CN107680988B - 一种显示面板及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及电子设备，显示面板包括：阵列基板，包括衬底基板；多个有机发光结构，包括第一有机发光结构、第二有机发光结构和第三有机发光结构；指纹识别单元；第一滤色膜；在指纹识别阶段，第一有机发光结构和/或第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源；第一有机发光结构和/或第二有机发光结构的出射光具有第一光谱范围，第一滤色膜的透射光谱范围为第二光谱范围，可见光和近红外光对应的光谱范围为第三光谱范围，第一光谱范围位于第二光谱范围内，第二光谱范围位于第三光谱范围内，位于第三光谱范围内且位于第二光谱范围外的至少部分波段的光被第一滤色膜吸收或反射。本发明降低了环境光的影响，提高了指纹探测结果的准确性。

Description

一种显示面板及电子设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及电子设备。
背景技术
由于指纹对于每一个人而言是与生俱来的，是独一无二的。随着科技的发展，市场上出现了多种带有指纹识别功能的显示装置，如手机、平板电脑以及智能可穿戴设备等。这样，用户在操作带有指纹识别功能的显示装置前，只需要用手指触摸显示装置的特定区域，通过指纹识别单元的识别就可以进行权限验证，简化了权限验证过程。指纹识别按照工作原理分可以包括光感指纹识别和超声波指纹识别等。
指纹由位于指端皮肤表面的一系列脊和谷组成，对于光感指纹识别，由于指纹识别单元接收到的脊和谷反射的光线强度不同，使得由在脊的位置处形成的反射光和在谷的位置处形成的反射光转换成的电流/电压信号大小不同，然后根据电流/电压信号大小可以进行指纹识别。指纹识别单元通常包括光敏二极管和存储电容，光敏二极管和存储电容共同将经由触摸主体的反射光转换为电流/电压信号，但是由于环境光(太阳光或灯光等)的存在，降低了指纹识别的探测结果准确性。
发明内容
本发明提供一种显示面板及电子设备，以实现降低环境光的不良影响，提高指纹识别的探测结果准确性。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
阵列基板，包括衬底基板；
多个有机发光结构，位于所述阵列基板一侧，所述有机发光结构包括第一有机发光结构、第二有机发光结构和第三有机发光结构；
指纹识别单元，用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别；所述指纹识别单元具有一感光面，所述指纹识别单元的所述感光面的朝向与所述显示面板的显示面的朝向相同；
第一滤色膜，位于所述指纹识别单元的感光面一侧；经由触摸主体反射的光线经所述第一滤色膜后到达所述指纹识别单元；
在指纹识别阶段，所述第一有机发光结构和/或所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源；所述第一有机发光结构和/或所述第二有机发光结构的出射光具有第一光谱范围，所述第一滤色膜的透射光谱范围为第二光谱范围，可见光和近红外光对应的光谱范围为第三光谱范围，所述第一光谱范围位于所述第二光谱范围内，所述第二光谱范围位于所述第三光谱范围内，位于所述第三光谱范围内且位于所述第二光谱范围外的至少部分波段的光被所述第一滤色膜吸收或反射。
第二方面，本发明实施例提供了一种电子设备，包括第一方面所述的显示面板。
本发明提供的显示面板包括多个有机发光结构、指纹识别单元和第一滤色膜，有机发光结构包括第一有机发光结构、第二有机发光结构和第三有机发光结构，指纹识别单元可以根据经由触摸主体(手指指纹)的反射光的光强大小(即指纹信号光)实现指纹识别，在指纹识别阶段，第一有机发光结构和/或第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源，简化了指纹识别单元的光源的设置，指纹识别单元的光源的出射光具有第一光谱范围，第一滤色膜的透射光谱范围为第二光谱范围，第一光谱范围位于第二光谱范围内，因此指纹识别单元的光源发出的出射光可以大部分能够通过第一滤色膜，另外，环境光(太阳光或灯光等)中对指纹识别造成不良影响的波段主要分布在可见光和近红外光波段，可见光和近红外光具有第三光谱范围，本发明通过设置第一滤色膜吸收或反射第三光谱范围中位于第二光谱范围外的至少部分波段的光，减少了环境光到指纹识别单元的光强度，降低了环境光的不良影响，提高了指纹识别的探测结果准确性。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种指纹识别单元的电路结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图3为沿图2中AA’方向的剖面结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种光学成像层的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
图9为沿图8中BB’方向的剖面结构示意图；
图10为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
图11为沿图10中CC’方向的剖面结构示意图；
图12为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图13为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图15为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图16为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图17为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
图18为本发明实施例提供的一种电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的一种指纹识别单元的电路结构示意图，参考图1，指纹识别单元电路包括光敏二极管D、存储电容C和薄膜晶体管T。光敏二极管D的正极与存储电容C的第一极板电连接，光敏二极管D的负极与存储电容C的第二极板以及薄膜晶体管T的源极电连接；薄膜晶体管T的栅极与开关控制线Gate电连接，薄膜晶体管T的漏极与信号线Data电连接。光敏二极管D用于将触摸主体反射的光转换成电流信号，为清楚起见，现结合图1对指纹识别原理进行详细说明。在指纹识别阶段，节点H1输入低电压信号(例如大小为-5V的恒定电压信号)，信号线Data输入高电压信号(例如大小为1.5V的恒定电压信号)。整个指纹识别阶段包括准备阶段、指纹信号采集阶段和指纹信号检测阶段。在准备阶段，指纹识别单元电连接的驱动芯片(未示出)通过开关控制线Gate控制指纹识别单元的薄膜晶体管T导通，存储电容C充电，直至存储电容C充电完成。在指纹信号采集阶段，利用开关控制线Gate控制指纹识别单元的薄膜晶体管T关闭。当用户将手指按压在显示面板上，发光单元(以发光单元作为指纹识别的光源为例)发出的光照射到手指上，并在手指指纹的表面反射形成反射光。经手指指纹反射形成的反射光入射到指纹识别单元中，被指纹识别单元的光敏二极管D接收，并形成光电流，该光电流的方向为由节点H2指向节点H1，进而使得H2的电位发生变化。在指纹信号检测阶段，可以直接检测节点H2的电位变化量，进而确定光电流的大小。手指指纹反射的反射光照射到光敏二极管D上形成光电流，在指纹信号采集阶段会根据光电流的大小对存储电容C放电，光照越多则放电越多，如果环境光入射到指纹识别单元的光强比较大，将会出现耗尽存储电容C中电荷的情况，导致光电流大小不能正确反映手指指纹反射的光强度，使指纹识别单元存在指纹探测错误的风险，降低了指纹识别的探测结果准确性。
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图3为沿图2中AA’方向的剖面结构示意图，结合图2和图3所示，显示面板包括显示区110和围绕显示区110的周围区域120，显示区110包括开口区域111和非开口区域112，开口区域111为有机发光结构20所在区域。本发明实施例提供的显示面板包括阵列基板10、多个有机发光结构20、指纹识别单元30和第一滤色膜41。其中，阵列基板10包括衬底基板11。多个有机发光结构20位于阵列基板10一侧，有机发光结构20包括第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23。指纹识别单元30用于根据经由触摸主体Z1(手指指纹)反射到指纹识别单元30的光线进行指纹识别，指纹识别单元30具有一感光面31，指纹识别单元30的感光面31的朝向与显示面板的显示面的朝向相同，即感光面31位于指纹识别单元30靠近触摸主体Z1一侧的表面。第一滤色膜41位于指纹识别单元30的感光面31一侧，经由触摸主体Z1反射的光线经第一滤色膜41后到达指纹识别单元30。第一滤色膜41具有带通滤波的效果，其例如可以是采用吸光材料来制作，透过某一个或多个波段的光并吸收该一个或多个波段之外的光，又例如第一滤色膜41可以采用具有选择性反射特定波段的光的结构来形成，其可以透过某一个或多个波段的光，并反射该一个或多个波段之外的光。在指纹识别阶段，第一有机发光结构21和/或第二有机发光结构22作为指纹识别单元30的光源，第一有机发光结构21和/或第二有机发光结构22的出射光具有第一光谱范围，第一滤色膜41的透射光谱范围为第二光谱范围，可见光和近红外光对应的光谱范围为第三光谱范围，第一光谱范围位于第二光谱范围内，第二光谱范围位于第三光谱范围内，位于第三光谱范围内且位于第二光谱范围外的至少部分波段的光(图3中虚线箭头所示)被第一滤色膜41吸收或反射，这里的反射指的是，如图3中虚线箭头所示的环境光照射向显示面板时，位于第三光谱范围内且位于第二光谱范围外的至少部分波段的光被第一滤色膜反射后沿着与图3中虚线箭头相反的方向传播，从而使之无法达到指纹识别单元30。
图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，参考图3和图4所示，阵列基板10包括依次设置的衬底基板11、薄膜晶体管阵列层平坦化层50和像素限定层60。其中，衬底基板可以为显示面板中的其他膜层提供支撑作用，衬底基板11可以为刚性基板或柔性基板，刚性基板例如可以是玻璃基板，柔性基板例如可以是聚酰亚胺形成的基板。薄膜晶体管阵列层包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管与有机发光结构20对应连接，为有机发光结构20提供电信号，驱动有机发光结构20发光。平坦化层50覆盖薄膜晶体管阵列层，用于为有机发光结构20提供一平坦表面，平坦化层50一般采用有机材料制作。像素限定层60位于平坦化层50远离衬底基板11一侧，像素限定层60形成多个凹槽，有机发光结构20位于像素限定层60的凹槽中，且像素限定层60用于间隔多个有机发光结构20，具体地，有机发光结构20包括第一电极211、第二电极212和位于第一电极211与第二电极212之间的有机发光层，根据有机发光层的不同，有机发光结构20包括第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23。具体地，第一有机发光结构21包括第一有机发光层213，第二有机发光结构22包括第二有机发光层223，第三有机发光结构23包括第三有机发光层233。可选地，第一电极211为阴极，第二电极212为阳极。在外加电场的作用下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入有机发光层，从而在有机发光层中进行迁移、复合并衰减而发光。第一有机发光结构21发出第一颜色的光，第二有机发光结构22发出第二颜色的光，第三有机发光机构23发出第三颜色的光。在显示面板进行显示时，第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23根据显示信号进行发光，形成显示画面。
由于指纹识别单元需要根据触摸主体反射光的强度进行指纹识别，因此需要为指纹识别单元设置一光源，在现有技术中，一般在衬底基板远离有机发光结构一侧单独设置一光源作为指纹识别的光源，而且，为了防止用于显示画面的光源和外界环境光对指纹识别单元的影响，单独设置的指纹识别光源发出的光通常与用于显示画面的光源发出的光以及外界环境光具有不同的光波段，比如单独设置的指纹识别光源发出的光为红外光，因此增加了单独设置的指纹识别光源的复杂程度。在本发明实施例中，复用有机发光结构作为指纹识别单元的光源，而复用第一有机发光结构和/或第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源时，由于不需要额外设置指纹识别单元的光源，简化了指纹识别单元光源的设置。指纹识别单元的光源发出的光经由触摸主体(手指指纹)反射后，通过第一滤色膜到达指纹识别单元，同时环境光也会通过第一滤色膜后到达指纹识别单元，指纹识别单元的光源的出射光具有第一光谱范围，第一滤色膜的透射光谱范围为第二光谱范围，第一光谱范围位于第二光谱范围内，因此指纹识别单元的光源发出的出射光可以几乎无损地通过第一滤色膜，另外，环境光(太阳光或灯光等)中对指纹识别造成不良影响的波段主要分布在可见光和近红外光波段，可见光和近红外光具有第三光谱范围，第一滤色膜能够吸收或反射第三光谱范围中位于第二光谱范围外的至少部分波段的光，减少了环境光照射到指纹识别单元的光强度，降低了环境光的不良影响，提高了指纹识别的探测结果准确性。为了便于理解，举例如下：第一滤色膜的透射光谱范围为590nm-620nm，即第一滤色膜能够透过波长位于590nm-620nm的光，且吸收或反射波长位于590nm-620nm之外的光，假如第一有机发光结构作为指纹识别单元的光源，第一有机发光结构发出波长为600nm-610nm的光，经过触摸主体反射后到达第一滤色膜前的光强度为100，第一有机发光结构的发光波长位于第一滤色膜的透射光谱范围内，透过第一滤色膜后第一有机结构发出的光的强度为100。环境光为太阳光，由于指纹识别单元主要响应于可见光和近红外光，且太阳光中的大部分能量也集中在可见光和近红外光，波长大***于380nm-2530nm，因此可以只考虑太阳光中的可见光波段与近红外波段，假如到达第一滤色膜前的环境光的光强度为100，可见光和近红外光中只有波长位于590nm-620nm的光能够透过第一滤色膜，而波长位于380nm-590nm以及620nm-2530nm的光则被第一滤色膜吸收或反射了，透过第一滤色膜后环境光的强度为1.45。可见，在没有第一滤色膜的情况下，到达指纹识别单元的光强为200(其中包括第一有机发光结构发出的光强度100和环境光强度100)，环境光的光强比较大，将会出现耗尽存储电容中电荷的情况，导致光电流大小不能正确反映手指指纹反射的光强度；在设置了第一滤色膜的情况下，到达指纹识别单元的光强为101.45(其中包括第一有机发光结构发出的光强度100和环境光强度1.45)，环境光的光强比较小，光电流大小能够正确反映手指指纹反射的光强度，进而提高了指纹识别的探测结果准确性。可以理解的是，光强的单位为坎德拉，为了便于理解，这里给出的示例中给出的光强只用数值来代表，且该数值的大小并非真实产品中的情况。需要说明的是，对于透射光谱范围可作如下理解，可以认为第一滤色膜的透射光谱范围内入射光的透过率都超过第一透过率阈值，例如60％，这里的透过率指的是经过第一滤色膜后的出射光强与入射到第一滤色膜的入射光强的比值。第一滤色膜对于第二光谱范围外的光线的吸收或反射也并非是完全吸收或完全反射，可以认为位于第二光谱范围外的光线经过第一滤色膜的透过率低于第二透过率阈值，例如40％。
可选地，参考图3，指纹识别单元30位于衬底基板11远离多个有机发光结构20一侧，作为指纹识别单元光源的有机发光结构20发出的光可以被触摸主体(手指指纹)反射，指纹识别单元30可以根据经由触摸主体(手指指纹)的反射光的光强大小(即指纹信号光)实现指纹识别。可以理解的是，在该设计中，衬底基板由透明材料制成，且其厚度适当，既使得衬底基板具有一定的支撑作用，同时又能够使被触摸主体(手指指纹)反射的光到达指纹识别单元。由于指纹识别单元30位于衬底基板11远离有机发光结构20一侧，因此可以在现有显示面板的基础上，通过贴附具有指纹识别单元30的指纹识别器等方式来形成具有指纹探测功能的显示面板，指纹识别器和无指纹探测功能的显示面板可以单独制作，无需改变现有显示面板的制作工艺。然而本发明并不以此为限，在其他实施方式中，还可以设置指纹识别单元位于衬底基板靠近有机发光结构一侧。
图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，图6为本发明实施例提供的一种光学成像层的结构示意图，结合图5和图6所示，可选地，显示面板还包括光学成像层G，光学成像层G位于衬底基板11与指纹识别单元30之间，且光学成像层G覆盖指纹识别单元30，即指纹识别单元30在显示面板上的投影位于光学成像层G在显示面板上的投影内，光学成像层G用于将经由触摸主体Z1反射的光线成像于所述感光面31上。光学成像层G可以包括彼此间隔排列的透光区域G1和不透光区域G2，不透光区域G2设置有吸光材料，因此超过一定倾斜角度(指光线入射方向与垂直于光学成像层所在平面的方向之间的夹角)的光线(大角度光线)照射到不透光区域G2后被吸光材料吸收，从而无法达到指纹识别单元30的感光面31，因此将经由触摸主体Z1反射并照射到指纹识别单元30的光线限定在一定角度内，从而避免了经由触摸主体不同位置反射的光线照射至同一个指纹识别单元上，即避免了指纹识别过程存在的串扰现象。将光学成像层G设置于第一滤色膜41和指纹识别单元30之间时，例如可以采用如下方式：直接在光学成像层G上沉积形成第一滤色膜41，然后将形成有第一滤色膜41的光学成像层G贴附于无指纹探测功能的显示面板一侧，然后再将指纹识别器(包括多个指纹识别单元30)贴附于光学成像层G未沉积第一滤色膜41一侧。此时，第一滤色膜不是形成在阵列基板，而是形成在一个独立的光学成像层上，无需改变现有显示面板的制作工艺。
光学成像层G还可以是光纤面板，光纤面板可以包括多个沿同一方向排列的光纤结构，光纤结构包括内芯和外壳，每相邻的两个光纤结构之间设置有吸光材料，则从光纤结构透出至两光纤结构之间的光线能够被光纤结构之间的吸光材料吸收，以实现对超出一定倾斜角度的光线的滤除作用。需要说明的是，图5中所示显示面板的光学成像层位于第一滤色膜和指纹识别单元之间，本发明并不以此为限，在其他实施方式中，也可以设置第一滤色膜位于光学成像层和指纹识别单元之间。
可选地，参考图3，第一滤色膜41位于多个有机发光结构20与指纹识别单元30之间，在显示阶段，第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23可以发出光线，用于显示，且有机发光结构20可以从远离第一滤色膜41的一侧发出光线，在指纹识别阶段，指纹识别单元的光源发出的光经由触摸主体(手指指纹)反射后，通过第一滤色膜到达指纹识别单元，同时环境光也会通过第一滤色膜后到达指纹识别单元，第一滤色膜对光具有选择透过性，可以通过吸收或反射的方式过滤环境光，减小或消除环境光对指纹识别造成的影响。采用此设计，第一滤色膜41不会对有机发光结构20在发光显示时造成影响，因此第一滤色膜41的形状和位置设置比较灵活。
可选地，参考图3，第一滤色膜41位于多个有机发光结构20与指纹识别单元30之间，第一滤色膜41为整层膜，第一滤色膜41完全覆盖所有的指纹识别单元30设置，因此可以保证到达任意一个指纹识别单元30的光线中的环境光都可以先经过第一滤色膜41的过滤，因此近一步地降低了环境光对指纹探测的不良影响。同时，第一滤色膜为完整的一层膜，仅需要沉积膜层步骤即可，无需对膜层进行图案化处理，简化了膜层的制作工艺，降低了制作成本。
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，如图4和图7所示，阵列基板10包括平坦化层50和像素限定层60，像素限定层60具有多个凹槽61，有机发光结构20位于凹槽61内，第一滤色膜41复用像素限定层60，使像素限定层60在具有原有的间隔有机发光结构20的作用的同时，还可以起到第一滤色膜所具有的滤色作用。可以使用显示面板中的原有膜层(像素限定层)作为第一滤色膜，例如可以在现有的像素限定层中掺杂吸光物质来实现，也可以是采用可以起到本申请的滤色功能的材料或结构来形成像素限定层，并没有增加新的膜层，因此使得显示面板在不增加厚度的基础上，实现对环境光的吸收或反射并提高指纹探测的探测结果准确性。另一方面，由于将第一滤色膜复用像素限定层，将像素限定层的制作工艺和第一滤色膜的制作工艺进行了合并处理，进而简化了显示面板的制作工艺，节省了工艺制程。同时，由于有机发光结构20分别位于像素限定层60形成的凹槽61中，像素限定层60和有机发光结构20共同形成一个完整的面，由外界入射的环境光均会通过复用为第一滤色膜的像素限定层的过滤，因此可以保证到达任意一个指纹识别单元的光线中的环境光都可以先经过第一滤色膜的过滤，因此近一步地降低了环境光对指纹探测的不良影响。
可选地，在其他实施方式中，还可以设置平坦化层复用为第一滤色膜。参考图4和图7，平坦化层50可以复用为第一滤色膜41。由于可以使用显示面板中的原有膜层(平坦化层)作为第一滤色膜，例如可以在现有的平坦化层中掺杂吸光物质来实现，也可以是采用起到本申请的滤色功能的材料或结构来形成平坦化层，并没有增加新的膜层，因此使得显示面板在不增加厚度的基础上，实现对环境光的吸收或反射并提高指纹探测的探测结果准确性。另一方面，由于第一滤色膜复用平坦化层，将平坦化层的制作工艺和第一滤色膜的制作工艺进行了合并处理，进而简化了显示面板的制作工艺，节省了工艺制程。
图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图，图9为沿图8中BB’方向的剖面结构示意图，结合图8和图9所示，第一滤色膜41覆盖非开口区域112。第一滤色膜41位于多个有机发光结构20的发光面一侧，即第一滤色膜41位于多个有机发光结构20远离衬底基板11一侧。可选地，如图8所示，第一滤色膜41位于像素限定层60远离衬底基板11一侧，且第一滤色膜41完全覆盖非开口区域112，第一滤色膜41完全覆盖非开口区域112时能够使照射到指纹识别单元30的环境光必须经过第一滤色膜41，此时能够更好地降低环境光对指纹探测的不良影响。另外，当第一滤色膜41位于有机发光结构20的发光面一侧时，设置第一滤色膜41覆盖非开口区域112，避开开口区域111，在减小环境光对指纹识别的干扰的同时，保证了显示面板的正常的发光显示功能不受影响，而且不影响阵列基板以及有机发光结构的原有制程，便于设计和制作。在其他实施方式中也可以设置第一滤色膜41只覆盖部分非开口区域112。
图10为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图，图11为沿图10中CC’方向的剖面结构示意图，结合图10和图11所示，第一滤色膜41位于多个有机发光结构20的发光面一侧，第二有机发光结构22作为指纹识别单元30的光源，第一滤色膜41在覆盖非开口区域112的同时，还覆盖第二有机发光结构22，即第一滤色膜41还位于第二有机发光结构22所在的开口区域111，第二有机发光结构22的出射光的光谱范围位于第一滤色膜41的透射光谱范围内，需要说明的是，第二有机发光结构22的出射光谱是比较宽的，但是其光能量主要集中分布在某一个或多个光波段内，因此一般将第二有机发光结构22的出射光谱范围认为是位于以其峰值波长为中心的一定范围内的波长，例如，可以将光强度值为峰值波长处的光强度值的一半时对应的两个波长作为第二有机发光结构22的出射光谱范围的端点值，可以理解的是，第二有机发光结构22的出射光谱范围可以包括一个或多个峰值波长，其中，峰值波长为第二有机发光结构22的出射光谱中波峰位置处对应的波长值。第二有机发光结构22的出射光中的部分光的波长远离峰值波长，该部分光超出了第一滤色膜41的透射光谱范围，因此被第一滤色膜41吸收或反射从而过滤掉，由于第一滤色膜41的过滤作用，提高了发光显示时第二有机发光结构22的出射光的色纯度。为了便于理解，举例如下：第二有机发光结构22的发射光的光谱比较宽，例如为200nm-1000nm，且波长为531nm处对应的光能量为波长范围200nm-1000nm中的最大值，此时称第二有机发光结构22的发射光的峰值波长为531nm，而波长为511nm和551nm处对应的光能量为峰值波长对应光能量的一半，由于第二有机发光结构22的出射光的主要能量集中于511nm-531nm范围内，因此一般将511nm-531nm作为第二有机发光结构22的发射光谱范围，若第一滤色膜41此时的透射光谱范围为500nm-550nm，则第二有机发光结构22出射光中波长位于200nm-500nm以及550nm-1000nm的光被第一滤色膜41吸收掉，从而提高了发光显示时第二有机发光结构22的出射光的色纯度。
在其他实施方式中，还可以设置第一有机发光结构作为指纹识别单元的光源，第一滤色膜覆盖第一有机发光结构；或者，第一有机发光结构和第二有机发光结构共同作为指纹识别单元的光源，第一滤色膜覆盖第一有机发光结构和第二有机发光结构，本发明对此不做限定。
图12为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，参考图2、图4和图12所示，显示面板还包括位于有机发光结构20远离衬底基板11一侧的支撑柱70，可选地，可以设置支撑柱70位于非开口区域112，且支撑柱70位于像素限定层60远离衬底基板11一侧并与像素限定层60接触，第一滤色膜41复用支撑柱70。图12中仅示例性地示出了一个支撑柱70，可以理解的是，可以每隔一个或多个有机发光结构20设置一个支撑柱70，也可以在任意相邻的两个有机发光结构20之间设置一个支撑柱70，支撑柱70的数量和位置可以根据具体产品的需要进行设置。由于使用显示面板中的原有膜层(支撑柱)作为第一滤色膜，例如可以在现有的支撑柱中掺杂吸光物质来实现，也可以是采用可以起到本申请的滤色功能的材料或结构来形成支撑柱，并没有增加新的膜层，因此使得显示面板在不增加厚度的基础上，实现对环境光的吸收或反射并提高指纹探测的探测结果准确性。
图13为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，参考图2-图4以及图13所示，显示面板还包括薄膜封装层80，薄膜封装层80位于有机发光结构20(包括第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23)远离衬底基板11一侧，薄膜封装层80可以包括叠层设置的有机层和/或无机层，用于防止水氧对有机发光结构20的侵蚀。第一滤色膜41位于多个有机发光结构20与薄膜封装层80之间，且第一滤色膜41位于指纹识别单元30(图13中未示出)的感光面一侧，环境光在达到指纹识别单元30的感光面31之前，首先经过第一滤色膜41，因此第一滤色膜41可以吸收或反射照射到指纹识别单元30上的环境光，提高指纹识别的探测结果准确性。将第一滤色膜41设置在有机发光结构20和薄膜封装层80之间，在显示面板的厚度方向上，有机发光结构20与第一滤色膜41的距离比较近，因此不影响正常的显示面板的观看视角，可以使第一滤色膜41完全覆盖非开口区域112，以便更好地吸收或反射环境光，同时第一滤色膜位于有机发光结构远离阵列基板一侧，不影响阵列基板以及有机发光结构的原有制程，便于设计和制作。另外，在现有技术中，由于环境光(图13中指向朝下的箭头所示)照射到第一电极211上之后，环境光中的很大一部分光能量经过第一电极211的反射后沿显示面板的显示面出射，造成炫光，影响显示面板的显示效果，本发明实施例中设置第一滤色膜位于薄膜封装层和有机发光结构之间，第一滤色膜吸收或反射了照射到第一电极上的部分环境光，减小了经第一电极反射回去的环境光的光强度，改善了显示面板的显示效果。
图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，参考图13和图14所示，还可以设置第一滤色膜41位于薄膜封装层80远离阵列基板10一侧表面，由于第一滤色膜41位于有机发光结构20远离阵列基板10一侧，照射到有机发光结构20的第一电极211(图14中未示出)的环境光能够被第一滤色膜41吸收或反射，因此本发明实施例也可以提高显示面板的显示效果，同时，可以通过贴附的方式将第一滤色膜设置在薄膜封装层80远离阵列基板10一侧，简化了制作过程。但是由于第一滤色膜41与有机发光结构20的距离较远，在进行发光显示时，超过一定倾斜角度的光线(即大倾斜角度的光线)无法出射到显示面板外部，为了不影响显示面板的显示效果，可以使第一滤色膜41部分地覆盖非开口区域。示例性地，第二有机发光结构22作为指纹识别单元30的光源，第一滤色膜41透过第二有机发光结构22发出的光，并吸收或反射第一有机发光结构21和第三有机发光结构23发出的光，因此在发光显示时，如果将第一滤色膜41设置在薄膜封装层80远离阵列基板10一侧表面，有机发光结构20与第一滤色膜之间具有一定间距，第一有机发光结构21和第三有机发光结构23中超过一定倾斜角的大视角光线在出射时将被第一滤色膜41吸收或反射，可以使第一滤色膜41部分地覆盖非开口区域。
图15为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，与图14所示显示面板采用柔性封装不同的是，显示面板还可以使用刚性封装，参考图13和图15所示，显示面板还可以包括封装盖板90，封装盖板90可以为玻璃基板，封装盖板90与阵列基板10相对设置，在封装盖板90与阵列基板10之间还可以设置有封框胶(图15中未示出)，通过封框胶将封装盖板90与阵列基板10进行粘结固定。第一滤色膜41位于封装盖板90靠近阵列基板10一侧表面，由于第一滤色膜41位于有机发光结构20远离阵列基板10一侧，照射到有机发光结构20的第一电极211(图15中未示出)的环境光能够被第一滤色膜41吸收或反射，因此本发明实施例也可以提高显示面板的显示效果。显示面板的形成方式，例如可以采用在封装盖板90上制作第一滤色膜41，然后将封装盖板90具有第一滤色膜41的一侧与阵列基板10对位贴合，此时由于直接将第一滤色膜41制作于封装盖板90，在出现制作良率问题的时候，可以将制作有第一滤色膜41的封装盖板90废弃，相对于将制作有第一滤色膜41的阵列基板10出现良率问题时将其废弃来说，制作有第一滤色膜41的封装盖板90价格更为廉价，因此节约了制作成本。
图16为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图，与图2-图15中仅设置一种滤色膜不同的是，还可以设置多种滤色膜，如图16所示，第一有机发光结构21和第二有机发光结构22作为指纹识别单元的光源，显示面板还包括第二滤色膜42和第三滤色膜43，第二滤色膜42和第三滤色膜43用于过滤经触摸主体Z1反射的光，第一滤色膜41、第二滤色膜42和第三滤色膜43位于同一膜层。第一有机发光结构21和第二有机发光结构22发出光线的光谱范围位于第一滤色膜41的透射光谱范围内，第一有机发光结构21发出光线的光谱范围位于第二滤色膜42的透射光谱范围内，第二有机发光结构22发出光线的光谱范围位于第三滤色膜43的透射光谱范围内。第一滤色膜41、第二滤色膜42与第三滤色膜43均位于多个有机发光结构(包括第一有机发光结构21、第二有机发光结构22和第三有机发光结构23)与指纹识别单元30之间，第三有机发光结构23在衬底基板11上的垂直投影位于第一滤色膜41在衬底基板11上的垂直投影内，第一有机发光结构21在衬底基板11上的垂直投影位于第二滤色膜42在衬底基板11上的垂直投影内，第二有机发光结构22在衬底基板11上的垂直投影位于第三滤色膜43在衬底基板11上的垂直投影内。本发明实施例中，通过对应第一有机发光结构21设置第二滤色膜42，第二滤色膜42透过第一有机发光结构21的发出的光线，环境光中位于第二滤色膜42透射光谱范围外的光线被第二滤色膜42吸收或反射；对应第二有机发光结构22设置第三滤色膜43，第三滤色膜43透过第二有机发光结构22的发出的光线，环境光中位于第三滤色膜43透射光谱范围外的光线被第三滤色膜43吸收或反射；对应第三有机发光结构23设置第一滤色膜41，第一滤色膜41既能透过第一有机发光结构21的出射光，又能透过第二有机发光结构22的出射光，环境光中位于第一滤色膜41透射光谱范围外的光线被第一滤色膜41吸收或反射。因此通过对应于第一有机发光机构、第二有机发光结构和第三有机发光结构分别设置第二滤色膜、第三滤色膜和第一滤色膜，相对于在有机发光结构和指纹识别单元之间仅设置第一滤色膜来说，具有更好的环境光吸收或反射效果。
在上述各实施例的基础上，可选地，第一滤色膜41包括色阻或布拉格反射器。色阻表现为对特定波长光波的吸收，具体可以通过在基体材料中添加吸光物质或吸光材料来形成色阻。布拉格反射器是一种反射镜结构，包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。由于布拉格反射器具有很强的反射能力，因此可以将环境光中位于特定波段的光线反射并使波长位于第二光谱范围内的光线透过，从而在不影响指纹信号光透过的前提下实现减小环境光对指纹探测的不良影响。
可选地，在一实施方式中，在指纹识别阶段，第一有机发光结构21作为指纹识别单元30的光源，第一光谱范围为597nm～629nm，第一滤色膜41的透射光谱范围为513nm～713nm，为了加强第一滤色膜41对环境光的过滤性能，进一步地可以设置第一滤色膜41的透射光谱范围为563nm～663nm；在另一实施方式中，在指纹识别阶段，第二有机发光结构22作为指纹识别单元30的光源，第一光谱范围为511nm～551nm，第一滤色膜41的透射光谱范围为431nm～631nm，为了加强第一滤色膜41对环境光的过滤性能，进一步地可以设置第一滤色膜41的透射光谱范围为481nm～581nm；在另一实施方式中，在指纹识别阶段，第一有机发光结构21和第二有机发光结构22作为指纹识别单元30的光源，第一光谱范围为511nm～551nm以及597nm～629nm，第一滤色膜41的透射光谱范围为431nm～713nm，为了加强第一滤色膜41对环境光的过滤性能，进一步地可以设置第一滤色膜41的透射光谱范围为481nm～663nm。
可选地，第一有机发光结构21为红色有机发光结构，红色有机发光结构的出射光颜色呈红色，第二有机发光结构22为绿色有机发光结构，绿色有机发光结构的出射光颜色呈绿色，第三有机发光结构23为蓝色有机发光结构，蓝色有机发光结构的出射光颜色为蓝色。且红色有机发光结构、绿色有机发光结构和蓝色有机发光结构配合使用可以达到彩色显示的目的。红色有机发光结构的出射光的光谱范围可以为597nm～629nm，绿色有机发光结构的出射光的光谱范围可以为511nm～551nm，蓝色有机发光结构的出射光的光谱范围可以为451nm～473nm。
图17为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图，参考图3和图17所示，显示面板包括显示区域110和围绕显示区110的周围区域120，显示面板还包括位于显示区110的指纹识别器Z2，每一指纹识别器Z2中包含多个指纹识别单元30，指纹识别器Z2可以贴附于现有的无指纹识别功能的显示面板的外侧，或者设置于现有的无指纹识别功能的显示面板的内部，图17中所示指纹识别器Z2只占有显示区110的部分区域，可以理解的是，在指纹识别阶段，与指纹识别器Z2对应的区域中的第一有机发光结构和/或第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源，即在进行指纹识别时不影响显示区的其他区域的画面显示。在其他实施方式中，也可以设置一指纹识别器占有整个显示区，图17中所示指纹识别器的位置是示意性表示，指纹识别器的位置可根据具体实施情况进行确定，图17中所示指纹识别器的数量为一个，在其他实施方式中，也可以在显示区设置多个指纹识别器，本发明对此不做限制。
本发明实施例还提供了一种电子设备，图18为本发明实施例提供的一种电子设备的结构示意图，如图18所示，本发明实施例提供的电子设备100包括本发明任意实施例所述的显示面板，其可以为如图18中所示的手机，也可以为电脑、电视机、智能穿戴设备等，本实施例对此不作特殊限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板，包括衬底基板；
多个有机发光结构，位于所述阵列基板一侧，所述有机发光结构包括第一有机发光结构、第二有机发光结构和第三有机发光结构；
指纹识别单元，用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别；所述指纹识别单元具有一感光面，所述指纹识别单元的所述感光面的朝向与所述显示面板的显示面的朝向相同；
第一滤色膜，位于所述指纹识别单元的感光面一侧；经由触摸主体反射的光线经所述第一滤色膜后到达所述指纹识别单元；
在指纹识别阶段，所述第一有机发光结构和/或所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源；所述第一有机发光结构和/或所述第二有机发光结构的出射光具有第一光谱范围，所述第一滤色膜的透射光谱范围为第二光谱范围，可见光和近红外光对应的光谱范围为第三光谱范围，所述第一光谱范围位于所述第二光谱范围内，所述第二光谱范围位于所述第三光谱范围内，位于所述第三光谱范围内且位于所述第二光谱范围外的至少部分波段的光被所述第一滤色膜吸收或反射。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述指纹识别单元位于所述衬底基板远离所述多个有机发光结构一侧。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括光学成像层，所述光学成像层位于所述衬底基板与所述指纹识别单元之间，且所述光学成像层覆盖所述指纹识别单元；
所述光学成像层用于将经由触摸主体反射的光线成像于所述感光面上。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一滤色膜位于所述多个有机发光结构与所述指纹识别单元之间。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括平坦化层和像素限定层，所述像素限定层具有多个凹槽，所述有机发光结构位于所述凹槽内；所述第一滤色膜复用所述像素限定层或所述平坦化层。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一滤色膜为整层膜。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的周围区域，所述显示区包括开口区域和非开口区域，所述开口区域为所述有机发光结构所在区域；所述第一滤色膜覆盖所述非开口区域。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一滤色膜位于所述多个有机发光结构的发光面一侧。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机发光结构作为指纹识别单元的光源，所述第一滤色膜覆盖所述第一有机发光结构；和/或，
所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源，所述第一滤色膜覆盖所述第二有机发光结构。
10.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述有机发光结构远离所述衬底基板一侧的支撑柱，所述第一滤色膜复用所述支撑柱。
11.根据权利要求7或9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括薄膜封装层，所述第一滤色膜位于所述多个有机发光结构与所述薄膜封装层之间。
12.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括薄膜封装层，所述第一滤色膜位于所述薄膜封装层远离所述阵列基板一侧表面。
13.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括封装盖板，所述第一滤色膜位于所述封装盖板靠近所述阵列基板一侧表面。
14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机发光结构和所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源；
所述显示面板还包括第二滤色膜和第三滤色膜，所述第二滤色膜和所述第三滤色膜用于过滤经所述触摸主体反射的光；
所述第一滤色膜、所述第二滤色膜和所述第三滤色膜位于同一膜层；
所述第一有机发光结构和所述第二有机发光结构发出光线的光谱范围位于所述第一滤色膜的透射光谱范围内，所述第一有机发光结构发出光线的光谱范围位于所述第二滤色膜的透射光谱范围内，所述第二有机发光结构发出光线的光谱范围位于所述第三滤色膜的透射光谱范围内；
所述第一滤色膜、所述第二滤色膜与所述第三滤色膜均位于所述多个有机发光结构与所述指纹识别单元之间；所述第三有机发光结构在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第一滤色膜在所述衬底基板上的垂直投影内，所述第一有机发光结构在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第二滤色膜在所述衬底基板上的垂直投影内，所述第二有机发光结构在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第三滤色膜在所述衬底基板上的垂直投影内。
15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一滤色膜包括色阻或布拉格反射器。
16.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
在指纹识别阶段，所述第一有机发光结构作为指纹识别单元的光源，所述第一光谱范围为597nm～629nm，所述第一滤色膜的透射光谱范围为513nm～713nm；或者，
在指纹识别阶段，所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源，所述第一光谱范围为511nm～551nm，所述第一滤色膜的透射光谱范围为431nm～631nm；或者，
在指纹识别阶段，所述第一有机发光结构和所述第二有机发光结构作为指纹识别单元的光源，所述第一光谱范围为511nm～551nm以及597nm～629nm，所述第一滤色膜的透射光谱范围为431nm～713nm。
17.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机发光结构为红色有机发光结构，所述第二有机发光结构为绿色有机发光结构，所述第三有机发光结构为蓝色有机发光结构。
18.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-17任一项所述的显示面板。
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