CN107065288B - 彩膜基板及其制作方法和液晶显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种彩膜基板，包括衬底、黑矩阵以及彩色滤光膜，黑矩阵和彩色滤光膜形成在衬底上，彩色滤光膜对应位于各个子像素区域内，黑矩阵对应位于各个子像素区域的四周边缘，黑矩阵由导电材料制成，黑矩阵用于通过导电胶与阵列基板侧的导电垫导电连接。本发明还提供该彩膜基板的制作方法以及包括该彩膜基板的一种液晶显示面板；通过导电胶将导电材料的黑矩阵和阵列基板侧的公共电极导电连接，不但可以省略掉彩膜基板侧的透明导电层，在不改变效果的同时，减小工艺制程和成本，而且还可以在显示时，使阵列基板侧的像素电极和彩膜基板的黑矩阵之间产生一个垂直的电场，使负性液晶保持在水平状态，防止其出现翘起，可以有效提升液晶的穿透率。

Description

彩膜基板及其制作方法和液晶显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，且特别涉及一种彩膜基板及其制作方法和液晶显示面板。
背景技术
液晶面板包括阵列基板、彩膜基板以及夹设在彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。阵列基板包括栅线、数据线、像素电极和薄膜晶体管，相互垂直的栅线和数据线定义了像素区域，薄膜晶体管和像素电极形成在像素区域内，栅线用于向薄膜晶体管提供开启信号，数据线用于向像素电极提供数据信号，通过控制液晶的偏转程度实现灰度显示。彩膜基板(也称彩色滤光片，Color Filter)包括黑矩阵、彩色滤光膜、平坦层和透明导电层，彩色滤光膜包括红色、蓝色和绿色三色滤光膜，彩膜基板上设置黑矩阵的主要目的是隔离彩色滤光膜，同时遮挡漏光区域的光线。
如图1和2所示，现有技术的彩膜基板是在衬底1a上依次层叠黑矩阵2a、彩色滤光膜3a、透明导电层9a和平坦层4a。透明导电层9a覆盖黑矩阵2a和彩色滤光膜3a并且侧面外露，然后通过点银胶6a把透明导电层9a和阵列基板侧的导电垫5a电连接，导电垫5a可以接通公共电压Vcom，这样在透明导电层9a和阵列基板侧的像素电极之间产生一个垂直的电场，作用到负性液晶上，可以使液晶分子保持在水平的状态，防止其翘曲。但是，现有技术的彩膜基板需要制作一层透明导电层9a，这会增加制作工艺和成本。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种不具有透明导电层而能在彩膜基板和阵列基板之间产生一个垂直的电场，防止液晶分子翘曲的彩膜基板及其制作方法和液晶显示面板。
本发明提供一种彩膜基板，包括衬底、黑矩阵以及彩色滤光膜，黑矩阵和彩色滤光膜形成在衬底上，彩色滤光膜对应位于各个子像素区域内，黑矩阵对应位于各个子像素区域的四周边缘，黑矩阵由导电材料制成，黑矩阵用于通过导电胶与阵列基板侧的导电垫导电连接。
进一步地，黑矩阵为掺杂了导电离子的树脂材料。
进一步地，黑矩阵靠近面板边缘一侧的侧表面外露，外露的侧表面用于通过导电胶与导电垫导电连接。
进一步地，彩膜基板还包括平坦层，平坦层覆盖黑矩阵和彩色滤光膜。
进一步地，平坦层靠近面板边缘一侧的长度小于黑矩阵的长度，黑矩阵未被平坦层覆盖的部分露出，露出部分的黑矩阵用于通过导电胶与导电垫导电连接。
进一步地，彩膜基板还包括上偏光板和靠近液晶层的配向层，上偏光板设置在彩膜基板的上方；彩膜基板由衬底、黑矩阵、彩色滤光膜、平坦层、上偏光板和配向层组成。
进一步地，本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：
提供衬底；
在衬底的一侧表面上制作形成黑矩阵和彩色滤光膜，彩色滤光膜对应位于各个子像素区域内，黑矩阵对应位于各个子像素区域的四周边缘；
在黑矩阵和彩色滤光膜上制作形成平坦层，平坦层覆盖黑矩阵和彩色滤光膜；
其中，黑矩阵由导电材料制成，黑矩阵用于通过导电胶与阵列基板侧的导电垫导电连接。
进一步地，黑矩阵为掺杂了导电离子的树脂材料。
进一步地，本发明还提供一种液晶显示面板，包括彩膜基板、阵列基板和设置在彩膜基板和阵列基板之间的液晶层，阵列基板上设有导电垫，彩膜基板为如上所述的彩膜基板，彩膜基板上的黑矩阵通过导电胶与阵列基板上的导电垫导电连接。
进一步地，导电垫接入阵列基板侧的公共电极的公共电压，液晶层中的液晶为负性液晶。
综上所述，本发明公开的实施例中，采用低阻抗的导电材料制作形成黑矩阵，并通过导电胶将黑矩阵和阵列基板侧的公共电极导电连接，不但可以省略掉彩膜基板侧的透明导电层，在不改变效果的同时，减小工艺制程和成本，而且还可以在显示时，在阵列基板侧的像素电极和彩膜基板的黑矩阵之间产生一个垂直的电场，使负性液晶保持在水平状态，防止其出现翘起，可以有效提升液晶的穿透率。
附图说明
图1为现有技术的液晶显示面板的部分截面结构示意图。
图2为图1中的彩膜基板的部分截面结构示意图。
图3为本发明一实施例中的液晶显示面板的部分截面结构示意图。
图4为图3中的彩膜基板的部分截面结构示意图。
图5为本发明另一实施例中的彩膜基板的部分截面结构示意图。
图6为本发明一实施例的彩膜基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方式及功效，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
图3为本发明一实施例中的液晶显示面板的部分截面结构示意图；图4为图3中的彩膜基板的部分截面结构示意图。
如图3-4所示，本发明的一实施例的彩膜基板11由衬底1、黑矩阵2、彩色滤光膜3、平坦层4、上偏光板7和配向层8组成，黑矩阵2由导电材料制成。
本实施例中，衬底1为玻璃基板；黑矩阵2为掺杂了导电离子的树脂材料，具体地，黑矩阵2的材料为低阻抗的导电材料。
阵列基板12侧设有导电垫5，导电垫5可以和阵列基板12侧的公共电极(图未示)导电连接。换言之，导电垫5可以接通公共电压Vcom，该公共电压信号可以是直流电信号也可以是交流电信号。上偏光板7设置在彩膜基板11的上方；即设置于衬底1的远离黑矩阵2的一侧，配向层8靠近于液晶层(图未示)。
黑矩阵2和彩色滤光膜3形成在衬底1的内侧表面上，彩色滤光膜3对应位于各个子像素区域内。黑矩阵2对应位于各个子像素区域的四周边缘，用于遮光。平坦层4覆盖黑矩阵2和彩色滤光膜3，使彩膜基板11靠近液晶层的一侧表面平整。
黑矩阵2靠近面板边缘一侧的侧表面21外露，外露的侧表面21用于通过导电胶6，例如银胶与导电垫5导电连接。
图5为本发明另一实施例中的彩膜基板的部分截面结构示意图。
如图5所示，本发明的另一实施例的彩膜基板11的平坦层4靠近面板边缘一侧的长度小于黑矩阵2的长度，这样黑矩阵2有一部分未被平坦层4覆盖而露出，该露出部分的黑矩阵2的底面可以通过导电胶6与导电垫5导电连接，增加了导电连接的稳定性和导电效果。
图6为本发明一实施例的彩膜基板的制作方法的流程图。
如图6所示，本发明还提供一种彩膜基板11的制作方法，包括如下步骤：
提供衬底1，其可以为玻璃基板；
在衬底1的一侧表面上制作形成由导电材料例如掺杂了导电离子的树脂材料制成的黑矩阵2和制作形成彩色滤光膜3，彩色滤光膜3对应位于各个子像素区域内，黑矩阵2对应位于各个子像素区域的四周边缘，黑矩阵2和彩色滤光膜3的制作顺序不限，可以是先制作黑矩阵2，再制作彩色滤光膜3，也可以是先制作彩色滤光膜3，再制作黑矩阵2；黑矩阵2采用掺杂了导电离子的树脂材料，可以沿用现有制程来制作黑矩阵2，不会增加工艺难度；
在黑矩阵2和彩色滤光膜3上制作形成平坦层4，平坦层4覆盖黑矩阵2和彩色滤光膜3，其中，黑矩阵2用于通过导电胶6与阵列基板12侧的导电垫5导电连接。
进一步地，该彩膜基板11的制作方法还包括在衬底1的远离黑矩阵2的一侧设置上偏光板7，并在靠近液晶层的一侧设置配向层8。
另外，本发明还提供一种液晶显示面板，包括彩膜基板11、阵列基板12和设置在彩膜基板11和阵列基板12之间的液晶层，阵列基板12上设有导电垫5，彩膜基板11为上述的彩膜基板11，彩膜基板11上的黑矩阵2通过导电胶6与阵列基板12上的导电垫5导电连接。具体地，阵列基板12上的导电垫5可以接入阵列基板12侧的公共电极(图未示)的公共电压Vcom，液晶层中的液晶可以为负性液晶。
由于液晶层中的液晶使用负性液晶，负性液晶的特性是在电场作用下将沿着垂直于电场线的方向旋转。当彩膜基板11与阵列基板12之间存在垂直电场时，该垂直电场作用在负性液晶上，将使负性液晶保持在水平状态，而不发生倾斜方向偏转，防止其翘起。本领域技术人员可以理解，当液晶的倾斜角度增大即翘起时，液晶的穿透率将降低，会对显示造成不利影响。
本实施例中，采用低阻抗的导电材料制作形成黑矩阵2，并通过导电胶6将黑矩阵2和阵列基板12侧的公共电极导电连接，可以在显示时，在彩膜基板11侧的黑矩阵2与阵列基板12侧的像素电极之间产生一个垂直的电场，使负性液晶保持在水平状态，防止其出现翘起，可以有效提升液晶的穿透率，本实施例不但可以省略掉彩膜基板11侧的透明导电层，在不改变效果的同时，减小工艺制程和成本。
以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (9)

1.一种彩膜基板(11)，包括衬底(1)、黑矩阵(2)以及彩色滤光膜(3)，所述黑矩阵(2)和所述彩色滤光膜(3)形成在所述衬底(1)上，所述彩色滤光膜(3)对应位于各个子像素区域内，所述黑矩阵(2)对应位于各个子像素区域的四周边缘；其特征在于，所述黑矩阵(2)由导电材料制成，所述黑矩阵(2)用于通过导电胶(6)与阵列基板(12)侧的导电垫(5)导电连接；
其中，所述导电垫(5)和所述阵列基板(12)侧的公共电极导电连接，所述导电垫(5)接通公共电压，以使所述黑矩阵(2)与所述阵列基板(12)侧的像素电极之间产生一个垂直的电场，并使液晶分子保持在水平状态，所述液晶分子为负性液晶。
2.如权利要求1所述的彩膜基板(11)，其特征在于，所述黑矩阵(2)为掺杂了导电离子的树脂材料。
3.如权利要求1所述的彩膜基板(11)，其特征在于，所述黑矩阵(2)靠近面板边缘一侧的侧表面(21)外露，所述外露的侧表面(21)用于通过所述导电胶(6)与所述导电垫(5)导电连接。
4.如权利要求1所述的彩膜基板(11)，其特征在于，所述彩膜基板(11)还包括平坦层(4)，所述平坦层(4)覆盖所述黑矩阵(2)和所述彩色滤光膜(3)。
5.如权利要求4所述的彩膜基板(11)，其特征在于，所述平坦层(4)靠近面板边缘一侧的长度小于所述黑矩阵(2)的长度，所述黑矩阵(2)未被所述平坦层(4)覆盖的部分露出，所述露出部分的黑矩阵(2)用于通过所述导电胶(6)与所述导电垫(5)导电连接。
6.如权利要求4所述的彩膜基板(11)，其特征在于，所述彩膜基板(11)还包括上偏光板(7)和靠近液晶层的配向层(8)，所述上偏光板(7)设置在所述彩膜基板(11)的上方；所述彩膜基板(11)由所述衬底(1)、所述黑矩阵(2)、所述彩色滤光膜(3)、所述平坦层(4)、所述上偏光板(7)和所述配向层(8)组成。
7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：
提供衬底(1)；
在所述衬底(1)的一侧表面上制作形成黑矩阵(2)和彩色滤光膜(3)，所述彩色滤光膜(3)对应位于各个子像素区域内，所述黑矩阵(2)对应位于各个子像素区域的四周边缘；
在所述黑矩阵(2)和所述彩色滤光膜(3)上制作形成平坦层(4)，所述平坦层(4)覆盖所述黑矩阵(2)和所述彩色滤光膜(3)；
其中，所述黑矩阵(2)由导电材料制成，所述黑矩阵(2)用于通过导电胶(6)与阵列基板(12)侧的导电垫(5)导电连接；
所述导电垫(5)和所述阵列基板(12)侧的公共电极导电连接，所述导电垫(5)接通公共电压，以使所述黑矩阵(2)与所述阵列基板(12)侧的像素电极之间产生一个垂直的电场，并使液晶分子保持在水平状态，所述液晶分子为负性液晶。
8.如权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑矩阵(2)为掺杂了导电离子的树脂材料。
9.一种液晶显示面板，包括彩膜基板(11)、阵列基板(12)和设置在所述彩膜基板(11)和所述阵列基板(12)之间的液晶层，所述阵列基板(12)上设有导电垫(5)；其特征在于，所述彩膜基板(11)为权利要求1至6中任一项所述的彩膜基板(11)，所述彩膜基板(11)上的黑矩阵(2)通过导电胶(6)与所述阵列基板(12)上的导电垫(5)导电连接；
其中，所述导电垫(5)和所述阵列基板(12)侧的公共电极导电连接，所述导电垫(5)接通公共电压，以使所述黑矩阵(2)与所述阵列基板(12)侧的像素电极之间产生一个垂直的电场，并使液晶分子保持在水平状态，所述液晶分子为负性液晶。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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CB02 Change of applicant information

Address after: 215301, 1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu, Suzhou

Applicant after: Kunshan Longteng Au Optronics Co

Address before: 215301, 1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu, Suzhou

Applicant before: Kunshan Longteng Optronics Co., Ltd.

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GR01 Patent grant
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