CN107357460B - 触控结构及其制造方法、触控屏 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种触控结构及其制造方法、触控屏。该触控结构包括衬底基板和位于衬底基板上的第一功能结构和第二功能结构，第一功能结构包括多个第一电极，第二功能结构包括多个第二电极，第一电极为网格结构，第二电极为网格结构；第一功能结构还包括第一空闲结构，第一空闲结构与第一电极之间绝缘，第一空闲结构位于第一电极的空白区域中，第一空闲结构呈非规则排布；和/或，第二功能结构还包括第二空闲结构，第二空闲结构与第二电极之间绝缘，第二空闲结构位于第二电极的空白区域中，第二空闲结构呈非规则排布。本发明有效防止了摩尔纹现象的产生，提高了触控屏的显示效果，从而有效防止了触控屏出现显示不良现象。

Description

触控结构及其制造方法、触控屏

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种触控结构及其制造方法、触控屏。

背景技术

目前的金属网触控屏中，驱动电极和感应电极的电极图案均为金属网格结构，驱动电极的金属网格结构与感应电极的金属网格结构在衬底基板上的投影叠加形成周期性分布的网格，当该周期性分布的网格的空间周期性与显示模组中的像素的空间周期性或背光模组中的棱镜片的空间周期性相近时，容易形成摩尔纹现象，严重影响了触控屏的光学显示效果，造成触控屏的显示不良。

而现有技术中的防摩尔纹现象的方案中，通常通过改变网格的角度，将驱动电极或者感应电极设置为非规则图案结构，来改善摩尔纹现象，但通过改变网格的角度改善摩尔纹现象的程度有限，依然无法消除摩尔纹现象的产生。

因此，现有技术无法有效防止触控屏产生摩尔纹现象，影响了触控屏的显示效果，造成触控屏的显示不良。

发明内容

本发明提供一种触控结构及触控屏，用于有效防止摩尔纹现象的产生，提高触控屏的显示效果，从而有效防止触控屏出现显示不良现象。

为实现上述目的，本发明提供了一种触控结构，该触控结构包括衬底基板和位于所述衬底基板上的第一功能结构和第二功能结构，所述第一功能结构包括多个第一电极，所述第二功能结构包括多个第二电极，所述第一电极和所述第二电极之间交叉设置且相互绝缘，所述第一电极为网格结构，所述第二电极为网格结构；

所述第一功能结构还包括第一空闲结构，所述第一空闲结构与所述第一电极之间绝缘，所述第一空闲结构位于所述第一电极的空白区域中，所述第一空闲结构呈非规则排布；和/或

所述第二功能结构还包括第二空闲结构，所述第二空闲结构与所述第二电极之间绝缘，所述第二空闲结构位于所述第二电极的空白区域中，所述第二空闲结构呈非规则排布。

可选地，所述第一空闲结构与所述第一电极同层设置。

可选地，所述第二空闲结构与所述第二电极同层设置。

可选地，所述第一空闲结构的数量为多个，多个所述第一空闲结构构成第一空闲图案。

可选地，所述第一空闲图案的数量为至少一个。

可选地，所述第一空闲图案的数量为多个，多个所述第一空闲图案均匀分布。

可选地，所述第二空闲结构的数量为多个，多个所述第二空闲结构构成第二空闲图案。

可选地，所述第二空闲图案的数量为至少一个。

可选地，所述第二空闲图案的数量为多个，多个所述第二空闲图案均匀分布。

为实现上述目的，本发明还提供了一种触控屏，该触控屏包括上述的触控结构。

为实现上述目的，本发明还提供了一种触控结构的制造方法，该触控结构采用上述的触控结构，该制造方法包括：

在衬底基板上形成第一功能结构；

在所述衬底基板上形成第二功能结构。

本发明的有益效果：

本发明所提供的触控结构及其制造方法、触控屏中，第一功能结构还包括第一空闲结构，第一空闲结构位于第一电极的空白区域中，第一空闲结构呈非规则排布；和/或，第二功能结构还包括第二空闲结构，第二空闲结构位于第二电极的空白区域中，第二空闲结构呈非规则排布。第一空闲结构和/或第二空闲结构的设置，破坏了第一电极和第二电极的网格结构形成的空间周期性，从而有效防止了摩尔纹现象的产生，提高了触控屏的显示效果，从而有效防止了触控屏出现显示不良现象。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的一种触控结构的结构示意图；

图2为图1中的第一功能结构的结构示意图；

图3为图1中的第二功能结构的结构示意图；

图4为图1中的触控结构的另一种结构示意图；

图5为图1中的触控结构的另一种结构示意图；

图6为图1中的第一电极与第一连接块和第一走线之间的连接关系示意图；

图7为图1中的第二电极与第二连接块和第二走线之间的连接关系示意图；

图8为图1中的触控结构的结构示意图；

图9为本发明实施例三提供的一种触控结构的制造方法的流程图；

图10为沉积黑色遮光矩阵材料层的示意图；

图11为形成黑色遮光矩阵的示意图；

图12为沉积第二功能结构材料层的示意图；

图13为形成第二功能结构和第二走线的示意图；

图14为沉积第一保护层的示意图；

图15为沉积第一功能结构材料层的示意图；

图16为形成第一功能结构和第一走线的示意图；

图17为沉积第二保护层的示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的触控结构及其制造方法、触控屏进行详细描述。

图1为本发明实施例一提供的一种触控结构的结构示意图，图2为图1中的第一功能结构的结构示意图，图3为图1中的第二功能结构的结构示意图，如图1至图3所示，该触控结构包括衬底基板(图中未示出)和位于衬底基板上的第一功能结构和第二功能结构，第一功能结构包括多个第一电极1，第二功能结构包括多个第二电极2，第一电极1和第二电极2之间交叉设置且相互绝缘，第一电极1为网格结构，第二电极2为网格结构。优选地，第一电极1为金属网格结构，第二电极2为金属网格结构。

其中，如图2所示，第一电极1的网格结构具有空白区域M，如图3所示，第二电极2的网格结构具有空白区域N。

第一功能结构还包括第一空闲结构3，第一空闲结构3与第一电极1之间绝缘，第一空闲结构3位于第一电极1的空白区域M中，第一空闲结构3呈非规则排布。如图2所示，图2中位于空白区域M中的线段即为第一空闲结构3，不难看出，空白区域M中的线段与构成网格结构的线条之间互不连接，即第一空闲结构3与第一电极1之间互不接触，以使第一空闲结构3与第一电极1之间绝缘，且第一空闲结构3上也不会加载或输出任何信号，因此，第一空闲结构3的设置不会影响第一电极1的电学性能。需要说明的是：图2中以线段表示第一空闲结构3不代表第一空闲结构3的实际形状，第一空闲结构3的实际形状可以根据实际应用需要进行设置，本实施例对此不作任何限制。

其中，空白区域M中的第一空闲结构3的数量可以为一个或多个，本实施例中空白区域M中的第一空闲结构3的数量为一个。本实施例对于空白区域M中的第一空闲结构3的数量不设任何限制。

第二功能结构还包括第二空闲结构4，第二空闲结构4与第二电极2之间绝缘，第二空闲结构4位于第二电极2的空白区域N中，第二空闲结构4呈非规则排布。如图3所示，图3中位于空白区域N中的线段即为第二空闲结构4，不难看出，空白区域N中的线段与构成网格结构的线条之间互不连接，即第二空闲结构4与第二电极2之间互不接触，以使第二空闲结构4与第二电极2之间绝缘，且第二空闲结构4上也不会加载或输出任何信号，因此，第二空闲结构4的设置不会影响第二电极2的电学性能。需要说明的是：图3中以线段表示第二空闲结构4，但不代表线段即为第二空闲结构4的实际形状，第二空闲结构4的实际形状可以根据实际应用需要进行设置，本实施例对此不作任何限制。

其中，空白区域N中的第二空闲结构4的数量可以为一个或多个，本实施例中空白区域N中的第一空闲结构4的数量为一个。本实施例对于空白区域N中的第二空闲结构4的数量不设任何限制。

需要说明的是，图1示出了触控结构同时设置有第一空闲结构3和第二空闲结构4的情况。但本实施例中，可选地，触控结构还可以仅设置第一空闲结构3，或者，触控结构仅设置第二空闲结构4。

图4为实施例一中的触控结构的另一种结构示意图，如图4所示，本实施例中，可选地，第一功能结构包括第一空闲结构3，第二功能结构不包括第二空闲结构4；也即，触控结构仅设置第一空闲结构3，并未设置第二空闲结构4。换言之，本实施例所提供的触控结构的结构并不仅限于图1所示的触控结构，还可以为如图4所示的触控结构。

图5为实施例一中的触控结构的另一种结构示意图，如图5所示，本实施例中，可选地，第一功能结构不包括第一空闲结构3，第二功能结构包括第二空闲结构4；也即，触控结构仅设置第二空闲结构4，并未设置第一空闲结构。换言之，本实施例所提供的触控结构的结构并不仅限于图1或图4所示的触控结构，还可以为如图5所示的触控结构。

需要说明的是，本实施例中的触控结构的结构示意图图1可以理解为图2和图3在平面上的叠加。

本实施例中，触控结构还包括第一连接块51、第二连接块52、第一走线61和第二走线62。

图6为图1中的第一电极与第一连接块和第一走线之间的连接关系示意图，如图6所示，第一电极1的两端均设置有第一连接块51，且每个第一连接块51对应连接一条第一走线61，即第一电极1通过第一连接块51与第一走线61连接，以实现触控结构中的信号的输入或输出。其中，第一电极1之间还设置有第一空闲电极7，第一空闲电极7上不加载或输出任何信号，以解决触控屏的显示出现消影现象的问题。

图7为图1中的第二电极与第二连接块和第二走线之间的连接关系示意图，如图7所示，第二电极2的两端设置有第二连接块52，且每个第二连接块52对应连接一条第一走线61，即第二电极2通过第二连接块52与第二走线62连接，以实现触控结构中的信号的输出或输入。其中，第二电极2之间还设置有第二空闲电极71，第二空闲电极71上不加载或输出任何信号，以解决触控屏的显示出现消影现象的问题。

本实施例中，优选地，第一电极1和第二电极2纵横交叉设置。例如，如图6所示，第一电极1横向设置，如图7所示，第二电极2纵向设置，或者第一电极1纵向设置，第二电极2横向设置。需要说明的是，本实施例中的第一电极1和第二电极2交叉设置的方式并不仅限于此，还可以为其他方式，此处不再一一列举。图1仅示出了第一电极1和第二电极2的部分结构，但从整体上来讲，第一电极1和第二电极2是纵横交叉设置的。

本实施例中，优选地，第一电极1为驱动电极，第二电极2为感应电极。换言之，第一电极1作为驱动信号通道，第一电极1可加载驱动信号；第二电极2作为感应信号通道，第二电极2可输出感应信号。

本实施例中，第一电极1的材料为金属。其中，第一电极1可以为单层金属结构或多层金属结构，优选地，第一电极1为多层金属结构，例如，第一电极1为三层金属结构，该三层金属结构分别为Mo层、Al层和Mo层，优选地，Al层位于两个Mo层之间。

本实施例中，第二电极2的材料为金属。其中，第二电极2为单层金属结构或多层金属结构，优选地，第二电极2为多层金属结构，例如，第二电极2为三层金属结构，该三层金属结构分别为Mo层、Al层和Mo层，优选地，Al层位于两个Mo层之间。

本实施例中，第一空闲结构3与第一电极1同层设置。优选地，第一空闲结构3的材料为金属。第一空闲结构3为单层金属结构或多层金属结构，优选地，第一空闲结构3为多层金属结构，例如，第一空闲结构3为三层金属结构，该三层金属结构分别为Mo层、Al层和Mo层，优选地，Al层位于两个Mo层之间。因此，在实际生产过程中，第一空闲结构3与第一电极1可以在一次构图工艺中同时形成，无需增加掩膜(mask)工艺。

本实施例中，第二空闲结构4与第二电极2同层设置。优选地，第二空闲结构4的材料为金属。第二空闲结构4为单层金属结构或多层金属结构，优选地，第二空闲结构4为多层金属结构，例如，第二空闲结构4为三层金属结构，该三层金属结构分别为Mo层、Al层和Mo层，优选地，Al层位于两个Mo层之间。因此，在实际生成过程中，第二空闲结构4与第二电极2可以在一次构图工艺中同时形成，无需增加mask工艺。

本实施例中，第一空闲结构3的数量为多个，多个第一空闲结构3构成第一空闲图案。如图2所示，第一空闲图案即为多个第一空闲结构3构成的不规则的四边形图案，但本实施例中，第一空闲图案并不仅限于四边形，还可以为其他形状，此处不再一一列举。

需要说明的是，本实施例中，第一空闲图案可以为非规则图案，也可以为规则图案，本实施例对于第一空闲图案是否规则不作任何限制。

本实施例中，第一空闲图案的数量为至少一个。优选地，第一空闲图案的数量为多个，多个第一空闲图案均匀分布。换言之，多个第一空闲图案均匀分布于第一电极1所处的第一功能结构。从而可以解决产品出现消影现象的问题。

本实施例中，优选地，多个第一空闲图案的形状互不相同。在实际应用中，多个第一空闲图案的形状也可以相同，本实施例对此不作任何限定。

本实施例中，第二空闲结构4的数量为多个，多个第二空闲结构4构成第二空闲图案。如图3所示，第二空闲图案包括多个第二空闲结构4所构成的两个不规则的六边形，但本实施例中，第二空闲图案并不仅限于六边形，还可以为其他形状，此处不再一一列举。

需要说明的是，本实施例中，第二空闲图案可以为非规则图案，也可以为规则图案，本实施例对于第二空闲图案是否规则不作任何限制。

本实施例中，第二空闲图案的数量为至少一个。优选地，第二空闲图案的数量为多个，多个第二空闲图案均匀分布。换言之，多个第二空闲图案均匀分布于第二电极2所处的第二功能结构。从而可以解决产品出现消影现象的问题。

本实施例中，优选地，多个第二空闲图案的形状互不相同。在实际应用中，多个第二空闲图案的形状也可以相同，本实施例对此不作任何限定。

图8为图1中的触控结构的结构示意图，如图8所示，本实施例中，触控结构还包括黑色遮光矩阵8、第一保护层9和第二保护层10，其中，黑色遮光矩阵8位于衬底基板11上，第二功能结构12位于衬底基板11上，第二走线62位于黑色遮光矩阵8上，第一保护层9位于第二功能结构12和第二走线62上，第一功能结构14和第一走线61位于第一保护层9上，第二保护层10位于第一功能结构14上。

其中，优选地，黑色遮光矩阵8的材料为黑色光阻材料。

其中，第一走线61的材料与第一电极1的材料相同，第二走线62的材料与第二电极2的材料相同。

本实施例所提供的触控结构中，第一功能结构还包括第一空闲结构，第一空闲结构位于第一电极的空白区域中，第一空闲结构呈非规则排布；和/或，第二功能结构还包括第二空闲结构，第二空闲结构位于第二电极的空白区域中，第二空闲结构呈非规则排布。第一空闲结构和/或第二空闲结构的设置，破坏了第一电极和第二电极的网格结构形成的空间周期性，从而有效防止了摩尔纹现象的产生，提高了触控屏的显示效果，从而有效防止了触控屏出现显示不良现象。在实际应用中，本实施例所提供的触控结构中第一电极和第二电极的结构无需变更，因此可以适用于各种IC，从而大大扩展了触控结构的适用范围。

本发明实施例二提供了一种触控屏，该触控屏包括上述实施例一所提供的触控结构。

本实施例中的触控结构的描述可参见上述实施例一，此处不再具体赘述。

本实施例所提供的触控屏中，第一功能结构还包括第一空闲结构，第一空闲结构位于第一电极的空白区域中，第一空闲结构呈非规则排布；和/或，第二功能结构还包括第二空闲结构，第二空闲结构位于第二电极的空白区域中，第二空闲结构呈非规则排布。第一空闲结构和/或第二空闲结构的设置，破坏了第一电极和第二电极的网格结构形成的空间周期性，从而有效防止了摩尔纹现象的产生，提高了触控屏的显示效果，从而有效防止了触控屏出现显示不良现象。在实际应用中，本实施例所提供的触控结构中第一电极和第二电极的结构无需变更，因此可以适用于各种IC，从而大大扩展了触控屏的适用范围。

图9为本发明实施例三提供的一种触控结构的制造方法的流程图，如图9所示，该方法包括：

步骤301、在衬底基板上形成黑色遮光矩阵。

具体地，步骤301包括：

步骤301a、在衬底基板上沉积黑色遮光矩阵材料层。

其中，黑色遮光矩阵材料层的材料为黑色光阻材料。

如图10所示，在衬底基板11上沉积黑色遮光矩阵材料层31

步骤301b、对黑色遮光矩阵材料层进行构图工艺，形成黑色遮光矩阵。

如图11所示，对黑色遮光矩阵材料层31进行构图工艺，形成黑色遮光矩阵8。

步骤302、在衬底基板上形成第二功能结构和第二走线。

其中，第二功能结构包括第二电极和第二空闲结构；第二电极和第二空闲结构的材料均为金属。也即，第二功能结构的材料为金属。

其中，第二走线的材料与第二功能结构的材料相同。

具体地，步骤302包括：

步骤302a、在衬底基板上沉积第二功能结构材料层。

其中，第二功能结构材料层的材料为金属。

如图12所示，在衬底基板11上沉积第二功能结构材料层32。

优选地，采用磁控溅射方式在衬底基板11上沉积第二功能结构材料层32。

步骤302b、对第二功能结构材料层进行构图工艺，形成第二功能结构和第二走线。

如图13所示，对第二功能结构材料层32进行构图工艺，形成第二功能结构12和第二走线62。其中，第二功能结构12包括第二电极和第二空闲结构。其中，第二走线62位于黑色遮光矩阵8上。

步骤303、在第二功能结构和走线上形成第一保护层。

具体地，如图14所示，在第二功能结构12和第二走线62上沉积第一保护层9。

步骤304、在第一保护层上形成第一功能结构和第一走线。

其中，第一功能结构包括第一电极和第一空闲结构；第一电极和第一空闲结构的材料均为金属。也即，第一功能结构的材料为金属。

其中，第一走线的材料与第一功能结构的材料相同。

具体地，步骤304包括：

步骤304a、在第一保护层上沉积第一功能结构材料层。

其中，第一功能结构材料层的材料为金属。

如图15所示，在第一保护层9上沉积第一功能结构材料层33。

优选地，采用磁控溅射方式在第一保护层9上沉积第一功能结构材料层33。

步骤304b、对第一功能结构材料层进行构图工艺，形成第一功能结构和第一走线。

如图16所示，对第一功能结构材料层33进行构图工艺，形成第一功能结构14和第一走线61。其中，第一功能结构14包括第一电极和第一空闲结构。其中，第一走线61与第二走线62的位置对应设置。

步骤305、在第一功能结构和第一走线上形成第二保护层。

具体地，如图17所示，在第一功能结构14和第一走线61上沉积第二保护层10。

本实施例中，构图工艺包括涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀和剥离光刻胶等工艺。

本实施例所提供的触控结构的制造方法，用于实现制造上述实施例一所提供的触控结构，关于该触控结构的具体描述可参见上述实施例一，此处不再具体赘述。

本实施例所提供的触控结构的制造方法中，第一功能结构还包括第一空闲结构，第一空闲结构位于第一电极的空白区域中，第一空闲结构呈非规则排布；和/或，第二功能结构还包括第二空闲结构，第二空闲结构位于第二电极的空白区域中，第二空闲结构呈非规则排布。第一空闲结构和/或第二空闲结构的设置，破坏了第一电极和第二电极的网格结构形成的空间周期性，从而有效防止了摩尔纹现象的产生，提高了触控屏的显示效果，从而有效防止了触控屏出现显示不良现象。在实际应用中，本实施例所提供的触控结构中第一电极和第二电极的结构无需变更的制造方法所制造的触控结构，因此可以适用于兼容各种IC，从而大大扩展了触控结构的适用范围。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种触控结构，其特征在于，包括衬底基板和位于所述衬底基板上的第一功能结构和第二功能结构，所述第一功能结构包括多个第一电极，所述第二功能结构包括多个第二电极，所述第一电极和所述第二电极之间交叉设置且相互绝缘，所述第一电极为网格结构，所述第二电极为网格结构；

所述第一功能结构还包括第一空闲结构，所述第一空闲结构与所述第一电极之间绝缘，所述第一空闲结构位于所述第一电极的网格所限定的空白区域内，所述第一空闲结构呈非规则排布；和/或

所述第二功能结构还包括第二空闲结构，所述第二空闲结构与所述第二电极之间绝缘，所述第二空闲结构位于所述第二电极的网格所限定的空白区域内，所述第二空闲结构呈非规则排布。

2.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述第一空闲结构与所述第一电极同层设置。

3.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述第二空闲结构与所述第二电极同层设置。

4.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述第一空闲结构的数量为多个，多个所述第一空闲结构构成第一空闲图案。

5.根据权利要求4所述的触控结构，其特征在于，所述第一空闲图案的数量为至少一个。

6.根据权利要求5所述的触控结构，其特征在于，所述第一空闲图案的数量为多个，多个所述第一空闲图案均匀分布。

7.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述第二空闲结构的数量为多个，多个所述第二空闲结构构成第二空闲图案。

8.根据权利要求7所述的触控结构，其特征在于，所述第二空闲图案的数量为至少一个。

9.根据权利要求8所述的触控结构，其特征在于，所述第二空闲图案的数量为多个，多个所述第二空闲图案均匀分布。

10.一种触控屏，其特征在于，包括权利要求1至9任一所述的触控结构。

11.一种触控结构的制造方法，其特征在于，所述触控结构采用权利要求1所述的触控结构；所述制造方法包括：

在衬底基板上形成第一功能结构；

在所述衬底基板上形成第二功能结构。

Images