CN107037921B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示装置，该显示装置包括：第一基底基板，包括多个像素区域；显示元件，设置在像素区域中；第二基底基板，面对第一基底基板；多个间隔物，设置在像素区域之间并配置为保持第一基底基板和第二基底基板之间的间隙；多个触摸电极，提供在第二基底基板中并包括至少一个第一区域和与第一区域电分离的至少一个第二区域；以及光反射图案，设置在第一基底基板上以对应于第二区域。

Description

显示装置
技术领域
技术领域涉及一种显示装置。
背景技术
显示装置可以包括用于接收用户输入的触摸屏(或触摸屏幕)结构。触摸屏结构可以包括用于感测触摸的触摸电极。
在显示装置中，触摸电极和显示元件(例如，阴极)可以变得实质上彼此靠近并因此产生显著的寄生电容。这样的寄生电容会导致触摸感测中的错误。
发明内容
实施方式可以涉及具有最小的不期望的寄生电容的显示装置。
实施方式可以涉及一种显示装置，该显示装置包括以下元件：第一基底基板，包括多个像素区域；显示元件，设置在像素区域中；第二基底基板，面对第一基底基板；多个间隔物，设置在像素区域之间并配置为保持第一基底基板和第二基底基板之间的间隙；多个触摸电极，提供在第二基底基板中并包括至少一个第一区域(或第一触摸电极组)和与第一区域电绝缘的至少一个第二区域(或第二触摸电极组)；以及光反射图案(或光反射结构)，设置在第一基底基板上以对应于第二区域。
在实施方式中，多个间隔物可以设置为对应于第一区域。
在实施方式中，光反射图案可以包括与多个间隔物相同的材料。
在实施方式中，光反射图案可以具有与多个间隔物不同的形状。
在实施方式中，光反射图案可以具有比多个间隔物低的高度。
在实施方式中，光反射图案的至少一部分可以包括弯曲的突起和凹陷的图案。
在实施方式中，光反射图案的至少一部分可以包括朝向多个触摸电极突出的突出部分。
在实施方式中，光反射图案的至少一部分可以包括朝向第一基底基板凹陷的凹陷部分。
在实施方式中，当在平面图中观看时，第二区域可以具有围绕第一区域的形状。
在实施方式中，显示元件可以包括：提供在像素区域中的第一电极；像素限定层，设置在像素区域之间并将第一电极的至少一部分暴露到外部；发射层，设置在所述第一电极上并发射光；以及设置在发射层上的第二电极。
在实施方式中，多个触摸电极可以包括：在一个方向上延伸的第一导电线；以及在与第一导电线交叉的方向上延伸的第二导电线。
在实施方式中，光反射图案可以设置在第二区域中，在第二区域中第一导电线和第二导电线彼此交叉。
在实施方式中，光反射图案可以具有从像素限定层朝向第二基底基板突出的形状。
在实施方式中，光反射图案可以在第二区域中具有从像素限定层朝向第一基底基板凹陷的形状。
在实施方式中，显示元件可以设置在第一导电线和第二导电线彼此交叉的区域中。
根据实施方式，显示装置中的一个或多个间隔物能够在触摸电极和显示元件之间保持足够的间隙。
有利地，可以最小化触摸电极和显示元件之间的不期望的寄生电容。
根据实施方式，光反射结构可以使间隔物能够让用户基本上难以察觉。
附图说明
图1是根据实施方式的显示装置的透视图。
图2是根据实施方式的图1所示的显示装置的显示单元的俯视平面图。
图3是根据实施方式的图1所示的显示装置的触摸单元的俯视平面图。
图4是根据实施方式的与图3所示的触摸电极对应的区域的俯视平面图。
图5是根据实施方式的图4所示的部分A1的俯视平面图。
图6是根据实施方式的沿图5中指示的线I-I'截取的截面图。
图7是根据实施方式的沿图5中指示的线II-II'截取的截面图。
图8是根据实施方式的显示装置的截面图。
图9是根据实施方式的显示装置的截面图。
具体实施方式
实施方式涉及能够显示图像并感测用户的触摸的显示装置。根据当前实施方式的显示装置可以感测由用户的手、手写笔和/或另外的输入机构提供的触摸事件，并可以响应于触摸事件而显示或发送图像信息。
参照附图描述实施方式。尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应被这些术语限制。这些术语可以用于将一个元件与另一个元件区分开。因此，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件，而没有脱离一个或多个实施方式的教导。将一元件描述为“第一”元件可以不要求或暗示第二元件或其它元件的存在。术语“第一”、“第二”等也可以在这里用于区分不同类别或组的元件。为了简洁，术语“第一”、“第二”等可以分别表示“第一类别(或第一组)”、“第二类别(或第二组)”等。在本申请中，“图案”可以表示“结构”或“构件”；“连接”可以表示“电连接”；“绝缘”可以表示“电绝缘”。
图1是根据实施方式的显示装置的透视图，图2是根据实施方式的图1的显示单元的俯视平面图，图3是根据实施方式的图1的触摸单元的俯视平面图。
参照图1至图3，显示装置可以具有各种形状中的一种或多种，例如，具有两对平行边的矩形形状。所述两对边中的一对可以比另一对长。
为了更好的理解和容易的描述，短边的延伸方向被标记为第一方向D1，长边的延伸方向被标记为第二方向D2。
显示装置包括：显示单元100，其中提供用于显示图像的显示元件；和触摸单元200，用于感测触摸。
显示装置包括：其中显示图像的显示区域DA；感测区域SA，用于在发生触摸事件时感测用户的触摸和/或触摸单元200中的压力；以及***区域PA，邻近和/或邻接显示区域DA和/或感测区域SA。感测区域SA可以交叠显示区域DA，并可以与显示区域DA一样大或大于显示区域DA。
显示单元100可以显示视觉信息，例如文本、视频、照片、二维或三维图像等中的一个或多个。在下文，视觉信息被标记为“图像”。显示单元100可以使用用于显示图像的一种或多种技术来实现。
显示单元100包括显示区域DA和***区域PA。显示区域DA可以包括其中提供显示元件的多个像素区域。***区域PA可以是非显示区域(其可以不动态地显示图像)，并可以与显示区域DA相邻地设置。
显示单元100可以包括多条信号线和连接到所述多条信号线的多个薄膜晶体管。每个显示元件可以电连接到薄膜晶体管中的一个。
每个显示元件可以包括连接到薄膜晶体管的第一电极、设置在第一电极上的发射层以及设置在发射层上的第二电极。发射层可以包括光产生层，光通过使经由第一电极和第二电极注入的电子和空穴结合而从光产生层产生光。
触摸单元200可以提供在显示单元100的前侧，即向用户显示图像的一侧，并且还可以与显示单元100一体地提供。在制造期间，触摸单元200可以提供在显示单元100之上。
触摸单元200包括感测区域SA和***区域PA。感测区域SA可以对应于显示单元100的显示区域DA。***区域PA可以与感测区域SA相邻地设置。***区域PA可以对应于显示单元100的***区域PA。
触摸单元200可以包括提供在感测区域SA中的触摸感测单元和提供在***区域PA中的配线部分。
触摸感测单元可以感测经由用户的手或单独的输入机构提供到显示装置的触摸事件。在实施方式中，触摸感测单元可以是其中两个感测电极之间的电容变化被感测的电容式触摸传感器。
触摸感测单元包括提供在感测区域SA中的触摸电极220。在触摸单元200中，触摸电极220设置在面对显示单元100的表面上，并可以经由感测线230连接到焊盘区域PDA。根据实施方式，触摸电极220可以以各种方式布置。
在实施方式中，触摸电极220中的一些可以包括在第一方向D1上彼此电连接且彼此平行的多个感测电极行；触摸电极220中的一些可以包括在方向D2上彼此连接且彼此平行的多个感测电极列。
配线部分将触摸感测单元与驱动电路(未示出)连接，该驱动电路可以驱动触摸单元200。驱动电路可以包括位置检测电路。配线部分可以将感测输入信号从驱动电路传输到多个触摸电极220，和/或可以将感测输出信号从多个触摸电极220传输到驱动电路。配线部分可以包括连接到多个触摸电极220的感测线230。
图4是根据实施方式的与图3所示的触摸电极对应的区域的俯视平面图，图5是根据实施方式的图4所示的部分A1的俯视平面图，图6是根据实施方式的沿线I-I'截取的图5的截面图，图7是根据实施方式的沿线II-II'截取的图5的截面图。
如图3至图7所示，显示装置包括以下元件：显示单元100，其中提供显示元件300；间隔物SP，设置在相邻的显示元件300之间；以及触摸单元200，设置在显示单元100上。触摸单元200包括第二基底基板210和设置在第二基底基板210的面对显示单元100的表面上的触摸电极220(包括221和223)。
显示单元100可以包括显示区域DA和***区域PA。显示区域DA可以包括多个像素区域。***区域PA(其是不动态地显示图像的非显示区域)可以与显示区域DA相邻地设置。在实施方式中，显示单元100可以包括第一基底基板110、设置在第一基底基板110上的像素区域中/附近的一个或多个薄膜晶体管(TFT)、以及显示元件300。
第一基底基板110可以透射光，因为它包括透明绝缘材料。在实施方式中，第一基底基板110可以是刚性基板或柔性基板。刚性基板可以包括玻璃基板、石英基板、玻璃陶瓷基板和结晶玻璃基板中的至少一种。柔性基板可以包括包含聚合物有机材料的塑料基板和膜基板中的至少一种。在显示装置的制造过程中，期望第一基底基板110的材料具有对高处理温度的抵抗力(或高耐热性)。
缓冲层115可以设置在第一基底基板110和薄膜晶体管(TFT)之间。缓冲层115可以包括硅氧化物和硅氮化物中的至少一种。
半导体图案120可以提供在缓冲层115上。半导体图案120由半导体材料形成，并用作薄膜晶体管(TFT)的有源层。半导体图案120可以包括源极区120b、漏极区120c和提供在源极区120b和漏极区120c之间的沟道区120a。可以选择无机半导体或有机半导体来形成半导体图案120。源极区120b和漏极区120c可以掺杂有n型或p型杂质。
层间绝缘层125可以设置在半导体图案120上。层间绝缘层125可以覆盖半导体图案120，并可以使半导体图案120与栅电极130绝缘。层间绝缘层125可以包括硅氧化物和硅氮化物中的至少一种。
栅电极130可以设置在层间绝缘层125上。栅电极130可以包括低电阻导电材料，并可以提供为覆盖对应于半导体图案120的沟道区120a的区域。
栅电极130可以例如由单种金属、多种金属或合金制成。具体地，栅电极130可以由钼(Mo)、钨(W)、铝钕(AlNd)、钛(Ti)、铝(Al)、银(Ag)和合金中的一种或多种制成。栅电极130可以包括形成单层的材料混合物。栅电极130可以具有由至少低电阻材料诸如钼(Mo)、铝(Al)和/或银(Ag)形成的双层结构或多层结构，以减小配线电阻。
栅绝缘层135可以提供在栅电极130上。栅绝缘层135可以包括与层间绝缘层125相同的材料。栅绝缘层135可以使源电极140a和漏电极140b与栅电极130绝缘。
穿过层间绝缘层125和栅绝缘层135的开口(或接触孔)可以暴露半导体图案120的源极区120b和漏极区120c。
源电极140a和漏电极140b可以提供在栅绝缘层135上。源电极140a和漏电极140b可以设置为在栅绝缘层135上彼此分离。
源电极140a和漏电极140b可以由单种金属形成，但是可以由两种或更多种金属或两种或更多种金属的合金形成。在实施方式中，源电极140a和漏电极140b可以形成为单层，该单层由以下中的至少一种制成：钼(Mo)、钨(W)、钼钨(MoW)、铝钕(AlNd)、钛(Ti)、铝(Al)、银(Ag)和合金或材料混合物。在实施方式中，电极140a和140b可以具有由至少低电阻材料诸如钼(Mo)、铝(Al)和/或银(Ag)形成的双层结构或多层结构，以减小配线电阻。
源电极140a的一端可以连接到数据线(未示出)。源电极140a的另一端可以通过开口中的一个接触源极区120b。漏电极140b的一端可以通过开口中的另一个接触漏极区120c。漏电极140b的另一端可以连接到显示元件300中的一个。
在实施方式中，薄膜晶体管(TFT)是具有顶栅结构的薄膜晶体管。在实施方式中，薄膜晶体管(TFT)可以是具有底栅结构的薄膜晶体管。
钝化层145可以提供在其中设置有薄膜晶体管(TFT)的第一基底基板110上。钝化层145覆盖薄膜晶体管(TFT)，并可以包括至少一个层。在实施方式中，钝化层145可以包括能够通过减小下部结构的不均匀性而平坦化表面的有机绝缘材料。丙烯酸树脂、苯并环丁烯(BCB)、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)和酚醛树脂中的一种或多种可以被包括在该有机绝缘材料中。
在钝化层145中，使用光刻工艺和/或不同的工艺形成暴露漏电极140b的一部分的接触孔。
显示元件300可以提供在钝化层145上。显示元件300可以包括连接到漏电极140b的第一电极150、设置在第一电极150上的发射层160以及设置在发射层160上的第二电极170。
第一电极150和第二电极170中的一个可以是阳极，另一个可以是阴极。例如，第一电极150可以是阳极，第二电极170可以是阴极。
在实施方式中，第一电极150和第二电极170中的至少一个可以是透射电极(或透明电极)。在实施方式中，显示元件300是底部发射有机发光二极管，第一电极150可以是透射电极，第二电极170可以是反射电极。在实施方式中，显示元件300是顶部发射有机发光二极管，第一电极150可以是反射电极，第二电极170可以是透射电极。在实施方式中，显示元件300是双发射有机发光二极管，第一电极150和第二电极170的每个可以是透射电极。在实施方式中，显示元件300是顶部发射有机发光二极管，第一电极150是阳极。
在每个像素区域中，第一电极150可以设置在钝化层145上。第一电极150可以包括能够反射光的反射层(未示出)和设置在反射层之上或下面的透明导电层(未示出)。透明导电层和反射层中的至少一个可以连接到漏电极140b。
反射层可以包括能够反射光的材料。例如，反射层可以包括铝(Al)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铂(Pt)、镍(Ni)和合金中的至少一种。
透明导电层可以包括透明导电氧化物。例如，透明导电层可以包括铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO)、镓掺杂的锌氧化物(GZO)、锌锡氧化物(ZTO)、镓锡氧化物(GTO)和氟掺杂的锡氧化物(FTO)中的至少一种。
像素限定层155可以提供在第一电极150上。像素限定层155可以包括暴露第一电极150的开口。在实施方式中，像素限定层155可以交叠第一电极150的边缘部分。像素限定层155的开口可以暴露第一电极150的面对触摸单元200的表面的大部分。
像素限定层155可以包括有机绝缘材料。例如，像素限定层155可以包括聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯腈(PAN)、聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚芳醚(PAE)、杂环聚合物、聚对二甲苯、环氧树脂、苯并环丁烯(BCB)、基于硅氧烷的树脂和基于硅烷的树脂中的至少一种。
间隔物SP和光反射图案400可以(直接)设置在像素限定层155上。
间隔物SP可以从像素限定层155朝向触摸单元200突出，使得显示单元100和触摸单元200之间的间隙被保持。即使外部压力施加到显示单元100或触摸单元200，间隔物SP也可以防止触摸单元200接触显示元件300，使得显示元件300不被损坏。
提供间隔物SP使得显示元件300的显示特性不受外部冲击的显著影响，并可以规则地或随机地设置在显示区域DA中。
光反射图案400(或光反射器400)可以从像素限定层155朝向触摸单元200突出，并可以提供在没有设置间隔物SP的区域中。
间隔物SP和光反射图案400可以每个包括有机绝缘材料。例如，间隔物SP和光反射图案400可以包括与像素限定层155相同的材料。在实施方式中，像素限定层155和间隔物SP可以顺序地或分开地形成，和/或可以是由不同材料制成的单独结构。在实施方式中，像素限定层155和光反射图案400可以顺序地或分开地形成，和/或可以是由不同材料制成的单独结构。
像素限定层155、间隔物SP和光反射图案400可以通过使用半色调掩模的曝光工艺形成。在实施方式中，光反射图案400可以比多个间隔物SP低、薄和/或短。
发射层160可以在第一电极150的由开口暴露的表面上设置在像素限定层155的开口内。发射层160可以具有包括至少光产生层(LGL)的多层薄膜结构。从光产生层产生的光的颜色可以是红色、绿色、蓝色和白色中的一种和/或其它颜色中的一种。
第二电极170可以提供在发射层160上。第二电极170可以延伸到像素限定层155和间隔物SP。第二电极170可以是透反层。在实施方式中，第二电极170可以是薄的金属层，其足够薄以透射光。
第二电极170可以包括具有比透明导电层的功函数低的功函数的材料。例如，第二电极170可以包括钼(Mo)、钨(W)、银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)以及合金中的至少一种。
从发射层160发射的光的一些可以不透射穿过第二电极170，并且从第二电极170反射的光可以从第一电极150的反射层被再次反射。也就是，从发射层160发射的光可以在反射层和第二电极170之间共振。显示元件300的光效率可以通过光的共振提高。
覆盖层175(或绝缘层175)可以提供在第二电极170上。覆盖层175允许第二电极170和触摸单元200之间的间隙被保持。覆盖层175可以包括能够使第二电极170与触摸单元200绝缘的绝缘材料。
触摸单元200可以使显示元件300与外部环境分离。在实施方式中，触摸单元200可以包括：第二基底基板210，包括与第一基底基板110相同的材料；以及触摸电极220，设置在第二基底基板210上。第二基底基板210可以通过密封剂接合到第一基底基板110。
触摸单元200可以包括感测区域SA和与感测区域SA相邻设置的***区域PA。感测区域SA可以对应于显示单元100的显示区域DA。***区域PA可以对应于显示单元100的***区域PA。
触摸电极220可以在感测区域SA中(直接地)设置在基板210的面对显示单元100的表面上。
触摸电极220可以包括至少一个第一区域220a(或第一触摸电极组220a)以及与第一区域220a电绝缘的第二区域220b(或第二触摸电极组220b)。在平面图中，第二区域220b(或第二触摸电极组220b)可以基本上或完全围绕第一区域220a(或第一触摸电极组220a)。也就是，第一区域220a可以具有由第二区域220b围绕的隔离岛形状。
触摸电极220可以包括金属网格。具体地，在实施方式中，触摸电极220可以包括彼此交叉的多个导电线。
多个导电线可以包括在方向D1上延伸的多个第一导电线221和在与方向D1不同(例如垂直)的方向D2上延伸的多个第二导电线223。
形成在第一导电线221和第二导电线223的交叉处/附近的区域可以对应于像素区域。在实施方式中，显示元件300可以设置在第一导电线221和第二导电线223的交叉中/附近。
第一区域220a(或第一触摸电极组220a)中的多个导电线可以与第二区域220b(或第二触摸电极组220b)中的多个导电线电分离。第一区域220a中的第一导电线221可以与第二区域220b中的第一导电线221电分离，并且第一区域220a中的第二导电线223可以与第二区域220b中的第二导电线223电分离。在实施方式中，设置在第一区域220a中的第一导电线221与第二导电线223可以彼此电分离。
在实施方式中，间隔物SP可以仅设置在与第一区域220a(或第一触摸电极组220a)对应的区域中，并且可以不设置在与第二区域220b(或第二触摸电极组220b)对应的区域中。在实施方式中，光反射图案400可以仅设置在与第二区域220b(或第二触摸电极组220b)对应的区域中，并且可以不设置在与第一区域220a(或第一触摸电极组220a)对应的区域中。在实施方式中，间隔物SP可以仅设置在与第一区域220a对应的区域中，并且光反射图案400可以仅设置在与第二区域220b对应的区域中。
由于制造工艺(例如，曝光工艺)，光反射图案400可以比间隔物SP低、薄和/或短。在实施方式中，每个光反射图案400的形状/结构可以不同于每个间隔物SP的形状/结构。
在实施方式中，第二区域220b中的显示元件300和触摸电极220之间的距离可以与第一区域220a中的显示元件300和触摸电极220之间的距离不同。在实施方式中，第二区域220b中的显示元件300和触摸电极220之间的距离可以比第一区域220a中的显示元件300和触摸电极220之间的距离要大光反射图案400和间隔物SP的高度之间的差。根据实施方式，第二区域220b中的显示元件300和触摸电极220之间的距离被足够地保证，并且显示元件300和触摸电极220之间产生的不期望的寄生电容可以被最小化。
如果仅间隔物SP设置在与第一区域220a对应的区域中，并且如果没有光反射图案400设置在与第二区域220b对应的区域中，则当外部光入射在显示单元100上时，光会被间隔物SP反射，使得间隔物SP会显著地被使用者察觉。结果，用户会感觉到不满意的图像质量。
在实施方式中，以与间隔物SP如何反射光类似的方式反射光的光反射图案400可以设置在围绕第一区域220a的第二区域220b中。结果，反射光可以在显示单元100的基本上整个区域上是可见的。有利地，反射光可以被基本上均匀地提供，并且满意的图像质量可以被用户感知。
图8是根据实施方式的显示装置的截面图。
参照图8，显示装置包括显示单元100'(其包括显示元件300')和设置在显示单元100'上的触摸单元200。触摸电极(与图7的电极220类似/相同))设置在触摸单元200的面对显示单元100'的表面上。
显示单元100'可以包括第一基底基板110、设置在第一基底基板110上的像素区域中的至少一个或多个薄膜晶体管(TFT)、以及显示元件300'。
每个显示元件300'可以包括连接到薄膜晶体管(TFT)的第一电极150、设置在第一电极150上的发射层160以及设置在发射层160上的第二电极170'。
像素限定层155'可以提供在第一电极150上。像素限定层155'可以提供有开口，该开口设置在像素区域之间并暴露第一电极150。在实施方式中，像素限定层155'可以包括在与触摸电极220的第一导电线221对应的区域中朝向第一基底基板110凹陷的光反射图案400'。
在实施方式中，光反射图案400'具有从像素限定层155'朝向第一基底基板110凹陷的凹陷部分。在实施方式中，光反射图案400'的凹陷部分可以具有圆形形状(或弯曲形状)，如附图所示。
由于光反射图案400'，触摸单元200的触摸电极220和显示单元100的第二电极170'之间的距离可以增大，使得触摸电极220和第二电极170'之间的间隙被足够地保持。结果，可以最小化触摸电极220和第二电极170'之间的寄生电容。
表1在下面示出根据触摸电极和第二电极之间的间隙的尺寸的触摸电极和第二电极(或显示元件电极)之间的寄生电容的值。
(表1)
Figure BDA0001214749810000111
在表1中，实验组可以表示其中间隔物跨越显示装置的整个区域均匀地设置的结构。图7所示的实施方式可以表示其中间隔物设置在显示装置的特定区域(例如第一区域(图5的220a))中并且具有比间隔物低的高度的光反射图案设置在除了该特定区域之外的区域中的结构。图8所示的实施方式可以表示其中间隔物设置在显示装置的特定区域中并且具有从像素限定层向下的凹陷部分的光反射图案设置在除了该特定区域之外的区域中的结构。
表1示出，随着触摸电极和第二电极之间的间隙增大，相关的寄生电容减小。
表1进一步示出，与不包括光反射图案的实验组相比，包括光反射图案的实施方式在触摸电极和第二电极之间产生较低的寄生电容。
根据实施方式，间隔物仅设置在显示装置的特定区域中，并且光反射图案设置在除了特定区域之外的区域中。因此，在形成光反射图案的区域中，触摸电极和第二电极之间的足够的间隙被加强。有利地，可以最小化寄生电容。
图9是根据实施方式的显示装置的截面图。
参照图9，显示装置包括显示单元100”(其包括显示元件300”)和设置在显示单元100”上的触摸单元200。触摸电极(与图7的电极220类似/相同)设置在触摸单元200的面对显示单元100”的表面上。
显示单元100”可以包括第一基底基板110、设置在第一基底基板110上的像素区域中的一个或多个薄膜晶体管(TFT)、以及显示元件300”。
每个显示元件300”可以包括连接到薄膜晶体管(TFT)的第一电极150、设置在第一电极150上的发射层160以及设置在发射层160上的第二电极170”。
像素限定层155”可以提供在第一电极150上。像素限定层155”可以设置在像素区域之间，并可以包括暴露第一电极150的至少一部分的开口。在实施方式中，像素限定层155”可以包括在与触摸电极220的第一导电线221对应的区域中具有突起和凹陷的至少一个部分。
在实施方式中，突起和凹陷可以形成光反射图案400”。突起(或突出部分)可以从像素限定层155”朝向触摸单元200突出。在实施方式中，凹陷(或凹陷部分)可以从像素限定层155”朝向第一基底基板110凹陷。
光反射图案400”的突出部分和凹陷部分可以使用各种方法中的一种或多种(诸如激光处理、湿法或干法蚀刻、压印工艺等中的一种或多种)形成。在实施方式中，光反射图案400”的突出部分和凹陷部分可以使用半色调掩模工艺形成。
显示装置可以包括与前述间隔物的一些相似或相同的间隔物。因此，可以充分地保持触摸电极220和第二电极170”之间的间隙。因此，可以最小化或防止触摸电极220和第二电极170”之间形成的不期望的寄生电容。
本领域技术人员将理解，可以在这些实施方式中进行改变，而没有脱离由权利要求书限定的范围内的原理和精神。
本申请要求于2016年1月20日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0006914号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用结合于此。

Claims (13)

1.一种显示装置，包括：
第一基底基板，包括多个像素区域；
显示元件，设置在所述像素区域中并包括设置在所述像素区域之间的像素限定层；
第二基底基板，面对所述第一基底基板；
多个间隔物，设置在所述像素区域之间并配置为保持所述第一基底基板和所述第二基底基板之间的间隙；
多个触摸电极，提供在所述第二基底基板中并包括至少一个第一区域和与所述第一区域电分离的至少一个第二区域；和
光反射图案，设置在所述像素限定层上以对应于所述第二区域，
其中，所述多个间隔物设置在所述像素限定层上以对应于所述第一区域，并且
其中，所述光反射图案具有与所述多个间隔物不同的形状。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案包括与所述多个间隔物相同的材料。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案具有比所述多个间隔物低的高度。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案的至少一部分包括垂直地弯曲的突起和凹陷的图案。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案的至少一部分包括朝向所述多个触摸电极突出的突出部分。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案的至少一部分包括朝向所述第一基底基板凹陷的凹陷部分。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中
当在平面图中观看时，所述第二区域具有围绕所述第一区域的形状。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述显示元件包括：
第一电极，提供在所述像素区域中，所述像素限定层将所述第一电极的至少一部分暴露到外部；
发射层，设置在所述第一电极上并发射光；和
第二电极，设置在所述发射层上。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中
所述多个触摸电极包括：
第一导电线，在一个方向上延伸；和
第二导电线，在与所述第一导电线交叉的方向上延伸。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中
所述光反射图案设置在其中所述第一导电线和所述第二导电线彼此交叉的所述第二区域中。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案具有从所述像素限定层朝向所述第二基底基板突出的形状。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中
所述光反射图案在所述第二区域中具有从所述像素限定层朝向所述第一基底基板凹陷的形状。
13.根据权利要求9所述的显示装置，其中
所述显示元件设置在所述第一导电线和所述第二导电线彼此交叉的区域中。
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