CN106973481A - 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体*** - Google Patents

一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体*** Download PDF

Info

Publication number
CN106973481A
CN106973481A CN201710141469.0A CN201710141469A CN106973481A CN 106973481 A CN106973481 A CN 106973481A CN 201710141469 A CN201710141469 A CN 201710141469A CN 106973481 A CN106973481 A CN 106973481A
Authority
CN
China
Prior art keywords
guide rail
tubular material
slide block
atmospheric pressure
drum electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710141469.0A
Other languages
English (en)
Inventor
陈光良
尹梦梦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Original Assignee
Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Sci Tech University ZSTU filed Critical Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Priority to CN201710141469.0A priority Critical patent/CN106973481A/zh
Publication of CN106973481A publication Critical patent/CN106973481A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2431—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes using cylindrical electrodes, e.g. rotary drums

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***，高压电源、导轨、安装在导轨两端的两个绝缘支撑架、安装在导轨上的导轨滑块、安装在导轨滑块内部的电机、以及安装在导轨滑块上方的支撑板；所述圆筒状电极水平安装在支撑板顶部，且与高压电源相连；在电机的作用下，圆筒状电极在导轨上做水平运动，对位于其内部的待处理管状材料进行连续、均匀改性，本发明可有效的降低大面积管状材料的处理成本，工序简单，并能有效的提高处理效率。

Description

一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***
技术领域
本发明涉及一种可对管状材料进行在线连续改性的常压介质阻挡等离子体发生***，可用于各种外径管状材料的在线连续改性。
背景技术
近年来，低温等离子体应用于材料处理的技术研究十分活跃，经过该方法处理材料，效率高，没有二次污染。但是，多数低温等离子体是通过稀有气体电离产生的，应用于工业生产时存在两个重要缺陷：一是成本高，价格昂贵；二是能量利用率低。因而，大气压条件下的等离子体对材料表面处理技术因其能克服以上缺点而越来越受到科研工作者的注意。传统的等离子体处理效果存在诸多不足，例如普通介质阻挡放电等离子体***很难实现对不同管状材料的在线连续处理，且处理均匀性差，很难应用于工业生产中。如果能设计一种新型的可对管状材料连续改性的常压等离子体处理***，既能保证处理的高效性、均匀性，实现连续在线处理，又能同时降低能源消耗，减少成本，那么，这将显著提升管材的表面微纳结构和表面能，在管材深加工领域有着广阔的应用前景。
发明内容
针对上述现状，本发明的目的在于提供可对不同管径的管状材料在线连续改性的常压等离子体***。
为达到上述目的，本发明的技术解决方案为：一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***，包括圆筒状电极，所述圆筒状电极由内到外依次由陶瓷层、金属层、聚四氟乙烯层组成。
进一步地，还包括高压电源、导轨、安装在导轨两端的两个绝缘支撑架、安装在导轨上的导轨滑块、安装在导轨滑块内部的电机、以及安装在导轨滑块上方的支撑板；所述圆筒状电极水平安装在支撑板顶部，且与高压电源相连；在电机的作用下，圆筒状电极在导轨上做水平运动，对位于其内部的待处理管状材料进行连续改性。
本发明的优点是：本发明的是采用陶瓷管(石英管介质层)与待处理管状材料组成的一个介质阻挡放电装置，可以通过调节放电功率或马达速度，来实现对管状材料外表面，克服了传统电晕***无法对管材均匀改性的缺陷。此外，在整个***工作的时候，陶瓷管与处理表面中间产生均匀的等离子体，空气被电离后产生了大量的活性粒子，这些活性粒子在高压电场作用下可以对材料进行有效处理。此外，根据工业标准，配有适合不同管径处理的放电套管，且放电套管是可拆卸式，易于更换安装。本发明可以提高等离子体的能量利用率，降低成本，而且能够在线的连续改性处理，为实现工业化运作创造了条件。
附图说明
图1为本发明常压等离子体***的结构示意图；
图2为圆筒状电极的剖视图；
图中，聚四氟乙烯层1、金属层2、陶瓷层3、待处理管状材料4、绝缘支撑架5、导轨6、支撑板7、导轨滑块9。
具体实施方式
如图1所示，一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***，包括圆筒状电极、高压电源、导轨6、安装在导轨两端的两个绝缘支撑架5、安装在导轨6上的导轨滑块9、安装在导轨滑块内部的电机、以及安装在导轨滑块上方的支撑板7；所述圆筒状电极水平安装在支撑板7顶部，且与高压电源相连；所述圆筒状电极由内到外依次由陶瓷层3、金属层2、聚四氟乙烯层1组成。在电机的作用下，圆筒状电极在导轨6上做水平运动，对位于其内部的待处理管状材料4(与地线相连)进行连续改性。
将待处理的冲水马桶用不锈钢抛光管的两端置于绝缘支撑架5上，且位于所述圆筒状电机内，设置高压电源的电压值为6KV-30KV，导轨滑块的移动速度为1-5m/s；这样在电动机的带动下，下方的电源装置可以有效的带动上方的等离子体发生装置沿着待处理的材料的方向移动，并且可以通过调节放电功率或马达速度，来实现对材料的处理的连续性及均匀性。待处理的物体可以是各种管径的管状材料，因此本发明的应用具有很大的广泛性。

Claims (2)

1.一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***，其特征在于，包括圆筒状电极，所述圆筒状电极由内到外依次由陶瓷层(3)、金属层(2)、聚四氟乙烯层(1)组成。
2.根据权利要求1所述的***，其特征在于，还包括高压电源、导轨(6)、安装在导轨(6)两端的两个绝缘支撑架(5)、安装在导轨(6)上的导轨滑块(9)、安装在导轨滑块(9)内部的电机、以及安装在导轨滑块(9)上方的支撑板(7)；所述圆筒状电极水平安装在支撑板(7)顶部，且与高压电源相连；在电机的作用下，圆筒状电极在导轨(6)上做水平运动，对位于其内部的待处理管状材料(4)进行连续改性。
CN201710141469.0A 2017-03-10 2017-03-10 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体*** Pending CN106973481A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710141469.0A CN106973481A (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710141469.0A CN106973481A (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106973481A true CN106973481A (zh) 2017-07-21

Family

ID=59328779

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710141469.0A Pending CN106973481A (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106973481A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1526852A (zh) * 2003-03-04 2004-09-08 中国科学院物理研究所 一种管状工件内表面改性的方法及其专用装置
CN1555340A (zh) * 2001-08-02 2004-12-15 等离子体溶胶公司 使用非热放电等离子体的化学处理
CN104831519A (zh) * 2015-05-21 2015-08-12 嘉兴市产品质量检验检测院 一种连续处理纱线材料的等离子体***
CN204769289U (zh) * 2015-05-28 2015-11-18 深圳市顺安恒科技发展有限公司 一种防污防指纹镀膜设备
CN205399046U (zh) * 2016-03-28 2016-07-27 北京睿昱达科技有限公司 一种基于辉光放电的纤维织物表面处理装置
CN205688261U (zh) * 2016-06-21 2016-11-16 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置
EP3122161A1 (en) * 2015-07-20 2017-01-25 Vysoké ucení technické v Brne Jet system for plasma generation in liquids

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1555340A (zh) * 2001-08-02 2004-12-15 等离子体溶胶公司 使用非热放电等离子体的化学处理
CN1526852A (zh) * 2003-03-04 2004-09-08 中国科学院物理研究所 一种管状工件内表面改性的方法及其专用装置
CN104831519A (zh) * 2015-05-21 2015-08-12 嘉兴市产品质量检验检测院 一种连续处理纱线材料的等离子体***
CN204769289U (zh) * 2015-05-28 2015-11-18 深圳市顺安恒科技发展有限公司 一种防污防指纹镀膜设备
EP3122161A1 (en) * 2015-07-20 2017-01-25 Vysoké ucení technické v Brne Jet system for plasma generation in liquids
CN205399046U (zh) * 2016-03-28 2016-07-27 北京睿昱达科技有限公司 一种基于辉光放电的纤维织物表面处理装置
CN205688261U (zh) * 2016-06-21 2016-11-16 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103841741B (zh) 基于介质阻挡放电的大气压等离子体发生装置
CN102149247B (zh) 多级电离产生低能量高密度等离子体的装置及方法
CN102503177B (zh) 一种用于超光滑表面的等离子体加工装置
CN100358198C (zh) 一种用于实现大气压下空气中均匀辉光放电的方法
CN104941400B (zh) 具有旋转螺旋型电极的放电等离子体汽车尾气处理装置及其处理方法
CN110677971B (zh) 一种热等离子火炬发生器
CN203754483U (zh) 一种坝式dbd等离子体制药工业废水处理装置
CN206553618U (zh) 轴类零件等离子喷涂装置
CN107124812A (zh) 大气压辉光等离子体发生装置及纺织材料处理装置
CN103545165A (zh) 一种基于冷等离子体射流的质谱离子化方法及离子源装置
CN104108053B (zh) 大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法
CN103458601A (zh) 一种等离子体发生装置
CN106973481A (zh) 一种用于管状材料表面连续改性的常压等离子体***
CN100467663C (zh) 细长管筒内表面中空阴极等离子体表面处理装置及方法
CN104847452B (zh) 等离子体与静电吸附耦合的汽车尾气净化器及净化方法
CN104619106B (zh) 一种实现大气压下空气中均匀辉光放电的装置
CN203955007U (zh) 一种低温等离子废气处理管
CN105304451A (zh) 一种应用于质谱仪的电喷雾离子源及质谱分析方法
CN107364932B (zh) 一种基于等离子体射流处理废液的装置
CN205684427U (zh) 一种辉光放电等离子体光伏板清洁装置
CN112087854B (zh) 介质阻挡放电等离子体发生装置
CN206304928U (zh) 一种管状大容积等离子体聚合涂层装置
CN2682772Y (zh) 均匀大面积常压射频冷等离子体发生器
CN202246435U (zh) 一种用于超光滑表面的等离子体加工装置
CN105457784A (zh) 一种全自动化小口径涂塑钢管喷涂生产线

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170721