CN107415034A - 陶瓷喷釉设备的釉柜 - Google Patents

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王葵
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    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
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Abstract

本发明公开了一种陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，它包括喷釉柜体和设置在喷釉柜体内的多支喷枪，喷釉柜体的上部设置有防气体对流盖，防气体对流盖上设置有若干个排气孔，防止喷釉时产生的气流在喷釉柜体内空间对流，使气流沿着排气孔排走，避免釉水聚集在喷枪杆上造成滴釉现象。本发明结构简单，可使得喷釉更加均匀，也解决了陶瓷喷釉过程中产生滴釉的问题。

Description

陶瓷喷釉设备的釉柜
技术领域
本发明涉及陶瓷生产设备技术领域，更具体的是涉及一种喷釉设备的釉柜。
背景技术
喷釉是现代陶瓷施釉技法之一。用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面。适用于大型器皿、造型复杂或薄胎制品、陶瓷砖等生产，可多次喷釉以进行多色施釉和达到较厚釉层。目前，陶瓷喷釉设备所存在的问题是：滴釉、喷枪喷不均匀的问题。为此，有必要研发出一种能解决所述问题的陶瓷喷釉设备，使得在陶瓷喷釉过程中不会出现滴釉和喷釉不均匀问题。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种结构简单，使用方便，稳定性好的陶瓷喷釉设备的釉柜。
本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，它包括喷釉柜体和设置在喷釉柜体内的多支喷枪，喷釉柜体的上部设置有防气体对流盖，防气体对流盖上设置有若干个排气孔，可以防止喷釉时产生的气流在喷釉柜体内空间对流，使气流沿着排气孔排走，避免了釉水聚集在喷枪杆上造成滴釉现象。
作为上述方案的进一步说明，所述喷枪的数量为10-12支，分两排或多排设置，极大的改善了喷釉的效果。
进一步地，所述喷釉柜体的两端分别设置有进、出料口和穿过进、出料口的输送装置，通过输送装置将陶瓷产品送入喷釉柜体进行喷釉处理，喷枪设置在输送装置的上方。
进一步地，排气孔设置在防气体对流盖的边角位置。
进一步地，所述防气体对流盖的数量为两个，包括左防气体对流盖和右防气体对流盖，左防气体对流盖和右防气体对流盖分别与喷釉柜体的上部铰接，构成可翻转打开或关闭的顶盖结构。
进一步地，所述喷釉柜体的下侧设置有往外弯折延伸的定位翻边，定位翻边上设置有紧固件固定于地面或相应的底座上。
本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
本发明采用在喷釉柜体的上部设置防气体对流盖，防气体对流盖上设置多个排气孔，可以防止喷釉时产生的气流在喷釉柜体内空间对流，使气流沿着排气孔排走，避免了釉水聚集在喷枪杆上造成滴釉现象；并且在喷釉柜体内部设置10-12支喷枪，分两排或多排设置，极大的改善了喷釉的效果。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
附图标记说明：1、喷釉柜体 1-1、定位翻边 1-2、紧固件 2、喷枪 3、防气体对流盖3-1、左防气体对流盖 3-2、右防气体对流盖 4、排气孔 5、进料口 6、输送装置。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本技术方案作详细的描述。
如图1所示，本发明是一种陶瓷喷釉设备的釉柜，它包括喷釉柜体1和设置在喷釉柜体内的多支喷枪2，喷釉柜体的上部设置有防气体对流盖3，防气体对流盖上设置有若干个排气孔4，可以防止喷釉时产生的气流在喷釉柜体内空间对流，使气流沿着排气孔排走，避免了釉水聚集在喷枪杆上造成滴釉现象。喷枪的数量为10-12支，分两排或多排设置，极大的改善了喷釉的效果。
进一步地，所述喷釉柜体的两端分别设置有进料口5、出料口和穿过进、出料口的输送装置6，通过输送装置将陶瓷产品送入喷釉柜体进行喷釉处理，喷枪设置在输送装置的上方。排气孔设置在防气体对流盖的边角位置。本实施例中，所述防气体对流盖3的数量为两个，包括左防气体对流盖3-1和右防气体对流盖3-2，左防气体对流盖和右防气体对流盖的两端分别设置排气孔，左防气体对流盖和右防气体对流盖分别与喷釉柜体的上部铰接，构成可翻转打开或关闭的顶盖结构。喷釉柜体的下侧设置有往外弯折延伸的定位翻边1-1，定位翻边上设置有紧固件1-2固定于地面或相应的底座上。
本发明与现有技术相比，采用在喷釉柜体的上部设置防气体对流盖，防气体对流盖上设置多个排气孔，可以防止喷釉时产生的气流在喷釉柜体内空间对流，使气流沿着排气孔排走，避免了釉水聚集在喷枪杆上造成滴釉现象；并且在喷釉柜体内部设置10-12支喷枪，分两排或多排设置，极大的改善了喷釉的效果。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，它包括喷釉柜体和设置在喷釉柜体内的多支喷枪，喷釉柜体的上部设置有防气体对流盖，防气体对流盖上设置有若干个排气孔。
2.根据权利要求1所述的陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，所述喷枪的数量为10-12支，分两排或多排设置。
3.根据权利要求1所述的陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，所述喷釉柜体的两端分别设置有进、出料口和穿过进、出料口的输送装置，喷枪设置在输送装置的上方。
4.根据权利要求1所述的陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，排气孔设置在防气体对流盖的边角位置。
5.根据权利要求1所述的陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，所述防气体对流盖的数量为两个，包括左防气体对流盖和右防气体对流盖，左防气体对流盖和右防气体对流盖分别与喷釉柜体的上部铰接，构成可翻转打开或关闭的顶盖结构。
6.根据权利要求1所述的陶瓷喷釉设备的釉柜，其特征在于，所述喷釉柜体的下侧设置有往外弯折延伸的定位翻边，定位翻边上设置有紧固件固定于地面或相应的底座上。
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