CN107313014A - 一种蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
一种蒸镀装置。包括蒸镀室和安装在蒸镀室内的蒸镀源，衬底放置在蒸镀源下方，所述蒸镀源由原材料容器、加热器和多孔部件构成，原材料容器内盛装蒸镀材料，加热器安装在原材料容器的中部，在容器下部的部分区域安装有多孔部件。本发明能够防止蒸发材料液体在重力作用下流出，使蒸镀图形的质量和精细度大大提高，可简化***设计，降低成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种蒸镀装置，用来实现薄膜在衬底上的蒸镀，可广泛应用于OLED、半导体和LED等领域。
背景技术
蒸镀是一种常见的薄膜材料淀积方法。在蒸镀过程中，被蒸镀材料在坩埚中被加热至融化状态，在处于真空状态下的蒸镀室内，被蒸镀材料通过蒸发被输运到衬底表面，在衬底上沉积而形成薄膜。由于蒸镀材料为液态，为了防止蒸镀材料流出，坩埚通常仅在上部开口，而衬底则被支撑着以待镀面朝下被放置于坩埚的上方。
在OLED的蒸镀设备里，为了在蒸镀时在衬底上仅获得特定区域的镀膜，而其他区域则被遮蔽，需要在衬底的下方放置精细金属掩膜。该掩膜通过缕空的结构，使得蒸镀材料仅在衬底的部分区域沉积。但是将精细金属掩膜固定在衬底的下方非常近的距离是非常的困难的。为了防止固定装置对沉积区域的干扰，可以用于固定金属掩膜的装置也受到了诸多限制。在重力的作用下，精细金属掩膜会出现下垂等现象，严重的降低了蒸镀图形的质量和精细度。
现有的一种真空蒸镀装置(CN103726020A)，针对上述问题进行了改进。通过将蒸发源放于衬底的上方，避免了精细金属掩膜下垂的问题。但是为了防止蒸发材料在重力的作用下溢出，该专利需要使用双重蒸发加热单元，这增加了***的复杂程度和成本。同时由于该双层蒸发加热单元与蒸发室之间是相互连接的，蒸发源的压力与蒸发室的压力相同，蒸发源的蒸发速率主要由蒸发源温度决定，无法独立调节蒸发源的压力，这对于蒸发源温度受限的场合是不利的。
发明内容
为了克服现有技术的上述不足，本发明提供一种蒸镀装置，能够防止蒸发材料液体在重力作用下流出，使蒸镀图形的质量和精细度大大提高，可简化***设计，降低成本。
本发明解决其技术问题采用的技术方案是：包括蒸镀室和安装在蒸镀室内的蒸镀源，衬底放置在蒸镀源下方，所述蒸镀源由原材料容器、加热器和多孔部件构成，原材料容器内盛装蒸镀材料，加热器安装在原材料容器的中部，在容器下部的部分区域安装有多孔部件。
相比现有技术，本发明的一种蒸镀装置，其蒸发源被设置于衬底的下方，其中盛放蒸发材料的容器向下的部分还具有多孔部件，多孔部件能够防止蒸发材料液体在重力作用下流出，同时蒸发材料的蒸汽可以通过多孔材料的空洞蒸发到蒸镀腔，最终到达待蒸镀衬底，使蒸镀图形的质量和精细度大大提高，还简化了***设计，降低了成本。同时，多孔部件可以在蒸发室与蒸发液体之间建立一定的压力差，蒸发速度可以通过调节压力差或者蒸发源的温度来调节。由于衬底也位于蒸发源的下方，一样能避免精细金属掩膜下垂等问题。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明一个实施例的结构示意图。
图中，1、原材料容器，2、加热器，3、蒸镀材料，4、多孔部件，5、精细金属掩膜，6、衬底。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明的保护范围。
图1示出了本发明一个较佳的实施例的结构示意图，图中的一种蒸镀装置，包括蒸镀室和安装在蒸镀室内的蒸镀源，衬底6如玻璃基板)放置在蒸镀源下方，在衬底6上可以放置精细金属掩膜5，通常二者的距离小于1mm，所述蒸镀源由原材料容器1、加热器2和多孔部件4构成，原材料容器1内盛装蒸镀材料3，加热器2安装在原材料容器1的中部，在容器下部的部分区域安装有多孔部件4，一般来说，多孔部件4的孔隙大小为0.5-500um。
加热器2通过给原材料加热，将原材料源源不断的通过多孔部件4蒸发到反应腔中并沉积到衬底6上。
本实施例中，原材料容器1需要能够在原材料熔点以上工作。其可以使用陶瓷，如氧化铝、氮化铝、氮化硼、碳化硅等，也可以使用熔点较高的金属，如钨、钼、高温合金、不锈钢等。多孔部件4的材料一样也为陶瓷或金属，并且多孔部件4可以使用和容器相同的材料，也可以使用不同的材料。
本发明由于在盛放蒸发材料的容器向下的部分设有多孔部件4，多孔部件4既能够防止蒸发材料液体在重力作用下流出，同时蒸发材料的蒸汽还可以通过多孔材料的空洞蒸发到蒸镀腔，最终到达待蒸镀衬底6，使蒸镀图形的质量和精细度大大提高。多孔部件4还可以在蒸发室与蒸发液体之间建立一定的压力差，蒸发速度可以通过调节压力差或者蒸发源的温度来调节。又由于衬底6位于蒸发源的下方，也避免了精细金属掩膜5下垂等问题。整体来看，简化了***设计，降低了成本。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明做任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质，对以上实施例所做出任何简单修改和同等变化，均落入本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种蒸镀装置，包括蒸镀室和安装在蒸镀室内的蒸镀源，衬底(6)放置在蒸镀源下方，其特征是：所述蒸镀源由原材料容器(1)、加热器(2)和多孔部件(4)构成，原材料容器(1)内盛装蒸镀材料(3)，加热器(2)安装在原材料容器(1)的中部，在容器下部的部分区域安装有多孔部件(4)。
2.根据权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述在衬底(6)的上方设置精细金属掩膜(5)。
3.根据权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述多孔部件(4)的孔隙大小为0.5-500um。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述衬底(6)采用玻璃基板。
5.根据权利要求1或2或3所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述原材料容器(1)和多孔材料的材质均为陶瓷或金属。
6.根据权利要求5所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述陶瓷为氧化铝、氮化铝、氮化硼或碳化硅。
7.根据权利要求5所述的一种蒸镀装置，其特征是：所述金属为钨、钼、高温合金或不锈钢。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710605955.3A CN107313014A (zh) | 2017-07-24 | 2017-07-24 | 一种蒸镀装置 |
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| CN201710605955.3A CN107313014A (zh) | 2017-07-24 | 2017-07-24 | 一种蒸镀装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN107313014A true CN107313014A (zh) | 2017-11-03 |
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ID=60178280
Family Applications (1)
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| CN201710605955.3A Pending CN107313014A (zh) | 2017-07-24 | 2017-07-24 | 一种蒸镀装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN107313014A (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6478876B1 (en) * | 1999-05-26 | 2002-11-12 | Masaji Asamoto | Apparatus for coating a body by using ion plating |
| CN106191766A (zh) * | 2014-08-22 | 2016-12-07 | 三星显示有限公司 | 蒸镀装置、薄膜形成方法及有机发光显示装置制造方法 |
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2017
- 2017-07-24 CN CN201710605955.3A patent/CN107313014A/zh active Pending
Patent Citations (2)
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