CN107602130A - 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法 - Google Patents

基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107602130A
CN107602130A CN201710964244.5A CN201710964244A CN107602130A CN 107602130 A CN107602130 A CN 107602130A CN 201710964244 A CN201710964244 A CN 201710964244A CN 107602130 A CN107602130 A CN 107602130A
Authority
CN
China
Prior art keywords
powder
porous sic
sic ceramics
prepared based
forming techniques
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710964244.5A
Other languages
English (en)
Inventor
曾涛
孙晓梅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Harbin University of Science and Technology
Original Assignee
Harbin University of Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harbin University of Science and Technology filed Critical Harbin University of Science and Technology
Priority to CN201710964244.5A priority Critical patent/CN107602130A/zh
Publication of CN107602130A publication Critical patent/CN107602130A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,本发明涉及基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法。本发明的目的是为了解决目前选择性激光烧结技术制备多孔SiC陶瓷时,成型件孔隙率低的问题。本发明方法为:绘制多孔SiC陶瓷的三维模型、设定SLS成型机的参数、混合SiC粉末、粘结剂粉末和造孔剂、制得陶瓷坯体、进行CIP包套然后冷等静压致密化处理,进行脱脂预烧结,再在有氧环境下进行烧结,即完成。操作简便,成型速度快,原料利用率高,有效地提高多孔SiC陶瓷的孔隙率,最终成型件的孔隙率为70%~80%,且具备一定的强度。本发明应用于多孔SiC陶瓷的制备领域。

Description

基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法
技术领域
本发明涉及一种多孔SiC陶瓷的制备工艺,特别是涉及一种基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法。
背景技术
多孔陶瓷是具有贯通的开气孔或内部具有闭气孔的陶瓷材料。多孔陶瓷在具有高孔隙率的同时其也具备一定的力学性能。其具备大的比表面积,可用于高温和化学腐蚀的环境,化学稳定性、耐磨损性和机械强度较高。非氧化物陶瓷的高温稳定性和机械强度更好,其中碳化硅是一种共价键结合的化合物,稳定性极高。多孔碳化硅陶瓷材料同时具有碳化硅陶瓷和多孔陶瓷的优势,具有机械强度高,耐磨性好,化学稳定性强,孔隙率高,比表面积大的特性。
传统制备多孔陶瓷的工艺有很多,造孔工艺有添加造孔剂法、有机泡沫浸渍法、发泡法和溶胶-凝胶法等,成型工艺有挤压成型法、等静压成型法、注射成型法和凝胶注模法等,但成本过高、生产周期长等条件不利于快速陶瓷的发展,因此提升制造工艺对于多孔陶瓷的产业化有着很重要的推进作用。
选择性激光烧结技术(SLS)通过计算机辅助设计与制造,基于“单层烧结,层层叠加”的原理,将粉末材料直接成形任意复杂结构三维实体零件,它是增材制造领域中极具发展潜力的技术之一。与传统的制备工艺相比较,其具有很多突出的优点:(1)生产周期短,制造成本低,适用于新产品的测试环节以及成型复杂形状陶瓷零件;(2)可按图纸直接制造零件,无需模具、刀具等后续机械加工;(3)应用领域广泛,具有无可比拟的潜力;(4)与其它快速制造方法相比,SLS最突出的优点在于它所使用的成形材料种类十分广泛;(5)制备要求低,可与传统制备工艺相结合,发挥更好的作用。目前,SLS成形的材料主要有高分子、陶瓷、金属粉末和它们的复合粉末。
然而,目前对SLS技术的研究还处于初步阶段,利用SLS技术直接制造的陶瓷零件孔隙率很低,孔隙率在45%~60%之间,不能达到多孔陶瓷的使用要求,导致SLS技术制备多孔陶瓷并未得到很好的应用。
发明内容
本发明的目的是为了解决目前选择性激光烧结技术(SLS技术)制备多孔SiC陶瓷时,成型件孔隙率低的问题,提供了基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法。
本发明基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,是按以下步骤进行:
一、绘制多孔SiC陶瓷的三维模型,然后将其转换为STL格式文件;
二、将STL格式文件导入SLS成型机,设定扫描速度为1000mm/s~2000mm/s,每层厚度为0.05mm~0.2mm,预热温度为40~70℃,然后利用计算机分层切片软件将模型处理成设定厚度的薄片;
三、在混料机中倒入SiC粉末、粘结剂粉末和造孔剂,进行混粉,得到混合均匀的复合粉末;
四、将复合粉末加入到SLS成型机的工作缸中,利用滚轴将粉末铺平,静置30min,然后将工作缸加热到步骤二设定的预热温度,开始加工,激光烧结,送粉缸送粉铺粉,然后逐层烧结,制得陶瓷坯体;
五、打开SLS成型机的工作箱门,取出后清除多余粉末,在室温环境下将陶瓷坯体静置冷却,得到初始形坯;
六、制作初始形坯的CIP包套,对其进行包套,然后进行冷等静压致密化处理,得到处理后的陶瓷坯体;
七、将处理后的陶瓷坯体放入真空烧结炉中,进行脱脂预烧结,得到多孔SiC陶瓷;
八、将多孔SiC陶瓷在有氧环境下进行烧结,得到多孔SiC陶瓷。
本发明的有益效果:
本发明设计了一种添加造孔剂法结合SLS技术制备多孔SiC陶瓷的方法,本发明操作简便,成型速度快,原料利用率高,通过添加造孔剂提高多孔SiC陶瓷的孔隙率,最终成型件的孔隙率为70%~80%,且具备一定的强度。该种方法可制备复杂形状的零件,同时满足高孔隙率和强度的要求,所制备的多孔SiC陶瓷可在实际的不同领域中应用。
附图说明
图1是本发明的成型原理模型图;其中a为SiC、b为粘结剂、c为炭黑。
具体实施方式
本发明技术方案不局限于以下所列举的具体实施方式,还包括各具体实施方式之间的任意组合。
具体实施方式一:本实施方式基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,是按以下步骤进行:
一、绘制多孔SiC陶瓷的三维模型,然后将其转换为STL格式文件;
二、将STL格式文件导入SLS成型机,设定扫描速度为1000mm/s~2000mm/s,每层厚度为0.05mm~0.2mm,预热温度为40~70℃,然后利用计算机分层切片软件将模型处理成设定厚度的薄片;
三、在混料机中倒入SiC粉末、粘结剂粉末和造孔剂,进行混粉,得到混合均匀的复合粉末;
四、将复合粉末加入到SLS成型机的工作缸中,利用滚轴将粉末铺平,静置30min,然后将工作缸加热到步骤二设定的预热温度,开始加工,激光烧结,送粉缸送粉铺粉,然后逐层烧结,制得陶瓷坯体;
五、打开SLS成型机的工作箱门,取出后清除多余粉末,在室温环境下将陶瓷坯体静置冷却,得到初始形坯;
六、制作初始形坯的CIP包套,对其进行包套,然后进行冷等静压致密化处理,得到处理后的陶瓷坯体;
七、将处理后的陶瓷坯体放入真空烧结炉中,进行脱脂预烧结,得到多孔SiC陶瓷;
八、将多孔SiC陶瓷在有氧环境下进行烧结,得到多孔SiC陶瓷。
本实施方式的有益效果:
本实施方式设计了一种添加造孔剂法结合SLS技术制备多孔SiC陶瓷的方法,本发明操作简便,成型速度快,原料利用率高,通过添加造孔剂提高多孔SiC陶瓷的孔隙率,最终成型件的孔隙率为70%~80%,且具备一定的强度。该种方法可制备复杂形状的零件,同时满足高孔隙率和强度的要求,所制备的多孔SiC陶瓷可在实际的不同领域中应用。
具体实施方式二:本实施方式与具体实施方式一不同的是:步骤二中设定扫描速度为1000mm/s,每层厚度为0.1mm,预热温度为45℃,其他与具体实施方式一相同。
具体实施方式三:本实施方式与具体实施方式一或二不同的是:步骤三中混料机转速50r/min,混粉时间为8h,其他与具体实施方式一或二相同。
具体实施方式四:本实施方式与具体实施方式一至三之一不同的是:复合粉末中粘结剂粉末的质量百分含量为5%~15%,SiC粉末的质量百分含量为70%~90%,造孔剂的质量百分含量为5%~15%,其他与具体实施方式一至三之一相同。
具体实施方式五:本实施方式与具体实施方式一至四之一不同的是:复合粉末中粘结剂粉末的质量百分含量为10%,SiC粉末的质量百分含量为80%,造孔剂的质量百分含量为10%,其他与具体实施方式一至四之一相同。
具体实施方式六:本实施方式与具体实施方式一至五之一不同的是:所述粘接剂粉末为环氧树脂粉末、聚苯乙烯粉末或酚醛树脂粉末,其他与具体实施方式一至五之一相同。
具体实施方式七:本实施方式与具体实施方式一至六之一不同的是:造孔剂为炭黑,其他与具体实施方式一至六之一相同。
具体实施方式八:本实施方式与具体实施方式一至七之一不同的是:制作初始形坯的CIP包套为采用天然橡胶胶乳材料,CIP中保压压力为200MPa,保压时间为5min,其他与具体实施方式一至七之一相同。
具体实施方式九:本实施方式与具体实施方式一至八之一不同的是:步骤七中烧结的温度为1000℃~1600℃,保温时间为30min~90min,其他与具体实施方式一至八之一相同。
具体实施方式十:本实施方式与具体实施方式一至九之一不同的是:步骤八中的烧结为:以升温速率为5℃/min升温至300℃,然后以以升温速率为10℃/min升温至1200℃,保温2h,其他与具体实施方式一至九之一相同。
采用以下实施例验证本发明的有益效果:
实施例一:基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,是按以下步骤进行:
一、使用UG软件绘制多孔SiC陶瓷的三维模型,然后将其转换为STL格式文件;
二、将STL格式文件导入SLS成型机,设定扫描速度为1000mm/s,每层厚度为0.1mm,预热温度为45℃,然后利用计算机分层切片软件将模型处理成设定厚度的薄片;
三、在混料机中倒入SiC粉末、环氧树脂粉末和炭黑,进行混粉,混料机转速50r/min,混粉时间为8h,得到混合均匀的复合粉末;复合粉末中环氧树脂粉末的质量百分含量为10%,SiC粉末的质量百分含量为80%,炭黑的质量百分含量为10%;
四、将复合粉末加入到SLS成型机的工作缸中,利用滚轴将粉末铺平,静置30min,然后将工作缸加热到步骤二设定的预热温度,开始加工,激光烧结,送粉缸送粉铺粉,然后逐层烧结,制得陶瓷坯体;
五、打开SLS成型机的工作箱门,取出后清除多余粉末,在室温环境下将陶瓷坯体静置冷却,得到初始形坯;
六、制作初始形坯的CIP包套,对其进行包套,然后进行冷等静压致密化处理,得到处理后的陶瓷坯体;其中制作初始形坯的CIP包套为采用天然橡胶胶乳材料,CIP中保压压力为200MPa,保压时间为5min;
七、将处理后的陶瓷坯体放入真空烧结炉中,进行脱脂预烧结,烧结的温度为1200℃,保温时间为30min,得到多孔SiC陶瓷;
八、将多孔SiC陶瓷在有氧环境下,以升温速率为5℃/min升温至300℃,然后以以升温速率为10℃/min升温至1200℃,保温2h,得到多孔SiC陶瓷。
步骤二中所述SLS成型机为华中科技大学制备的HK S500***SLS快速成型机。
基于阿基米德定律,多孔SiC陶瓷的孔隙率采用排水法测量。测量工具为天平。将多孔SiC陶瓷试样清洗10min,在温度为110℃的烘干箱烘干2h,至恒重,前后两次质量之差不大于其前一次的0.1%即可,测量此时干燥式样在空气中的质量,记为m1;将多孔SiC陶瓷放入纯净水中,然后转入浸渍炉中,抽真空30min,然后加压30min,压力为0.2MPa,使试样充分饱和,将试样吊在天平的挂钩上称重,此时式样仍放置在水中,此时为饱和试样在水中的质量,记为m2;将多孔SiC陶瓷从水中拿出,用吸饱水的棉纱布小心擦去试样表面多余的液滴,测量饱和试样在空气中的质量,记为m3
利用公式计算出多孔SiC陶瓷的孔隙率。
经检测本试验得到的多孔SiC陶瓷,其孔隙率为80%。
综上所述,本实施例的方法操作简便,成型速度快,原料利用率高,通过添加造孔剂提高多孔SiC陶瓷的孔隙率,最终成型件的孔隙率为80%,且具备一定的强度。该种方法可制备复杂形状的零件,同时满足高孔隙率和强度的要求,所制备的多孔SiC陶瓷可在实际的不同领域中应用。

Claims (10)

1.基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于该方法按以下步骤进行:
一、绘制多孔SiC陶瓷的三维模型,然后将其转换为STL格式文件;
二、将STL格式文件导入SLS成型机,设定扫描速度为1000mm/s~2000mm/s,每层厚度为0.05mm~0.2mm,预热温度为40~70℃,然后利用计算机分层切片软件将模型处理成设定厚度的薄片;
三、在混料机中倒入SiC粉末、粘结剂粉末和造孔剂,进行混粉,得到混合均匀的复合粉末;
四、将复合粉末加入到SLS成型机的工作缸中,利用滚轴将粉末铺平,静置30min,然后将工作缸加热到步骤二设定的预热温度,开始加工,激光烧结,送粉缸送粉铺粉,然后逐层烧结,制得陶瓷坯体;
五、打开SLS成型机的工作箱门,取出后清除多余粉末,在室温环境下将陶瓷坯体静置冷却,得到初始形坯;
六、制作初始形坯的CIP包套,对其进行包套,然后进行冷等静压致密化处理,得到处理后的陶瓷坯体;
七、将处理后的陶瓷坯体放入真空烧结炉中,进行脱脂预烧结,得到多孔SiC陶瓷;
八、将多孔SiC陶瓷在有氧环境下进行烧结,得到多孔SiC陶瓷。
2.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于步骤二中设定扫描速度为1000mm/s,每层厚度为0.1mm,预热温度为45℃。
3.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于步骤三中混料机转速50r/min,混粉时间为8h。
4.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于复合粉末中粘结剂粉末的质量百分含量为5%~15%,SiC粉末的质量百分含量为70%~90%,造孔剂的质量百分含量为5%~15%。
5.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于复合粉末中粘结剂粉末的质量百分含量为10%,SiC粉末的质量百分含量为80%,造孔剂的质量百分含量为10%。
6.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于所述粘接剂粉末为环氧树脂粉末、聚苯乙烯粉末或酚醛树脂粉末。
7.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于造孔剂为炭黑。
8.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于制作初始形坯的CIP包套为采用天然橡胶胶乳材料,CIP中保压压力为200MPa,保压时间为5min。
9.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于步骤七中烧结的温度为1000℃~1600℃,保温时间为30min~90min。
10.根据权利要求1所述的基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法,其特征在于步骤八中的烧结为:在有氧的环境下,以升温速率为5℃/min升温至300℃,然后以以升温速率为10℃/min升温至1200℃,保温2h。
CN201710964244.5A 2017-10-17 2017-10-17 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法 Pending CN107602130A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710964244.5A CN107602130A (zh) 2017-10-17 2017-10-17 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710964244.5A CN107602130A (zh) 2017-10-17 2017-10-17 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107602130A true CN107602130A (zh) 2018-01-19

Family

ID=61078236

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710964244.5A Pending CN107602130A (zh) 2017-10-17 2017-10-17 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107602130A (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108264353A (zh) * 2018-01-25 2018-07-10 哈尔滨理工大学 一种SiCw/SiC/SiC陶瓷基复合材料的制备方法
CN108947537A (zh) * 2018-08-02 2018-12-07 西安增材制造国家研究院有限公司 一种SiC陶瓷结构件及其制备方法
CN109848415A (zh) * 2019-03-12 2019-06-07 哈尔滨理工大学 一种3D成型SiCp/Al复杂结构的制备方法
CN110125390A (zh) * 2018-02-08 2019-08-16 罗天珍 三维打印金属粉末粘结毛坯的填充压实烧结工艺
CN110330344A (zh) * 2019-06-19 2019-10-15 华中科技大学 一种基于激光选区烧结制备高孔隙率氮化硅陶瓷的方法
CN110330765A (zh) * 2019-06-19 2019-10-15 裕克施乐塑料制品(太仓)有限公司 一种利用sls成型多孔陶瓷导热网络制备导热聚合物材料的工艺
CN110655405A (zh) * 2019-09-30 2020-01-07 汕头大学 一种陶瓷基复合材料结构的制备方法
CN111203535A (zh) * 2020-01-13 2020-05-29 无锡英特派金属制品有限公司 采用3d打印技术制备铱坩埚的方法
CN111451494A (zh) * 2020-04-16 2020-07-28 苏州复浩三维科技有限公司 3d模型打印密实方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106316440A (zh) * 2016-08-19 2017-01-11 华中科技大学 一种基于激光选区烧结的复杂结构多孔陶瓷的制备方法
CN106495699A (zh) * 2016-11-10 2017-03-15 哈尔滨理工大学 一种SLS技术与PIP技术相结合制备高强度耐高温SiC陶瓷导弹头外壳的方法
CN107098717A (zh) * 2017-04-07 2017-08-29 武汉理工大学 一种过滤用多孔陶瓷的三维打印成型制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106316440A (zh) * 2016-08-19 2017-01-11 华中科技大学 一种基于激光选区烧结的复杂结构多孔陶瓷的制备方法
CN106495699A (zh) * 2016-11-10 2017-03-15 哈尔滨理工大学 一种SLS技术与PIP技术相结合制备高强度耐高温SiC陶瓷导弹头外壳的方法
CN107098717A (zh) * 2017-04-07 2017-08-29 武汉理工大学 一种过滤用多孔陶瓷的三维打印成型制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
T J GILL等: "Experimental investigation into the selective laser sintering of silicon carbide polyamide composites", 《PROCEEDINGS OF THE INSTITUTION OF MECHANICAL ENGINEERS PART B-JOURNAL OF ENGINEERING MANUFACTURE》 *
贺文婷: "氧化铝粉末激光烧结/冷等静压/固相烧结复合成型研究", 《中国优秀硕士论文全文数据库 工程科技Ⅰ辑》 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108264353A (zh) * 2018-01-25 2018-07-10 哈尔滨理工大学 一种SiCw/SiC/SiC陶瓷基复合材料的制备方法
CN110125390A (zh) * 2018-02-08 2019-08-16 罗天珍 三维打印金属粉末粘结毛坯的填充压实烧结工艺
CN108947537A (zh) * 2018-08-02 2018-12-07 西安增材制造国家研究院有限公司 一种SiC陶瓷结构件及其制备方法
CN109848415A (zh) * 2019-03-12 2019-06-07 哈尔滨理工大学 一种3D成型SiCp/Al复杂结构的制备方法
CN110330344A (zh) * 2019-06-19 2019-10-15 华中科技大学 一种基于激光选区烧结制备高孔隙率氮化硅陶瓷的方法
CN110330765A (zh) * 2019-06-19 2019-10-15 裕克施乐塑料制品(太仓)有限公司 一种利用sls成型多孔陶瓷导热网络制备导热聚合物材料的工艺
CN110330344B (zh) * 2019-06-19 2020-12-18 华中科技大学 一种基于激光选区烧结制备高孔隙率氮化硅陶瓷的方法
CN110655405A (zh) * 2019-09-30 2020-01-07 汕头大学 一种陶瓷基复合材料结构的制备方法
CN111203535A (zh) * 2020-01-13 2020-05-29 无锡英特派金属制品有限公司 采用3d打印技术制备铱坩埚的方法
CN111451494A (zh) * 2020-04-16 2020-07-28 苏州复浩三维科技有限公司 3d模型打印密实方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107602130A (zh) 基于3D成型技术制备多孔SiC陶瓷的方法
CN101643360B (zh) 一种注射成型制造齿状异形陶瓷部件的方法
CN107500781A (zh) 一种多孔陶瓷的制备方法
Liu et al. Research on selective laser sintering of Kaolin–epoxy resin ceramic powders combined with cold isostatic pressing and sintering
Liu et al. Additive manufacturing of traditional ceramic powder via selective laser sintering with cold isostatic pressing
CN108503365B (zh) 一种基于光固化技术的碳化硅陶瓷及其制备方法
CN108947537A (zh) 一种SiC陶瓷结构件及其制备方法
CN101967064A (zh) 用蛋白质发泡法制备多孔陶瓷复合材料的方法
CN108264353A (zh) 一种SiCw/SiC/SiC陶瓷基复合材料的制备方法
CN107353036A (zh) 一种基于增材制造技术的多孔氮化硅陶瓷、其制备方法及其应用
CN104529458B (zh) 高性能SiC陶瓷基复合材料航空发动机叶片的制造方法
CN1256933C (zh) 一种牙科修复体的制备方法
CN105884347A (zh) 一种制备高性能牙科氧化锆陶瓷的方法
CN113149002B (zh) 一种基于光固化成型的金刚石-陶瓷复合材料的制备方法
CN106380201B (zh) 一种制备异形碳化硼陶瓷的方法
CN108101574A (zh) 一种3d打印制备陶瓷多孔件的方法及陶瓷多孔件
CN110655405B (zh) 一种陶瓷基复合材料结构的制备方法
CN107914333A (zh) 利用凝胶注模成型工艺制作氧化锆陶瓷手机后盖的方法
CN110078529A (zh) 一种碳化硅晶须增强铝基复合材料及其制备方法
CN108726998A (zh) 一种氧化锆增韧氧化铝牙科渗透陶瓷的制备方法
Duan et al. Effect of solid contents on the mechanical properties of SiC–10 wt.% AlN ceramic composites prepared by gelcasting
CN109047649B (zh) 一种提高钛合金铸造充型性能的石墨铸型及其制备方法
CN102180666A (zh) 一种氧化锆陶瓷插芯的制备方法
CN101805159B (zh) 液态浇铸快速固化成型耐高温陶土及其制备和制模工艺
CN105622130B (zh) 快速制备硅溶胶型壳的方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20180119

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication