CN107565060B - 一种显示器件的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种显示器件的制备方法，通过在进行切割工艺形成显示器件后，继续激光研磨工艺以将显示器件的四周边缘均研磨至玻璃胶处，即直接以激光聚焦到玻璃胶内，使得玻璃胶与玻璃再融熔，以强化基板玻璃和盖板玻璃的边缘，使显示器件结构更加强韧结实，机械强度增加，单体强度增加更使产品应用面增广，进而能适应未来产品的多样性。
Description
技术领域
本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种显示器件的制备方法。
背景技术
OLED 即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，因此受到广泛的关注，并作为新一代的显示方式，已开始逐渐取代传统液晶显示器，被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等。OLED 显示技术与传统的LCD 显示方式不同，无需背光灯，采用非常薄的有机材料涂层和基板玻璃，当有电流通过时，这些有机材料就会发光。但是由于有机材料易与水氧反应，作为基于有机材料的显示设备，OLED 显示屏对封装的要求非常高。为了实现OLED 显示面板商业化，与之相关的封装技术成为了研究热点。
现行OLED产品封装存在方式，大致为基板玻璃+盖板玻璃封装，玻璃胶（Frit） 封装等方式，经压合设备将基板玻璃和盖板玻璃结合，经由激光烧结机固化Frit(玻璃胶)，将两片玻璃结合在一起。
现行Frit(玻璃胶)封装方法具体为：网印机将玻璃胶涂在盖板玻璃上，并经高温烘烤定型后，将基板玻璃和盖板玻璃经压合机结合，之后经固化工艺后假固定完成初步封装作业，最后将基板中玻璃胶烧结 ，完成封装作业，并进行切割完成产品尺寸，但切割后由于玻璃边缘的机械强度不够，从而会影响显示器件的机械强度，这是本领域技术人员所不愿见到的。
发明内容
针对上述存在的问题，本发明公开了一种显示器件的制备方法，包括：
提供一具有器件区及环绕所述器件区的封装区的基板玻璃，且所述基板玻璃的器件区上设置有有机发光模组；
提供一盖板玻璃，且所述盖板玻璃对应所述基板玻璃的所述封装区的位置涂覆有玻璃胶；
将所述盖板玻璃和所述基板玻璃压合在一起以将所述有机发光模组予以封装；
对所述玻璃胶进行固化工艺后，继续对所述封装区***的所述基板玻璃和所述盖板玻璃实施切割工艺，以形成显示器件；以及
继续激光研磨工艺以将所述显示器件的四周边缘均研磨至所述玻璃胶处。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述激光研磨工艺包括端面研磨。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述端面研磨去除掉的玻璃的尺寸以研磨方向计算小于2mm。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述方法中，在进行所述切割工艺之前，还包括对所述玻璃胶进行烧结的步骤。
上述的显示器件的制备方法，其中，采用激光烧结机对所述玻璃胶进行所述烧结步骤。
上述的显示器件的制备方法，其中，采用紫外线对所述玻璃胶进行所述固化工艺。
上述的显示器件的制备方法，其中，采用玻璃激光熔融机对所述显示器件的四周边缘进行所述激光研磨工艺。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述有机发光模组按照从下至上的顺序依次包括阳极、有机功能层和阴极。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述有机功能层包含空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的全部或部分。
上述的显示器件的制备方法，其中，所述基板玻璃为TFT基板玻璃。
上述发明具有如下优点或者有益效果：
本发明公开了一种显示器件的制备方法，通过在进行切割工艺形成显示器件后，继续激光研磨工艺以将显示器件的四周边缘均研磨至玻璃胶处，即直接以激光聚焦到玻璃胶内，使得玻璃胶与玻璃（基板玻璃和盖板玻璃）再融熔，以强化基板玻璃和盖板玻璃的边缘，使显示器件结构更加强韧结实，机械强度增加，单体强度增加更使产品应用面增广，进而能适应未来产品的多样性。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更加明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未可以按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
图1是本发明实施例中显示器件的制备方法的流程图；
图2～5是本发明实施例中显示器件的制备方法的流程结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例对本发明作进一步的说明，但是不作为本发明的限定。
如图1所示，本实施例涉及一种显示器件的制备方法，具体的，该方法包括如下步骤：
步骤S1，提供一具有器件区及环绕器件区的封装区的基板玻璃1，且基板玻璃1的器件区上设置有有机发光模组2，如图2所示的结构。
在本发明一个优选的实施例中，上述基板玻璃1为TFT基板玻璃。
在本发明一个优选的实施例中，上述有机发光模组2按照从下至上的顺序依次包括阳极、有机功能层和阴极。
在此基础上，进一步的，上述有机功能层包含空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的全部或部分，由于该有机功能层并非本发明改进的重点，在此便不予以赘述。
步骤S2，提供一盖板玻璃3，且该盖板玻璃3对应基板玻璃1的封装区的位置涂覆有玻璃胶4，如图3所示的结构。
在本发明一个优选的实施例中，上述步骤S2具体为：首先提供一盖板玻璃3，其次利用网印机于该盖板玻璃3对应基板玻璃1的封装区的位置涂覆玻璃胶，之后对玻璃胶4进行高温烘烤定型，形成如图3所示的结构。
步骤S3，利用压合机将盖板玻璃3与基板玻璃1压合在一起以将有机发光模组2予以封装，如图4所示的结构。
步骤S4，对玻璃胶4进行固化工艺后，继续利用切割机进行切割工艺，以完成产品尺寸，形成显示器件。
在本发明一个优选的实施例中，采用紫外线（UV）对玻璃胶4进行固化工艺。
在本发明一个优选的实施例中，上述方法中，在固化工艺之后，并在进行切割工艺之前，还包括对玻璃胶4进行烧结的步骤。
在此基础上，进一步的，采用激光烧结机对玻璃胶4进行烧结。
步骤S5，利用玻璃激光熔融机进行激光研磨工艺以将显示器件的四周边缘均研磨至玻璃胶4处，以强化基板玻璃1和盖板玻璃3的边缘，即直接以激光聚焦到玻璃胶4内，使得玻璃胶4与玻璃（基板玻璃1和盖板玻璃3）再融熔，以强化基板玻璃1和盖板玻璃3的边缘，使玻璃边缘强度增强，以增加机械强度。
在本发明一个优选的实施例中，上述激光研磨工艺包括端面研磨，当然该激光研磨工艺还可以为其他的研磨方式，只要能实现本发明的目的即可，在此便不一一列举。
下面结合附图以具体的实施例对端面研磨进行详细的阐述：
具体的，首先确定对显示器件的四周边缘激光研磨到哪个位置，即确定端面研磨线B的位置，A为大阪切割线，即进行切割工艺的切割线；如图5a所示，图中示出了端面研磨线B的位置位于玻璃胶4处；在本发明一个优选的实施例中，大阪切割线A与端面研磨线B之间的间距a小于2mm（即预定研磨掉的玻璃的尺寸小于2mm）。
其次，利用玻璃激光熔融机对显示器件的四周边缘进行激光研磨工艺，将该显示器件研磨至端面研磨线B的位置停止，如图5b所示。
综上，本发明公开了一种显示器件的制备方法，通过在进行切割工艺形成显示器件后，继续激光研磨工艺以将显示器件的四周边缘均研磨至玻璃胶处，即直接以激光聚焦到玻璃胶内，使得玻璃胶与玻璃再融熔，以强化基板玻璃和盖板玻璃的边缘，使显示器件结构更加强韧结实，机械强度增加，单体强度增加更使产品应用面增广，进而能适应未来产品的多样性。
本领域技术人员应该理解，本领域技术人员在结合现有技术以及上述实施例可以实现变化例，在此不做赘述。这样的变化例并不影响本发明的实质内容，在此不予赘述。
以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
Claims (10)
1.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括：
提供一具有器件区及环绕所述器件区的封装区的基板玻璃，且所述基板玻璃的所述器件区上设置有有机发光模组；
提供一盖板玻璃，且所述盖板玻璃对应所述基板玻璃的所述封装区的位置涂覆有玻璃胶；
将所述盖板玻璃和所述基板玻璃压合在一起以将所述有机发光模组予以封装；
对所述玻璃胶进行固化工艺后，继续对所述封装区***的所述基板玻璃和所述盖板玻璃实施切割工艺，以形成显示器件；以及
继续激光研磨工艺以将所述显示器件的四周边缘均研磨至所述玻璃胶处，于所述研磨工艺的同时熔融所述玻璃胶、所述盖板玻璃及所述基板玻璃。
2.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述激光研磨工艺包括端面研磨。
3.如权利要求2所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述端面研磨去除掉的玻璃的尺寸以研磨方向计算小于2mm。
4.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述方法中，在进行所述切割工艺之前，还包括对所述玻璃胶进行烧结的步骤。
5.如权利要求4所述的显示器件的制备方法，其特征在于，采用激光烧结机对所述玻璃胶进行所述烧结步骤。
6.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，采用紫外线对所述玻璃胶进行所述固化工艺。
7.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，采用玻璃激光熔融机对所述显示器件的四周边缘进行所述激光研磨工艺。
8.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述有机发光模组按照从下至上的顺序依次包括阳极、有机功能层和阴极。
9.如权利要求8所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述有机功能层包含空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的全部或部分。
10.如权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述基板玻璃为TFT基板玻璃。
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