CN107012001A - 一种精密电子元件清洗剂及其制备工艺 - Google Patents

一种精密电子元件清洗剂及其制备工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种精密电子元件制备清洗剂，其由以下质量份数的原料制成：十二烷基硫酸钠1‑10份、异己烷20‑50份、无水乙醇10‑40份、环己烷20‑50份和乙二醇单丁醚5‑25份。本发明还公开了所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺。本发明精密电子元件制备清洗剂性能高效，环保安全，为新型无水环保清洗剂，能对电子材料表面的金属离子、有机杂质、无机杂质、固体颗粒及油污渍等进行有效清洗，清洗力强，该清洗剂能反复利用且对环境无污染，清洗后的电子元件不会出现腐蚀现象。通过本发明所提供的制备工艺，能够高效、可靠地生产该精密电子元件制备清洗剂，有利降低企业的生产成本。

Description

一种精密电子元件清洗剂及其制备工艺
技术领域
本发明涉及清洗剂，特别涉及一种精密电子元件制备清洗剂及该精密电子元件制备清洗剂的制备工艺。
背景技术
在电子产品生产、加工、制造和使用过程中，需要对电子产品进行清洗加工，以满足电子产品精度等其他技术要求。如对LED、线路板等电子产品的表面进行清洗，以除去金属离子、有机杂质、无机杂质、固体颗粒或手纹水印等，清洗过程均需要大量的清洗剂。
传统的用于清洗电子产品的清洗剂大多以三氟三氯乙烷、三氯乙烷或氯仿等有机卤素溶剂为主，此类有机溶剂会严重破坏臭氧层，危害环境，随着《中国清洗行业ODS整体淘汰计划》的实施，已逐渐被淘汰。同时大多数有机溶剂清洗剂含有异丙醇、氯仿、白电油等毒害性比较大，气味难闻，并且使用不安全，会影响操作者的身体健康。使得各电子产品的生产加工制造商都青睐于更环保，毒害性小，使用更安全的清洗剂产品。
目前市面上出现一些水基、半水基电子清洗剂，此类清洗剂主要是以水为基质辅以各种表面活性剂和水溶性醇醚等复配而成，该类清洗剂无毒害，无异味，使用安全，生物降解性好，环境污染小，可对电路板、LED屏等电子产品表面的油污、金属离子、有机杂质、无机杂质及固体颗粒等进行清洗。但是该类清洗剂的清洗效力不佳，使用过程中容易产生泡沫，清洗工序繁杂，且清洗后的电子元件容易出现锈蚀现象。
发明内容
本发明的目的在于，针对上述问题，提供了一种精密电子元件制备清洗剂，该精密电子元件制备清洗剂性能高效，环保安全，为新型无水环保清洗剂，能对电子材料表面的金属离子、有机杂质、无机杂质//固体颗粒及油污渍等进行有效清洗，清洗力强，该清洗剂能反复利用且对环境无污染，清洗后的电子元件不会出现腐蚀现象。
本发明的目的在于，还提供了一种所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺。
本发明为实现上述目的所采用的技术方案为：
一种精密电子元件制备清洗剂，其由以下质量份数的原料制成：十二烷基硫酸钠1-10份、异己烷20-50份、无水乙醇10-40份、环己烷20-50份和乙二醇单丁醚5-25份。
所述十二烷基硫酸钠为2份，所述异己烷为45份，所述无水乙醇为20份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为8份。
所述十二烷基硫酸钠为4份，所述异己烷为30份，所述无水乙醇为30份，所述环己烷为40份，所述乙二醇单丁醚为10份。
所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
所述十二烷基硫酸钠为1份，所述异己烷为20份，所述无水乙醇为10份，所述环己烷为20份，所述乙二醇单丁醚为5份。
所述十二烷基硫酸钠为10份，所述异己烷为50份，所述无水乙醇为40份，所述环己烷为50份，所述乙二醇单丁醚为25份。
一种前述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其包括以下步骤：
步骤1：将无水乙醇投入真空乳化釜中，缓慢搅拌，并且升温至40℃；
步骤2：将十二烷基硫酸钠缓慢加入所述真空乳化釜中，并搅拌均匀；
步骤3：将乙二醇单丁醚加入所述真空乳化釜中，搅拌，均质乳化10分钟；
步骤4：将异己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将所述油相反应釜中的异己烷缓慢抽入所述真空乳化釜中，该抽入过程时间控制为25-30分钟；
步骤5：将环己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将油相釜中的环己烷缓慢抽入乳化釜中，该抽入过程时间控制为15-25分钟，抽入完成后均质乳化5分钟；
步骤6：往该真空乳化釜的夹套中注入冷水进行降温，使温度降至28℃以下，停止搅拌，静置4h即完成制备过程。
所述步骤3中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
所述步骤5中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
本发明中所使用的原料以环保有机溶剂为主要原料，添加醇类助溶剂，不含水分子，不含硅元素，清洗效率高，清洗时间短，渗透力强，干燥快，可对电子元件或LED面板等表面进行清洗，有效除去各种金属离子、有机杂质、无机杂质、其他固体颗粒和油渍等。自然干燥，产品清洗后无白点、无水印、不发雾，顺滑，且一擦拭即光洁透亮，清洗剂挥发速度快，不会产生锈蚀。同时该清洗剂气味小，安全无毒副作用，不污染环境。
本清洁剂使用方便，使用于直接浸泡清洗、涂擦清洗和超声波清洗。
本发明的有益效果为：本发明精密电子元件制备清洗剂性能高效，环保安全，为新型无水环保清洗剂，能对电子材料表面的金属离子、有机杂质、无机杂质、固体颗粒及油污渍等进行有效清洗，清洗力强，该清洗剂能反复利用且对环境无污染，清洗后的电子元件不会出现腐蚀现象。通过本发明所提供的制备工艺，能够高效、可靠地生产该精密电子元件制备清洗剂，有利降低企业的生产成本。
具体实施方式
实施例：本发明一种精密电子元件制备清洗剂，其由以下质量份数的原料制成：十二烷基硫酸钠1-10份、异己烷20-50份、无水乙醇10-40份、环己烷20-50份和乙二醇单丁醚5-25份。
所述十二烷基硫酸钠为2份，所述异己烷为45份，所述无水乙醇为20份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为8份。
所述十二烷基硫酸钠为4份，所述异己烷为30份，所述无水乙醇为30份，所述环己烷为40份，所述乙二醇单丁醚为10份。
所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
所述十二烷基硫酸钠为1份，所述异己烷为20份，所述无水乙醇为10份，所述环己烷为20份，所述乙二醇单丁醚为5份。
所述十二烷基硫酸钠为10份，所述异己烷为50份，所述无水乙醇为40份，所述环己烷为50份，所述乙二醇单丁醚为25份。
一种前述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其包括以下步骤：
步骤1：将无水乙醇投入真空乳化釜中，缓慢搅拌，并且升温至40℃；
步骤2：将十二烷基硫酸钠缓慢加入所述真空乳化釜中，并搅拌均匀；
步骤3：将乙二醇单丁醚加入所述真空乳化釜中，搅拌，均质乳化10分钟；
步骤4：将异己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将所述油相反应釜中的异己烷缓慢抽入所述真空乳化釜中，该抽入过程时间控制为25-30分钟；
步骤5：将环己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将油相釜中的环己烷缓慢抽入乳化釜中，该抽入过程时间控制为15-25分钟，抽入完成后均质乳化5分钟；
步骤6：往该真空乳化釜的夹套中注入冷水进行降温，使温度降至28℃以下，停止搅拌，静置4h即完成制备过程。
所述步骤3中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
所述步骤5中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
本发明精密电子元件制备清洗剂性能高效，环保安全，为新型无水环保清洗剂，能对电子材料表面的金属离子、有机杂质、无机杂质、固体颗粒及油污渍等进行有效清洗，清洗力强，该清洗剂能反复利用且对环境无污染，清洗后的电子元件不会出现腐蚀现象。通过本发明所提供的制备工艺，能够高效、可靠地生产该精密电子元件制备清洗剂，有利降低企业的生产成本。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。

Claims (10)

1.一种精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，其由以下质量份数的原料制成：十二烷基硫酸钠1-10份、异己烷20-50份、无水乙醇10-40份、环己烷20-50份和乙二醇单丁醚5-25份。
2.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为2份，所述异己烷为45份，所述无水乙醇为20份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为8份。
3.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为4份，所述异己烷为30份，所述无水乙醇为30份，所述环己烷为40份，所述乙二醇单丁醚为10份。
4.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
5.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。
6.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为1份，所述异己烷为20份，所述无水乙醇为10份，所述环己烷为20份，所述乙二醇单丁醚为5份。
7.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为10份，所述异己烷为50份，所述无水乙醇为40份，所述环己烷为50份，所述乙二醇单丁醚为25份。
8.一种权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，其包括以下步骤：
步骤1：将无水乙醇投入真空乳化釜中，缓慢搅拌，并且升温至40℃；
步骤2：将十二烷基硫酸钠缓慢加入所述真空乳化釜中，并搅拌均匀；
步骤3：将乙二醇单丁醚加入所述真空乳化釜中，搅拌，均质乳化10分钟；
步骤4：将异己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将所述油相反应釜中的异己烷缓慢抽入所述真空乳化釜中，该抽入过程时间控制为25-30分钟；
步骤5：将环己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将油相釜中的环己烷缓慢抽入乳化釜中，该抽入过程时间控制为15-25分钟，抽入完成后均质乳化5分钟；
步骤6：往该真空乳化釜的夹套中注入冷水进行降温，使温度降至28℃以下，停止搅拌，静置4h即完成制备过程。
9.根据权利要求8所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，所述步骤3中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
10.根据权利要求8所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，所述步骤5中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。
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