CN106997883A - 阵列基板及显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种阵列基板及显示面板。该阵列基板包括：基板；设置于基板上的第一无机层；设置于第一无机层上的多个薄膜晶体管；其中，薄膜晶体管包括层叠设置的第二无机层和第三无机层；在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板的一侧、第二无机层背离第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽。本发明提供的阵列基板及显示面板可以减少弯折时显示面板受到的应力。
Description
技术领域
本发明实施例涉及阵列基板制作技术，尤其涉及一种阵列基板及显示面板。
背景技术
有机发光显示(Organic light Emitting Display),由于其具有不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广以及反应速度快等技术优点，具有广阔的应用前景。其中，柔性有机发光显示面板已经成为显示行业发展的重点方向之一。
现有的柔性有机发光显示面板中布设有用于驱动发光单元发光的像素电路。像素电路中包括多个薄膜晶体管。在薄膜晶体管之间往往会出现层叠设置的多层无机层。在弯折时，由于层叠设置的相邻两层无机层之间的结合力很大，沿无机层延伸方向应力积累严重，这会使得显示面板在弯折过程中损坏。
发明内容
本发明提供一种阵列基板及显示面板，以实现减少弯折时显示面板受到的应力的目的。
第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，该阵列基板包括：
基板；
设置于所述基板上的第一无机层；
设置于所述第一无机层上的多个薄膜晶体管；
其中，所述薄膜晶体管包括层叠设置的第二无机层和第三无机层；在相邻两个所述薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿所述第一无机层和所述第二无机层的第一凹槽；在所述薄膜晶体管与所述第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿所述第三无机层的第二凹槽；在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第一无机层背离所述基板的一侧、所述第二无机层背离所述第一无机层的一侧或所述基板上设置所述薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，所述第三无机层覆盖所述第一有机层和所述第一凹槽。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本发明实施例提供的任意一种阵列基板。
本发明实施例通过在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第一无机层背离所述基板的一侧、所述第二无机层背离所述第一无机层的一侧或所述基板上设置有第一有机层，所述第三无机层覆盖所述第一有机层和所述第一凹槽，解决了现有的显示面板在弯折时显示面板中层叠设置的相邻两层无机层之间的结合力过大，弯折时沿无机层延伸方向应力积累严重，易损坏显示面板的问题，实现了减少弯折时显示面板受到的应力的目的。
附图说明
图1a为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图1b为制作图1a中阵列基板的过程中未制作第一有机层和第三无机层时阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图5a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图5b为制作图5a中阵列基板的过程中形成第一有机层后，未形成第三无机层时，阵列基板的结构示意图；
图6a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图6b为制作图6a中阵列基板的过程中形成第一有机层前阵列基板的结构示意图；
图7a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图7b为制作图7a中阵列基板的过程中形成第一有机层前阵列基板的结构示意图；
图8a为本发明实施例提供了又一个阵列基板的结构示意图；
图8b为制作图8a中阵列基板的过程中未制作第一有机层和第三无机层时阵列基板的结构示意图；
图9为本发明实施例提供了又一个阵列基板的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图12a为本发明实施例提供的阵列基板上像素单元的局部区域的结构示意图；图12b为沿图12a中B1-B2的剖面结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图14为本发明实施例提供的一种阵列基板制作方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
本发明实施例提供了一种阵列基板。该阵列基板包括：基板；设置于基板上的第一无机层；设置于第一无机层上的多个薄膜晶体管；其中，薄膜晶体管包括层叠设置的第二无机层和第三无机层；在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板一侧、第二无机层背离所述第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽。
本发明实施例通过在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板的一侧、第二无机层背离第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽，解决了现有的显示面板在弯折时显示面板中层叠设置的相邻两层无机层之间的结合力过大，弯折时沿无机层延伸方向应力积累严重，易损坏显示面板的问题，实现了减少弯折时显示面板受到的应力的目的。
图1a为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，图1b为制作图1a中阵列基板的过程中未制作第一有机层和第三无机层时的结构示意图。参见图1a和图1b，该阵列基板包括：基板10；设置于基板10上的第一无机层11；设置于第一无机层11上的多个薄膜晶体管20(图1a中示例性地包括两个薄膜晶体管20)；其中，薄膜晶体管20包括层叠设置的第二无机层12和第三无机层13；在相邻两个薄膜晶体管20之间，设置有至少一个贯穿第一无机层11和第二无机层12的第一凹槽14(图1b中示例性地仅设置了一个第一凹槽14)；在薄膜晶体管20与第一凹槽14之间，设置有至少一个贯穿第三无机层13的第二凹槽15(图1a中示例性地仅设置了一个第二凹槽15)；在薄膜晶体管20同一侧的第一凹槽14和第二凹槽15之间，第二无机层12背离第一无机层11的一侧设置有第一有机层16，第三无机层13覆盖第一有机层16和第一凹槽14。
上述技术方案中，通过在第一无机层11和第二无机层12上设置第一凹槽14，可以达到在弯折时，削弱应力在第一无机层11(或第二无机层12)延伸方向上的积累效应，提高显示面板的可弯折性的目的。类似地，通过在第三无机层13上设置第二凹槽15，可以达到在弯折时，削弱应力在第三无机层13延伸方向上的积累效应，提高显示面板的可弯折性的目的，另外，第一凹槽14和第二凹槽15还可以阻挡裂纹扩展，防止阵列基板失效。
继续参见图1a，在薄膜晶体管20同一侧的第一凹槽14和第二凹槽15之间的第二无机层12背离第一无机层11的一侧设置有第一有机层16，第三无机层13覆盖第一有机层16和第一凹槽14。这样设置的实质是将第一有机层16设置于第三无机层13和第二无机层12之间，以减小第三无机层13和第二无机层12直接接触的接触面积，进一步削弱弯折时在第三无机层13和第二无机层12 上的应力积累效应，提高显示面板的可弯折性。
在具体设置时，可选地，如图1a所示，第二无机层12背离第一无机层11的一侧设置有第一有机层16，第三无机层13覆盖第一有机层16背离基板10的表面以及四周边缘，且第一有机层16在基板10的垂直投影位于第三无机层13在基板10的垂直投影范围内。由于有机发光显示面板易被空气中的水蒸汽和氧气腐蚀，致使显示面板的显示效果变差。与有机材料相比，无机材料对水蒸汽和氧气的阻隔能力强的多。这样设置可以使得，在第一有机层16的四周边缘处，第三无机层13与第二无机层12之间存在直接接触部分，而又第二无机层12和第一无机层11之间存在直接接触部分，即围绕该第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部区域直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A(图1a中加粗虚线表示阻隔层的等效位置)。该阻隔层A可以很好地阻隔空气中的水蒸汽和氧气从基板10一侧进入到显示面板中，避免显示面板中的元器件被腐蚀的不良现象出现。
图1b中，在相邻两个薄膜晶体管20之间，第一凹槽14在第一无机层11上的宽度n和在第二无机层12上的宽度m尺寸相同，即第一凹槽14在第一无机层11上的侧壁与第一凹槽14在第二无机层12上的侧壁平齐。这仅是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制。在实际设置时，可选地，如图2所示，设置第一凹槽14在第一无机层11上的宽度n大于在第二无机层12上的宽度m，即第一无机层11在基板10上的投影位于第二无机层12在基板10上的投影内；或者如图3所示，设置第一凹槽14在第二无机层12上的宽度m大于在第一无机层11上的宽度n，即第二无机层12在基板10上的投影位于第一无机层11在基板10上的投影内。由于实际制作过程中，仪器精度以及掩膜版对位情况等因素的限制，可能出现阵列基板上某一个或几个膜层或第一凹槽14的实际设置位置与其预先计划设置位置存在一定程度的偏差。此时可以通过调整第一凹槽14在第二无机层12上的宽度m和第一凹槽14在第一无机层11上的宽度n，使得第一凹槽14远离阵列基板上的金属层，以防因为第一凹槽14距离金属层过近，造成断路或短路，影响阵列基板的产品良率和性能。
进一步地，第一凹槽14在第一无机层11上的侧壁与基板10的夹角α以及第一凹槽14在第二无机层12上的侧壁与基板10的夹角β可以为大于0°，且小于180°的任意角度。并且，第一凹槽14在第一无机层11上的侧壁与基板10的夹角α与第一凹槽14在第二无机层12上的侧壁与基板10的夹角β可以相等，也可以不相等。示例性地，图4中，第一凹槽14在第一无机层11上的侧壁的与基板10的夹角α大于90°，第一凹槽14在第二无机层12上的侧壁与基板10的夹角β为90°。类似地，由于实际制作过程中，仪器精度以及掩膜版对位情况等因素的限制，可能出现阵列基板上某一个或几个膜层或第一凹槽14的实际设置位置与其预先计划设置位置存在一定程度的偏差。此时可以通过调整第一凹槽在第一无机层11上的侧壁与基板10的夹角α以及第一凹槽14在第二无机层12上的侧壁与基板10的夹角β，使得第一凹槽14远离阵列基板上的金属层，以防因为第一凹槽14距离金属层过近，造成断路或短路，影响阵列基板的产品良率和性能。
在上述技术方案中，第一有机层16填充第一凹槽14这仅是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制，具体地，可以利用无机材料填充第一凹槽14，如利用第三无机层13填充第一凹槽14。
图5a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图，图5b为制作图5a中阵列基板的过程中形成第一有机层后，未形成第三无机层时，阵列基板的结构示意图。与上述技术方案中提供的阵列基板相比，图5a和图5b中提供的阵列基板在第一有机层上设置有第一孔洞，第三无机层通过第一孔洞与第二无机层形成阻隔层。具体地，参见图5a和图5b，在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一有机层16设置在第二无机层12背离基板10的一侧，且第一有机层16设置有至少一个第一孔洞161，第三无机层13覆盖第一有机层16，并填充第一孔洞161，且第三无机层13通过第一孔洞161与第二无机层12接触。参见图5b，第一孔洞161设置于第一凹槽14相对的两侧，这仅是本发明的一个具体示例而非对本发明的限制。在具体设置时，还可以将第一孔洞161设置于第一凹槽14的任一侧。
同样地，参见图5a，这样设置可以使得，第三无机层13通过第一孔洞161与第二无机层12直接接触，而又第二无机层12和第一无机层11存在直接接触部分，即围绕该第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A。该阻隔层A可以很好地阻隔空气中的水蒸汽和氧气从基板10一侧进入到显示面板中，避免显示面板中的元器件被腐蚀的不良现象产生。
类似地，可以选用第一有机层16填充第一凹槽14，还可以利用无机材料填充第一凹槽14，如利用第三无机层13填充第一凹槽14。
可选地，第一孔洞161的宽度d小于或等于5μm。这样设置的好处是，由于第一孔洞161的宽度d很小，第三无机层13通过第一孔洞161与第二无机层12直接接触的接触面积较小，使得层叠设置的第三无机层13和第二无机层12之间的结合力小，可以达到削弱弯折时在第三无机层13和第二无机层12上的应力积累效应的目的。另外，通过设置第一孔洞161，可以使得第三无机层13与第二无机层12直接接触，进而与第一无机层11共同构成阻隔层A，以阻隔空气中的水蒸汽和氧气从基板10一侧进入到显示面板中，避免显示面板中的元器件被腐蚀的不良现象产生。进一步地，考虑到现有的制作工艺情况，可选地，第一孔洞161的宽度d可以大于或等于3μm，且小于或等于5μm。
图6a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。图6b为制作图6a中阵列基板的过程中形成第一有机层前阵列基板的结构示意图。与上述技术方案中提供的阵列基板相比，图6a和图6b中提供的阵列基板中第一有机层的设置位置不同。具体地，参见图6a和图6b，在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层11背离基板10的一侧设置有第一有机层16；第二无机层12上设置有至少一个贯穿第二无机层12的第二孔洞121，第一有机层16填充第二孔洞121，第三无机层13覆盖第一有机层16以及第二孔洞121周围的第二无机层12。类似地，参见图6b，第二孔洞121设置于第一凹槽14相对的两侧，这仅是本发明的一个具体示例而非对本发明的限制。在具体设置时，还可以将第二孔洞121设置于第一凹槽14的任一侧。
继续参见图6a和图6b，第二孔洞121包括位于第二无机层12的侧壁以及位于第一无机层11的底面，第三无机层13与相邻两个第二孔洞121之间的第二无机层12以及第二孔洞121与第一凹槽14之间的第二无机层12直接接触，在第一凹槽14周围，第二无机层12与第一无机层11直接接触，即围绕该第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A。该阻隔层A可以很好地阻隔空气中的水蒸汽和氧气从基板10一侧进入到显示面板中，避免显示面板中的元器件被腐蚀的不良现象产生。
类似地，可以选用第一有机层16填充第一凹槽14，还可以利用无机材料填充第一凹槽14，如利用第三无机13填充第一凹槽14。
图7a为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。图7b为制作图7a中阵列基板的过程中形成第一有机层前阵列基板的结构示意图。与图6a和图6b中提供的阵列基板相比，贯穿第二无机层的第二孔洞还贯穿第一无机层。参见图7a和图7b，在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，基板10上设置有第一有机层16，第一有机层16与薄膜晶体管20位于基板10的同一侧；第二无机层12和第一无机层11上设置有至少一个贯穿第二无机层12和第一无机层11的第二孔洞121，第一有机层16填充第二孔洞121，第三无机层13覆盖第一有机层16以及第二孔洞161周围的第二无机层12。
这样设置可以使得，第二孔洞121包括位于第一无机层11的侧壁、位于第二无机层12的侧壁，以及位于基板10上的底面。第三无机层13与相邻两个第二孔洞121之间的第二无机层12以及第二孔洞121与第一凹槽14之间的第二无机层12直接接触。在第一凹槽14周围，第二无机层12与第一无机层11直接接触。即围绕该第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A。该阻隔层A可以很好地阻隔空气中的水蒸汽和氧气从基板10一侧进入到显示面板中，避免显示面板中的元器件被腐蚀的不良现象产生。
类似地，可以选用第一有机层16填充第一凹槽14，还可以利用无机材料填充第一凹槽14，如利用第三无机13填充第一凹槽14。
图8a为本发明实施例提供了又一个阵列基板的结构示意图。图8b为制作图8a中阵列基板的过程中未制作第一有机层和第三无机层时的结构示意图。与上述技术方案相比，图8a和图8b中提供的阵列基板在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少两个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽(图8a和图8b中示例性地包括两个第一凹槽14)。具体地，参见图8a和图8b，围绕每一个第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A，阻隔层A与第一凹槽14一一对应。或者，如图9，围绕所有的第一凹槽14，第一无机层11、第二无机层12和第三无机层13通过局部直接接触的方式形成一个由无机材料构成的阻隔层A。
在上述技术方案中，第一有机层16的材料可以为任意有机材料，可选地，第一有机层16的材料为聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚酰亚胺中的至少一种。
进一步地，参见图10考虑到实际设计时，若薄膜晶体管20背离第一凹槽14的一侧至紧邻第二凹槽15的第一凹槽14边缘的距离D过大，纵然在阵列基板上设置了第一凹槽14和第二凹槽15，阵列基板上第一无机层11和第二无机层12之间直接接触面积过大，仍然不利于削弱弯折时在第一无机层11和第二无机层12上的应力积累效应。为此，可选地，设置薄膜晶体管20背离第一凹槽14的一侧至紧邻第二凹槽15的第一凹槽14边缘的距离D小于或等于包括该阵列基板的柔性显示装置的厚度的10倍。这样设置可以有效削弱弯折时在第一无机层11和第二无机层12上的应力积累效应，提高阵列基板的挠曲性。
继续参见图10，该薄膜晶体管20为顶栅结构。该顶栅结构薄膜晶体管20包括：设置在第一无机层11上的有源层21，有源层包括源区22和漏区23；设置在有源层21上的第二无机层12；设置在第二无机层12上的栅极层24；设置在栅极层24和第二无机层12上的第三无机层13，第三无机层13上设置有贯穿第三无机层13和第二无机层12的第三孔洞25和第四孔洞26，第三孔洞25露出源区22，第四孔洞26露出漏区23；设置在第三无机层13上的源极27和漏极28，源极27通过第三孔洞25与源区22连接，漏极28通过第四孔洞26与漏区23连接。这仅是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制。在实际制作时，该薄膜晶体管20还可以为底栅结构。
图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。参见图11，该阵列基板中薄膜晶体管20为底栅结构，该薄膜晶体管20包括：设置在第一无机层11的上的栅极层24；设置在栅极层24上的第二无机层12；设置在第二无机层12上的有源层21，有源层21包括源区22和漏区23；设置在有源层21上的第三无机层13，第三无机层13上设置有贯穿第三无机层13的第三孔洞25和第四孔洞26，第三孔洞25露出源区22，第四孔洞26露出漏区23；设置在第三无机层13上的源极27和漏极28，源极27通过第三孔洞25与源区22连接，漏极28通过第四孔洞26与漏区23连接。
在上述各技术方案中，第一凹槽14和/或第二凹槽15的形状可以为任意形状，如条状或折线状等。
另外，在上述各技术方案中，设置第一凹槽14和第二凹槽15的延伸方向与薄膜晶体管20中源极27和漏极28的连线的延伸方向垂直，这仅是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制。在实际设置时，第一凹槽14和第二凹槽15的延伸方向与薄膜晶体管20中源极27和漏极28的连线的延伸方向可以呈任意角度。
进一步地，考虑到阵列基板还包括沿第一方向延伸的扫描线，以及沿第二方向延伸的数据线，条状的第一凹槽和/或第二凹槽可以与扫描线或数据线的延伸方向相同；第一方向与第二方向交叉。图12a为本发明实施例提供的阵列基板上像素单元的局部区域的结构示意图，图12b为沿图12a中B1-B2的剖面结构示意图。示例性地，如图12a和图12b，阵列基板包括沿第一方向(图12a中X轴方向)延伸的扫描线31，以及沿第二方向(图12a中Y轴方向)延伸的数据线32，以及薄膜晶体管20(图12a中仅示出了一个薄膜晶体管20)。薄膜晶体管20包括栅极24以及有源层21。在薄膜晶体管20的一侧设置有条状第一凹槽14和第二凹槽15，第一凹槽14和第二凹槽15沿第二方向(图12a中Y轴方向)延伸。这样有利于在阵列基板上形成较大尺寸的第一凹槽和第二凹槽，有利于降低工艺制作的难度。
需要说明的是，在设计时，第一凹槽14和第二凹槽15的延伸长度可以相同可以不同，具体可以根据像素电路的实际布设情况而定。如图12a中，第一凹槽14和第二凹槽15在第二方向(图12a中Y轴方向)上的延伸长度不同。
本发明实施例还提供了一种显示面板。图13为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，参见图13，该显示面板101包括本发明实施例提供的任意一种阵列基板201。该显示面板101可以为液晶显示面板或者有机发光显示面板。该显示面板101具体可以为手机、笔记本电脑，智能可穿戴设备以及公共大厅的信息查询机等。
本发明实施例提供的显示面板中的阵列基板通过在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板的一侧、第二无机层背离第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽，解决了现有的显示面板在弯折时显示面板中层叠设置的相邻两层无机层之间的结合力过大，弯折时沿无机层延伸方向应力积累严重，易损坏显示面板的问题，实现了减少弯折时显示面板受到的应力的目的。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法。图14为本发明实施例提供的一种阵列基板制作方法的流程图。参见图14，该阵列基板的制作方法包括：
S110、提供衬底基板；
S120、在衬底基板上形成第一无机层。
S130、在第一无机层上形成多个薄膜晶体管。
其中，薄膜晶体管包括层叠设置的第二无机层和第三无机层；在形成薄膜晶体管的同时，还包括：在相邻两个薄膜晶体管之间，设置至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板的一侧、第二无机层背离第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽。
本发明实施例提供的显示面板中，阵列基板通过在相邻两个薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿第一无机层和第二无机层的第一凹槽；在薄膜晶体管与第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿第三无机层的第二凹槽；在薄膜晶体管同一侧的第一凹槽和第二凹槽之间，第一无机层背离基板的一侧、第二无机层背离第一无机层的一侧或基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置有第一有机层，第三无机层覆盖第一有机层和第一凹槽，解决了现有的显示面板在弯折时显示面板中层叠设置的相邻两层无机层之间的结合力过大，弯折时沿无机层延伸方向应力积累严重，易损坏显示面板的问题，实现了减少弯折时显示面板受到的应力的目的。
本步骤中，所形成的薄膜晶体管可以为顶栅结构薄膜晶体管，也可以为底栅结构薄膜晶体管。
若形成顶栅结构薄膜晶体管，本步骤在具体执行时可以包括：在第一无机层上形成有源层，有源层包括源区和漏区；在有源层上形成第二无机层；在第二无机层上形成栅极层；在栅极层和第二无机层上形成第三无机层，第三无机层上设置有贯穿第三无机层和第二无机层的第三孔洞和第四孔洞，第三孔洞将源区暴露和第四孔洞将漏区暴露；在第三无机层形成源极和漏极，源极通过第三孔洞与源区连接，漏极通过第四孔洞与漏区连接。
若形成底栅结构薄膜晶体管，本步骤在具体执行时可以包括：在第一无机层上形成栅极层；在栅极层上形成第二无机层；在第二无机层上形成有源层，有源层包括源区和漏区；在有源层上形成第三无机层，第三无机层上设置有贯穿第三无机层和第二无机层的第三孔洞和第四孔洞，第三孔洞将源区暴露和第四孔洞将漏区暴露；在第三无机层形成源极和漏极，源极通过第三孔洞与源区连接，漏极通过第四孔洞与漏区连接。
在上述技术方案的基础上，在第一无机层上形成多个薄膜晶体管的过程中，在形成第二无机层之后，可选地，在第一凹槽周围，第二无机层背离第一无机层的一侧形成第一有机层；在第一有机层上形成第三无机层，第三无机层覆盖第一有机层背离基板的表面以及四周边缘，以使第一有机层在基板的垂直投影位于第三无机层在基板的垂直投影范围内。
或者，可选地，在第一无机层上形成多个薄膜晶体管的过程中，在形成第二无机层之后，在第一凹槽周围，第二无机层背离第一无机层的一侧形成第一有机层，在第一有机层设置至少一个第一孔洞；在第一有机层上形成第三无机层，第三无机层覆盖第一有机层，并填充第一孔洞，且第三无机层通过第一孔洞与第二无机层接触。
或者，可选地，在第一无机层上形成多个薄膜晶体管的过程中，在形成第二无机层之后，在第二无机层上形成贯穿第二无机层的第二孔洞；在第一无机层背离基板的一侧形成第一有机层，第一有机层填充第二孔洞；在第二无机层背离第一无机层的一侧形成第三无机层，第三无机层覆盖第一有机层以及第二孔洞周围的第二无机层。
或者，可选地，在第一无机层上形成多个薄膜晶体管的过程中，在形成第二无机层之后，第二无机层和第一无机层上设置贯穿第二无机层和第一无机层的第二孔洞；在基板上设置薄膜晶体管的同一侧设置第一有机层，第一有机层填充第二孔洞；在第二无机层背离第一无机层的一侧形成第三无机层，第三无机层覆盖第一有机层以及第二孔洞周围的第二无机层。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (16)
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板；
设置于所述基板上的第一无机层；
设置于所述第一无机层上的多个薄膜晶体管；
其中，所述薄膜晶体管包括层叠设置的第二无机层和第三无机层；在相邻两个所述薄膜晶体管之间，设置有至少一个贯穿所述第一无机层和所述第二无机层的第一凹槽；在所述薄膜晶体管与所述第一凹槽之间，设置有至少一个贯穿所述第三无机层的第二凹槽；在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第一无机层背离所述基板的一侧、所述第二无机层背离所述第一无机层的一侧或所述基板上设置有第一有机层，所述第三无机层覆盖所述第一有机层和所述第一凹槽。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第二无机层背离所述第一无机层的一侧设置有所述第一有机层；
所述第三无机层覆盖所述第一有机层背离所述基板的表面以及四周边缘，且所述第一有机层在所述基板的垂直投影位于所述第三无机层在所述基板的垂直投影范围内。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第一有机层设置在所述第二无机层背离所述基板的一侧，且所述第一有机层设置有至少一个第一孔洞，所述第三无机层覆盖所述第一有机层，并填充所述第一孔洞，且所述第三无机层通过所述第一孔洞与所述第二无机层接触。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一孔洞的宽度小于或等于5μm。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述第一无机层背离所述基板的一侧设置有所述第一有机层，且
所述第二无机层上设置有至少一个贯穿所述第二无机层的第二孔洞，所述第一有机层填充所述第二孔洞，所述第三无机层覆盖所述第一有机层以及所述第二孔洞周围的第二无机层。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
在所述薄膜晶体管同一侧的所述第一凹槽和所述第二凹槽之间，所述基板上设置有所述第一有机层，所述第一有机层与所述薄膜晶体管位于所述基板的同一侧，且
所述第二无机层和所述第一无机层上设置有至少一个贯穿所述第二无机层和所述第一无机层的第二孔洞，所述第一有机层填充所述第二孔洞，所述第三无机层覆盖所述第一有机层以及所述第二孔洞周围的第二无机层。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一有机层填充所述第一凹槽。
8.根据权利要求1-6任意一项所述的阵列基板，其特征在于，
在相邻两个所述薄膜晶体管之间，设置有至少两个贯穿所述第一无机层和所述第二无机层的第一凹槽；
围绕每一个所述第一凹槽，所述第一无机层、所述第二无机层以及所述第三无机层直接接触，形成一个由无机材料构成的阻隔层，所述阻隔层与所述第一凹槽一一对应。
9.根据权利要求1-6任意一项所述的阵列基板，其特征在于，
在相邻两个所述薄膜晶体管之间，设置有至少两个贯穿所述第一无机层和所述第二无机层的第一凹槽；
围绕所有的所述第一凹槽，所述第一无机层、所述第二无机层以及所述第三无机层直接接触，形成一个由无机材料构成的阻隔层。
10.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述第一有机层的材料为聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚酰亚胺中的至少一种。
11.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述薄膜晶体管背离所述第一凹槽的一侧至紧邻所述第二凹槽的所述第一凹槽边缘的距离小于或等于包括所述阵列基板的柔性显示装置的厚度的10倍。
12.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述第一凹槽和/或所述第二凹槽的形状为条状。
13.根据权利要求12所述的阵列基板，其特征在于，
所述阵列基板还包括沿第一方向延伸的扫描线，以及沿第二方向延伸的数据线，条状的所述第一凹槽和/或所述第二凹槽与所述扫描线或所述数据线的延伸方向相同；
所述第一方向与所述第二方向交叉。
14.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述薄膜晶体管为顶栅结构，包括：
设置在所述第一无机层上的有源层，所述有源层包括源区和漏区；
设置在所述有源层上的所述第二无机层；
设置在所述第二无机层上的栅极层；
设置在所述栅极层和所述第二无机层上的所述第三无机层，所述第三无机层上设置有贯穿所述第三无机层和所述第二无机层的第三孔洞和第四孔洞，所述第三孔洞露出所述源区，所述第四孔洞露出所述漏区；
设置在所述第三无机层上的源极和漏极，所述源极通过所述第三孔洞与所述源区连接，所述漏极通过所述第四孔洞与所述漏区连接。
15.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述薄膜晶体管为底栅结构，包括：
设置在所述第一无机层的上的栅极层；
设置在所述栅极层上的所述第二无机层；
设置在所述第二无机层上的有源层，所述有源层包括源区和漏区；
设置在所述有源层上的所述第三无机层，所述第三无机层上设置有贯穿所述第三无机层的第三孔洞和第四孔洞，所述第三孔洞露出所述源区，所述第四孔洞露出所述漏区；
设置在所述第三无机层上的源极和漏极，所述源极通过所述第三孔洞与所述源区连接，所述漏极通过所述第四孔洞与所述漏区连接。
16.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-15任一所述的阵列基板。
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| GR01 | Patent grant | ||
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