曝光便进行了印刷。并且,关于印刷用废弃版原版402,未进行擦伤及压痕的评价中的图像曝光便进行了下述显影处理及印刷。将评价结果示于下述表I。
(显影处理)
使用Fujifilm Corporation制自动显影机LP-1310NewsII,以传送速度(线速度)2m/分钟、显影温度30℃对印刷用废弃版原版进行了显影处理。显影液使用了FujifilmCorporation制HN-D的1∶4水稀释液,显影补充液使用了FCT-421的1∶1.4水稀释液,润饰液使用了Fujifilm Corporation制HN-GV的1∶1水稀释液。
(印刷)
将印刷用废弃版安装于TOKYO KIKAI SEISAKUSHO,LTD.制胶印滚筒印刷机,作为报刊用印刷油墨使用INKTEC CO.,LTD.制SOYBI KKST-S(红),并作为润版液而使用SAKATAINX CORPORATION.制ECOSEVEN N-1,对报刊用纸以100,000张/小时的速度进行了印刷。
从表I所示的结果可知,本发明所涉及的具有包含特定金属氧化物和特定微粒的背涂层的机上显影型印刷用废弃版原版401及显影处理型印刷用废弃版原版402在滑落性、粘结性、擦伤及压痕中的任一个评价中均优异,并且,即使无衬纸而层叠,也不会发生集成位移。
[实施例501]
对上述平版印刷版原版101进行以下图像曝光、显影处理而制作了平版印刷版。
(图像曝光)
将平版印刷版原版安装于Creo公司制Trendsetter3244,以分辨率2400dpi、输出7W、外鼓转速150rpm、版面能量110mJ/cm2进行了图像曝光。
(显影处理)
使用图1所示的自动显影装置1对经图像曝光的平版印刷版原版进行了显影处理。即,在显影处理部10中,依次进行如下工序而制作了平版印刷版原版:显影处理工序,使用下述显影液(A),去除图像记录层的未曝光部;水洗工序,在水洗部16对显影后的平版印刷版进行水洗;及减感化工序,在减感化处理部18对水洗后的平版印刷版应用下述减感化处理液。
其中,参考图1对作为自动显影装置的一例的自动显影装置1简单进行说明。
图1所示的自动显影装置1具有显影处理部10,并具有沿平版印刷版原版的传送路径12的传送方向(箭头A)连续形成的显影部14、水洗部16、减感化处理部18及干燥部20。
显影部14被外侧面板111隔开,且在外侧面板111设有狭缝状***口112。
在显影部14的内部设有装满了显影液的显影槽24和向显影槽24内部引导平版印刷版原版的***辊对241。显影槽24的上部被遮蔽盖242覆盖。
在显影槽24的内部从传送方向上游侧依次并列设置有引导辊143及引导部件、刷辊141、液中传送辊144、刷辊142及显影部出口辊56。被传送到显影槽24内部的平版印刷版原版被浸渍于显影液中,且通过旋转的刷辊141、刷辊142之间而去除非图像部。
从显影槽24搬送过来的平版印刷版在水洗部16中,由水洗喷雾器66供给水洗水,对残留于版面等的显影液进行水洗去除,然后在减感化处理部18,通过胶溶液(减感化处理液)供给喷雾器72向版面供给减感化处理液。
在配置于显影处理部10与干燥部20之间的隔板201设置有狭缝状插通口202。并且,在显影处理部10与干燥部20之间的通路设有快门(未图示),且平版印刷版原版未通过通路时,通路因快门而闭合。
干燥部20中依次设有支撑辊203、管道204、传送辊对205、管道206、传送辊对208。在管道204、管道205的前端设有狭缝孔。并且,在干燥部20设有未图示的暖风供给机构(暖风供给部件)、发热机构(发热部件)等干燥机构(干燥部件)。在干燥部20设有排出口209,且通过干燥机构干燥的平版印刷版从排出口209排出。
<显影液(A)>
添加水而将总量设为100质量%。(pH:9.4)
以下示出显影处理中的条件。
显影液温度:25℃
传送速度:100cm/min.
显影部的刷子转速:100rpm
水洗部的水供给条件:水(25℃,供给量:10L/min)
减感化处理液:胶溶液(FN-6、Fujifilm Corporation制)/自来水=1/1(pH:3.5)减感化处理液温度:25℃、通过减感化处理液槽时间:10L/min)
产业上的可利用性
根据本发明,能够提供一种印刷用原版,其中当层叠包含平版印刷版原版及废弃版原版的印刷用原版时,即使无衬纸,也能够防止原版集成位移、原版彼此的粘结、擦伤这三者。并且,能够提供一种上述印刷用原版的层叠体。
而且,根据本发明,能够提供一种平版印刷版或印刷用废弃版,其使用上述印刷用原版而制成。并且,能够提供一种上述平版印刷版或印刷用废弃版的层叠体。
参考特定的实施方式并详细地对本发明进行了说明,但对于本领域技术人员而言,在不脱离本发明的宗旨和范围的情况下,能够施加各种变更或修正是显而易见的。
本申请主张基于2015年6月30日于日本申请的日本专利申请(日本专利申请2015-132081)号的优先权,并将其内容作为参考而编入本说明书中。
符号说明
1-自动显影装置,14-显影处理部,16-水洗部,18-减感化处理部。
Claims (19)
1.一种印刷用原版,其在支撑体上的一侧具有含有聚合物的层,且在另一侧具有含有使有机金属化合物或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物及微粒的层,
所述微粒的平均粒径为0.3μm以上,并且,所述微粒的平均粒径比含有所述金属氧化物及微粒的层的厚度大。
2.根据权利要求1所述的印刷用原版,其中,
所述微粒为具有亲水性表面的微粒。
3.根据权利要求2所述的印刷用原版,其中,
所述具有亲水性表面的微粒为选自具有亲水性表面的有机树脂微粒、具有亲水性表面的无机微粒中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的印刷用原版,其中,
所述具有亲水性表面的有机树脂微粒为被选自二氧化硅、氧化铝、二氧化钛及氧化锆中的至少一种无机化合物覆盖的有机树脂微粒。
5.根据权利要求3或4所述的印刷用原版,其中,
所述具有亲水性表面的有机树脂微粒为被二氧化硅覆盖的有机树脂微粒。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的印刷用原版,其中,
构成所述具有亲水性表面的有机树脂微粒的有机树脂为选自聚丙烯酸类树脂、聚氨基甲酸酯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚酯类树脂、环氧类树脂、酚醛类树脂及三聚氰胺树脂中的至少一种树脂。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂的正型图像记录层。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物的负型图像记录层。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物及微粒状高分子化合物的负型图像记录层。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层为含有红外线吸收剂及热塑性聚合物微粒的负型图像记录层。
11.根据权利要求7至10中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层能够通过印刷油墨及润版液中的至少任一个而去除。
12.根据权利要求1至6中任一项所述的印刷用原版,其中,
所述含有聚合物的层为非感光性层。
13.根据权利要求12所述的印刷用原版,其特征在于,
所述含有聚合物的层能够通过印刷油墨及润版液中的至少任一个而去除。
14.一种平版印刷版,其使用权利要求1至11中任一项所述的印刷用原版而制成。
15.一种印刷用废弃版,其使用权利要求12或13所述的印刷用原版而制成。
16.一种层叠体,其使权利要求1至11中任一项所述的印刷用原版直接接触并层叠多张而成。
17.一种层叠体,其使权利要求12或13所述的印刷用原版直接接触并层叠多张而成。
18.一种层叠体,其使权利要求14所述的平版印刷版直接接触并层叠多张而成。
19.一种层叠体,其使权利要求15所述的印刷用废弃版直接接触并层叠多张而成。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015-132081 | 2015-06-30 | ||
JP2015132081 | 2015-06-30 | ||
PCT/JP2016/068061 WO2017002641A1 (ja) | 2015-06-30 | 2016-06-17 | 印刷用原版、平版印刷版、印刷用捨て版、及び、その積層体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107709029A true CN107709029A (zh) | 2018-02-16 |
Family
ID=57608734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201680038902.1A Pending CN107709029A (zh) | 2015-06-30 | 2016-06-17 | 印刷用原版、平版印刷版、印刷用废弃版及其层叠体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180117942A1 (zh) |
EP (1) | EP3318414A4 (zh) |
JP (1) | JPWO2017002641A1 (zh) |
CN (1) | CN107709029A (zh) |
BR (1) | BR112018000045A2 (zh) |
WO (1) | WO2017002641A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112955325A (zh) * | 2018-10-25 | 2021-06-11 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版层叠体及平版印刷版的制作方法 |
TWI790357B (zh) * | 2018-03-29 | 2023-01-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 平版印刷版製作用顯影處理裝置及平版印刷版的製作方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6339118B2 (ja) * | 2015-04-08 | 2018-06-06 | アイシン精機株式会社 | 車両用機械部品およびピストン |
WO2018181406A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版原版積層体、並びに、平版印刷方法 |
WO2019045084A1 (ja) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 印刷用原版、及び印刷用原版積層体 |
EP3511174B1 (en) * | 2017-09-29 | 2021-05-26 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and planographic printing method |
WO2020026956A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法 |
EP3831614B1 (en) | 2018-07-31 | 2023-09-06 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate original plate, planographic printing plate original plate laminate body, platemaking method for planographic printing plate, and planographic printing method |
EP3858629A4 (en) | 2018-09-28 | 2021-09-29 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL PLATE FOR PRINTING, ORIGINAL PLATE LAMINATE FOR PRINTING, METHOD OF MANUFACTURING A PRINTING PLATE AND PRINTING METHOD |
WO2020067373A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 印刷用原版、印刷用原版積層体、印刷版の製版方法、及び印刷方法 |
CN109703051A (zh) * | 2018-12-08 | 2019-05-03 | 沈阳自动化研究所(昆山)智能装备研究院 | 一种实现密胺制品自动化生产设备 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1219668A2 (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing fine polymer particles and lithographic printing plate precursor containing the same |
US6420083B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-07-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor and process for manufacturing planographic printing plate |
CN1494488A (zh) * | 2001-03-26 | 2004-05-05 | ��ʿ��Ƭ��ʽ���� | 平版形成用热敏型版材及其制造方法、涂布液、平版 |
US20060046186A1 (en) * | 2004-08-30 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursors, stacks of planographic printing plate precursors, and methods of making planographic printing plates |
US20070231740A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor and stack thereof |
CN101086621A (zh) * | 2006-06-09 | 2007-12-12 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版以及平版印刷版原版层叠体 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006281422A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版材料の製造方法およびその平版印刷版材料を用いた印刷方法 |
JP2006327136A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷方法 |
JP4213756B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2009-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版原版の積層体 |
JP5690696B2 (ja) * | 2011-09-28 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
-
2016
- 2016-06-17 JP JP2017526284A patent/JPWO2017002641A1/ja active Pending
- 2016-06-17 BR BR112018000045A patent/BR112018000045A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2016-06-17 EP EP16817749.1A patent/EP3318414A4/en not_active Withdrawn
- 2016-06-17 CN CN201680038902.1A patent/CN107709029A/zh active Pending
- 2016-06-17 WO PCT/JP2016/068061 patent/WO2017002641A1/ja active Application Filing
-
2017
- 2017-12-28 US US15/856,612 patent/US20180117942A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420083B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-07-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor and process for manufacturing planographic printing plate |
EP1219668A2 (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing fine polymer particles and lithographic printing plate precursor containing the same |
CN1494488A (zh) * | 2001-03-26 | 2004-05-05 | ��ʿ��Ƭ��ʽ���� | 平版形成用热敏型版材及其制造方法、涂布液、平版 |
US20060046186A1 (en) * | 2004-08-30 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursors, stacks of planographic printing plate precursors, and methods of making planographic printing plates |
US20070231740A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor and stack thereof |
CN101086621A (zh) * | 2006-06-09 | 2007-12-12 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版以及平版印刷版原版层叠体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI790357B (zh) * | 2018-03-29 | 2023-01-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 平版印刷版製作用顯影處理裝置及平版印刷版的製作方法 |
CN112955325A (zh) * | 2018-10-25 | 2021-06-11 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版层叠体及平版印刷版的制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3318414A1 (en) | 2018-05-09 |
BR112018000045A2 (pt) | 2018-09-04 |
JPWO2017002641A1 (ja) | 2017-12-07 |
WO2017002641A1 (ja) | 2017-01-05 |
US20180117942A1 (en) | 2018-05-03 |
EP3318414A4 (en) | 2018-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107709029A (zh) | 印刷用原版、平版印刷版、印刷用废弃版及其层叠体 | |
CN102241181B (zh) | 平版印刷版用支撑体和平版印刷版原版 | |
CN109843596A (zh) | 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版原版层叠体以及平版印刷方法 | |
CN109863033B (zh) | 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版原版层叠体、平版印刷版的制版方法以及平版印刷方法 | |
CN107206828B (zh) | 平版印刷版原版、其制造方法及利用其的印刷方法 | |
CN106715139B (zh) | 平版印刷版原版、平板印刷版原版的制造方法及利用平版印刷版原版的印刷方法 | |
CN107206827A (zh) | 平版印刷版原版、其制造方法及利用其的印刷方法 | |
CN102993890B (zh) | 涂布组合物以及包含所述涂布组合物的图像形成材料、平版印刷版原版和隔氧膜 | |
CN101305322A (zh) | 制作平版印刷印版的方法 | |
CN106687300A (zh) | 平版印刷版原版、平板印刷版原版的制造方法及利用平版印刷版的印刷方法 | |
CN104730865A (zh) | 一种阴图免处理平印版 | |
EP3778252A1 (en) | Planographic printing original plate, and method for manufacturing planographic printing original plate | |
CN112654507B (zh) | 平版印刷版原版及废弃版原版 | |
JP6937376B2 (ja) | 印刷用原版、及び印刷用原版積層体 | |
CN102653157B (zh) | 平版印刷版原版及其制版方法 | |
CN110997343A (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法 | |
CN112533764B (zh) | 平版印刷版原版及其层叠体、平版印刷版的制版方法及平版印刷方法 | |
JPWO2020067374A1 (ja) | 印刷用原版、及び印刷版の製版方法 | |
CN116723941A (zh) | 负型平版印刷版原版的层叠体及负型平版印刷版的制作方法 | |
CN112789178B (zh) | 印刷用原版、其层叠体、印刷版的制版方法及印刷方法 | |
CN102627018A (zh) | 平版印刷版原版及其制版方法 | |
JP2010276824A (ja) | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版原版の積層体 | |
JP5538197B2 (ja) | 平版印刷版用捨て版原版、平版印刷版用捨て版原版集積体、及び、平版印刷版用捨て版の製版方法 | |
JP5680390B2 (ja) | 平版印刷版用捨て版原版、平版印刷版用捨て版原版集積体、及び、平版印刷版用捨て版の製版方法 | |
WO2021153517A1 (ja) | 機上現像型印刷用原版、印刷版の作製方法、及び印刷方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20180216 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |