CN106916290A - 聚合物、补偿膜、光学膜和显示装置 - Google Patents

聚合物、补偿膜、光学膜和显示装置 Download PDF

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Abstract

公开聚合物、补偿膜、光学膜、和显示装置。所述聚合物包括由化学式1表示的第一结构单元，其中化学式1中的L1、R1‑R5和n1与具体实施方式中描述的相同。化学式1

Description

聚合物、补偿膜、光学膜和显示装置
对相关申请的交叉引用
本申请要求2015年12月24日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0186668的优先权、以及由其产生的所有权益，其内容通过参考全部引入本文中。
技术领域
公开聚合物、补偿膜、光学膜、和显示装置。
背景技术
平板显示器可分类为自身发射光的发光显示装置和需要独立的光源的非发射型显示装置，其中采用补偿膜或光学膜以改善其图像品质。在可改善现有的补偿和光学膜的性质的新型聚合物方面仍然存在需要。
发明内容
一个实施方式提供可应用于补偿膜的新型聚合物。
另一实施方式提供包括所述聚合物的补偿膜。
又一实施方式提供包括所述补偿膜的光学膜。
还一实施方式提供包括所述补偿膜的显示装置。
根据一个实施方式，提供聚合物，其包括由化学式1表示的第一结构单元。
化学式1
在化学式1中，
L1为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa，
R1-R5和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述第一结构单元可由化学式1-1表示。
化学式1-1
在化学式1-1中，
R1-R5独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述聚合物可进一步包括由化学式2表示的第二结构单元。
化学式2
在化学式2中，
L2为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，
化学式A
在化学式A中，
L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiRbRc、S、SO2、或其组合，
R6、R7、Rb和Rc独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。
所述第二结构单元可由化学式2-1到2-10之一表示。
在化学式2-1到2-10中，
R6-R12和R14-R19独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，
R13为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。
所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比可为约1:99-约99:1。
所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比可为约1:99-约50:50。
根据另一实施方式，提供补偿膜，其包括具有由化学式1表示的第一结构单元的第一聚合物。
化学式1
在化学式1中，
L1为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa,
R1-R5和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述第一结构单元可由化学式1-1表示。
化学式1-1
在化学式1-1中，
R1-R5独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述第一聚合物可进一步包括由化学式2表示的第二结构单元。
化学式2
在化学式2中，
L2为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，
化学式A
其中，在化学式A中，
L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiRbRc、S、SO2、或其组合，和
R6、R7、Rb和Rc独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。
所述第二结构单元可由化学式2-1到2-10之一表示。
在化学式2-1到2-10中，
R6-R12和R14-R19独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
R13为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。
所述第一聚合物可以约1:99-约99:1的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。
所述第一聚合物可以约1:99-约50:50的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。
所述补偿膜可进一步包括不同于所述第一聚合物的第二聚合物。
所述补偿膜可为单轴或双轴伸长的。
所述补偿膜可被伸长约1.1倍-约5.0倍。
所述补偿膜的在550纳米波长处的面内延迟可为约10纳米-约300纳米。
所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值可满足关系方程1到5之一。
关系方程1
R(450nm)≥R(550nm)>R(650nm)
关系方程2
R(450nm)>R(550nm)≥R(650nm)
关系方程3
R(450nm)＝R(550nm)＝R(650nm)
关系方程4
R(450nm)≤R(550nm)<R(650nm)
关系方程5
R(450nm)<R(550nm)≤R(650nm)
在关系方程1到5中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
所述第一聚合物可以约10:90-约20:80的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元，和所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值可满足关系方程1到3之一。
关系方程1
R(450nm)≥R(550nm)>R(650nm)
关系方程2
R(450nm)>R(550nm)≥R(650nm)
关系方程3
R(450nm)＝R(550nm)＝R(650nm)
在关系方程1到3中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
所述第一聚合物可以约30:70-约40:60的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元，和所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值可满足关系方程4或5。
关系方程4
R(450nm)≤R(550nm)<R(650nm)
关系方程5
R(450nm)<R(550nm)≤R(650nm)
在关系方程4和5中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
根据另一实施方式，光学膜包括所述补偿膜和偏振器。
根据又一实施方式，显示装置包括所述补偿膜或所述光学膜。
附图说明
由结合附图考虑的实施方式的下列描述，这些和/或其它方面将变得明晰和更容易理解，其中：
图1为显示根据一个实施方式的光学膜的示意性横截面图，
图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图，
图3为偏振膜的实例的示意图，
图4为显示根据一个实施方式的有机发光器件的示意性横截面图，和
图5为显示根据一个实施方式的液晶显示器的示意性横截面图。
具体实施方式
本公开内容的示例性实施方式将在下文中被详细地描述，且可通过具有相关领域中的普通技能的人员容易地实施。然而，本公开内容可以许多不同的形式体现，并且不被解释为限于本文中阐述的示例性实施方式。
将理解，当一个元件被称为“在”另外的元件“上”时，其可直接与所述另外的元件接触或者在其间可存在中间元件。相反，当一个元件被称为“直接在”另外的元件“上”时，则不存在中间元件。
将理解，尽管术语第一、第二、第三等可在本文中用于描述各种元件、组分、区域、层、和/或部分，但这些元件、组分、区域、层、和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组分、区域、层或部分区别于另外的元件、组分、区域、层或部分。因此，在不背离本实施方式的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组分、区域、层或部分可称为第二元件、组分、区域、层或部分。
本文中使用的术语仅为了描述具体实施方式的目的且不意图为限制性的。如本文中使用的，单数形式“一个(种)(a，an)”和“所述(该)(the)”也意图包括复数形式，除非上下文清楚地另外指明。
术语“或”意味着“和/或”。将进一步理解，术语“包括”和/或“包含”或者“含有”和/或“含”当用在本说明书中时，表明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、和/或组分，但不排除存在或增加一种或多种另外的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组分、和/或其集合。
除非另外定义，在本文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)的含义与本总的发明构思所属领域的普通技术人员通常理解的相同。将进一步理解，术语，例如在常用字典中定义的那些，应被解释为其含义与它们在相关领域和本公开内容的背景中的含义一致，并且将不以理想化或过度形式的意义进行解释，除非在本文中清楚地如此定义。
在本文中参照作为理想化实施方式的示意图的横截面图描述示例性实施方式。照这样，将预计到作为例如制造技术和/或公差的结果的与图的形状的偏差。因此，本文中描述的实施方式不应解释为限于如本文中所图示的区域的具体形状，而是包括由例如制造所导致的形状方面的偏差。例如，图示或描述为平坦的区域可典型地具有粗糙的和/或非线性的特征。而且，所图示的尖锐的角可为圆形的。因此，图中所图示的区域在本质上是示意性的，并且它们的形状不意图图示区域的精确形状，并且不意图限制本权利要求的范围。
在附图中，为了清楚起见，放大层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。将理解，当一个元件例如层、膜、区域、或基板被称为“在”另外的元件“上”时，其可直接在所述另外的元件上或者还可存在中间元件。相反，当一个元件被称为“直接在”另外的元件“上”时，则不存在中间元件。
如本文中使用的“约”或“大约”包括所陈述的值且意味着在如由本领域普通技术人员考虑到所讨论的测量和与具体量的测量有关的误差(即，测量***的限制)所确定的对于具体值的可接受的偏差范围内。例如，“约”可意味着相对于所述的值的偏差在一个或多个标准偏差范围内，或者在±30％、20％、10％、5％范围内。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“取代(的)”指的是用选自如下的至少一个取代基代替基团或化合物的氢而进行取代：卤素、羟基、烷氧基、硝基、氰基、氨基、叠氮基、脒基、肼基、腙基、羰基、氨基甲酰基、硫醇基、酯基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐、磷酸基团或其盐、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C2-C20炔基、C6-C30芳基、C7-C30芳烷基、C1-C30烷氧基、C1-C20杂烷基、C3-C20杂芳烷基、C3-C30环烷基、C3-C15环烯基、C6-C15环炔基、C3-C30杂环烷基、及其组合。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“烷基”指的是具有规定的碳原子数且具有一的化合价的得自直链或支链饱和脂族烃的基团。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“烷氧基”指的是“烷基-O-”，其中术语“烷基”具有与以上描述的相同的含义。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“环烷基”指的是具有一个或多个其中所有环成员为碳的饱和环的单价基团。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，单独或组合使用的术语“芳基”指的是包含至少一个环且具有规定的碳原子数的芳族烃基。术语“芳基”可解释为包括具有稠合到至少一个环烷基环的芳族环的基团。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“杂环基团”指的是这样的单价基团：其具有一个或多个包括一到三个选自N、O、S、Se、和P的杂原子环成员的饱和环，其中剩余的环成员为碳。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“甲硅烷基”指的是具有式–SiR3的基团，其中R各自独立地选自如上定义的烷基和芳基。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“卤素”指的是氟、氯、溴、和碘。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“羟基”指的是“–OH”。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“硝基”指的是“–NO2”。
如本文中使用的，术语“亚烷基”指的是具有至少二的化合价的直链或支化的饱和脂族烃基，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚烷基的化合价。
如本文中使用的，术语“亚环烷基”指的是具有至少二的化合价的环状烃基，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚环烷基的化合价。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“亚芳基”指的是通过除去芳族环中的两个氢而获得的具有二的化合价的官能团，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚芳基的化合价。
如本文中使用的，术语“二价杂环基团”指的是这样的环状基团：其具有至少二的化合价，且包括一到三个选自N、O、S、Se、和P的杂原子环成员，其中剩余的环成员为碳，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述二价杂环基团的化合价。
当包含规定数量的碳原子的基团被在前面的段落中列举的任意基团取代时，所得“取代的”基团中的碳原子数定义为原始的(未取代的)基团中包含的碳原子和取代基中包含的碳原子(如果有的话)之和。例如，当术语“取代的C1-C30烷基”指的是被C6-C30芳基取代的C1-C30烷基时，所得芳基取代的烷基中的碳原子总数为C7-C60。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“杂”指的是其包括1-3个选自N、O、S、Se、和P的杂原子。
在下文中，描述根据一个实施方式的聚合物。
根据一个实施方式的聚合物包括一种或两种或更多种结构单元，且可包括由化学式1表示的第一结构单元。
化学式1
在化学式1中，
L1为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa，
R1-R5和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述聚合物可包括具有碳酸酯基团的主链和具有苯基乙炔基团的侧链。所述具有苯基乙炔基团的侧链相对于主链在基本上垂直的方向上设置，且因此所述聚合物可具有预定的光学性质。例如，所述聚合物可通过改变在主链方向上的折射率和在侧链方向上的折射率而控制取决于波长的双折射。
所述第一结构单元可例如由化学式1-1表示。
化学式1-1
在化学式1-1中，R1-R5和n1与以上描述的相同。
所述聚合物可进一步包括由化学式2表示的第二结构单元。
化学式2
在化学式2中，
L2为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，
化学式A
在化学式A中，
L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiRbRc、S、SO2、或其组合，和
R6、R7、Rb、和Rc独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。
所述第二结构单元可例如由化学式2-1到2-10之一表示，但不限于此。
在化学式2-1到2-10中，
R6-R12和R14-R19独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
R13为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。
当所述聚合物具有所述第一结构单元和所述第二结构单元时，可以约1:99-约99:1的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。在该范围内，柔性改善，且因此所述聚合物可容易地被转变成具有合乎需要的光学性质的膜。在以上范围内，可例如以约1:99-约50:50的摩尔比包括所述第一和第二结构单元。
所述聚合物可为无定形的，且可具有例如约120℃-约280℃、例如约180℃-约250℃的玻璃化转变温度。
所述聚合物的重均分子量可与其约0.2分升/克(dl/g)-约2.0dl/g、例如约0.3dl/g-约1.0dl/g的特性粘度一致。在该范围内，膜的可成形性和生产率可为有效的。
所述聚合物可通过已知的聚合方法例如使用二氢化合物和光气化合物例如三光气的合成方法、使用二氢化合物和碳酸酯的合成方法、使用二氢化合物和活性碳酸酯衍生物的合成方法等合成，而没有限制。
所述聚合物可例如以膜的形式制备，且因此可用作聚合物膜。所述聚合物膜可例如通过熔融挤出方法或溶液流延制备，而没有限制。当使用溶液流延制备所述聚合物膜时，可例如使用二氯甲烷、四氢呋喃、二氧戊环、二氧六环、二甲亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、或其组合，而没有限制。所述聚合物膜可为例如透明的，且因此对于需要透明性的任何东西可为可适用的。所述聚合物膜可用于多种应用，例如用于基板、保护膜、补偿膜、光学膜、介电层、绝缘层、粘合层等。
在下文中，描述根据一个实施方式的补偿膜。
根据一个实施方式的补偿膜包括一种或多种聚合物。
所述补偿膜可包括具有第一结构单元的第一聚合物。
化学式1
在化学式1中，
L1为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa,
R1-R5和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
所述第一聚合物可包括具有碳酸酯键的主链和具有苯基乙炔基团的侧链。所述具有苯基乙炔基团的侧链相对于主链设置在基本上垂直的方向上，且因此所述第一聚合物可具有预定的光学性质。例如，所述第一聚合物可通过改变主链方向上的折射率和侧链方向上的折射率而控制取决于波长的双折射。
所述第一结构单元可例如由化学式1-1表示。
化学式1-1
在化学式1-1中，R1-R5和n1与以上描述的相同。
所述第一聚合物可进一步包括由化学式2表示的第二结构单元。
化学式2
在化学式2中，
L2为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，
化学式A
在化学式A中，
L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiRbRc、S、SO2、或其组合，和
R6、R7、Rb和Rc独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。
所述第二结构单元可例如由化学式2-1到2-10之一表示，但不限于此。
在化学式2-1到2-10中，
R6-R12和R14-R19独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
R13为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。
当所述第一聚合物具有所述第一结构单元和所述第二结构单元时，可以约1:99-约99:1的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。在所述范围内，柔性改善，且因此所述第一聚合物可容易地转变为具有合乎需要的光学性质的膜。在以上范围内，可例如以约1:99-约50:50、例如约10:90-约50:50的摩尔比包括所述第一和第二重复单元。
除所述第一聚合物之外，所述补偿膜可进一步包括至少一种第二聚合物。所述补偿膜的光学和物理特性可由于所述第二聚合物的存在而得以改善。所述第二聚合物没有特别限制，只要其改善所述补偿膜的特性，且可具有例如包括取代或未取代的亚芳基和碳酸酯基团的结构单元。
所述补偿膜可例如为单轴或双轴伸长的。例如，所述补偿膜可为在单轴方向上伸长的。
所述补偿膜可具有如上所述的取决于波长的光吸收特性和预定的延迟折射率。
所述补偿膜的延迟(R)可作为面内延迟(Ro)和作为厚度方向延迟(Rth)获得。所述补偿膜的面内延迟(Ro)发生在补偿膜的平面内方向上且可表示为Ro＝(nx-ny)d。所述补偿膜的厚度方向延迟(Rth)发生在厚度方向上且可表示为Rth＝{[(nx+ny)/2]-nz}d。这里，nx为在所述补偿膜的具有最高面内折射率的方向(在下文中称为“慢轴”)上的折射率，ny为在所述补偿膜的具有最低的面内折射率的方向(在下文中称为“快轴”)上的折射率，nz为在与所述补偿膜的慢轴和快轴垂直的方向上的折射率，且d为所述补偿膜的厚度。
例如，所述补偿膜的在550纳米(nm)波长处的面内延迟(Ro)可为约10nm-约300nm。通过改变nx、ny、nz、和/或厚度(d)，所述补偿膜可具有在预定范围内的面内延迟和厚度方向延迟。
取决于波长，所述补偿膜的延迟可相同或不同。
例如，所述补偿膜可具有其中在较短波长处的光的延迟比在较长波长处的光的延迟大的正波长色散相位延迟。当550nm波长为参比波长时，例如所述补偿膜的在450nm、550nm、和650nm波长处的延迟值(R)可满足关系方程1或2。
关系方程1
R(450nm)≥R(550nm)>R(650nm)
关系方程2
R(450nm)>R(550nm)≥R(650nm)
例如，所述补偿膜可具有其中在较长波长处的光的延迟和在较短波长处的光的延迟基本上相等的平(flat)波长色散相位延迟。例如，所述补偿膜的在450nm、550nm、和650nm波长处的延迟值(R)可满足关系方程3。
关系方程3
R(450nm)＝R(550nm)＝R(650nm)
例如，所述补偿膜可具有其中在较长波长处的光的延迟大于在较短波长处的光的延迟的反波长色散相位延迟。例如，所述补偿膜的在450nm、550nm、和650nm波长处的延迟值(R)可满足关系方程4或5。
关系方程4
R(450nm)≤R(550nm)<R(650nm)
关系方程5
R(450nm)<R(550nm)≤R(650nm)
在关系方程1到5中，
R(450nm)为在450nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
可取决于波长如所期望地控制所述补偿膜的延迟。
由于高的双折射，所述补偿膜可具有相对低的厚度。所述补偿膜可具有例如约3微米(μm)-约200μm、例如约5μm-约150μm、或约5μm-约100μm的厚度。
所述补偿膜包括基本上透明的聚合物，并因此可用作基板且可省略在所述补偿膜下面的独立的基板。从而，可进一步减小所述补偿膜的厚度。因此，所述补偿膜可有效地应用于柔性显示装置例如可折叠显示装置或可弯曲显示装置中且可具有改善的光学性质和显示特性。
所述补偿膜可通过包括例如如下的方法制造：准备单体，使所述单体聚合以制备聚合物，制备膜形式的聚合物，和使所述膜伸长。
所述补偿膜可例如在约50℃-约500℃的温度下以约110％-约1,000％的伸长率伸长。伸长率指的是所述补偿膜的在伸长之后对伸长之前的长度比，且为在单轴伸长之后所述补偿膜的伸长程度的表示。
所述补偿膜可单独或与其它补偿膜一起使用。
所述补偿膜可与偏振器一起使用，其可用作光学膜以防止显示装置的外部光的反射。所述光学膜可例如为抗反射膜，但不限于此。
图1为显示根据一个实施方式的光学膜的示意性横截面图，图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图，且图3为偏振膜的实例的示意图。
参照图1，根据一个实施方式的光学膜100包括偏振器110和补偿膜120。补偿膜120可使通过偏振器110的光圆偏振以产生延迟，且可影响光的反射和/或吸收。
例如，光学膜100可安装在显示装置的一侧或两侧上，且特别地，可防止从外部流入所述显示装置的显示部分中的光(在下文中称为“外部光”)被反射。因此，光学膜100可防止由外部光反射引起的可视性恶化。
图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图。
参照图2，当从外部进入的入射的非偏振光通过偏振器110，且经偏振的光经由通过补偿膜120而被转变成圆偏振光时，仅作为两个偏振垂直分量中的一个偏振垂直分量的第一偏振垂直分量被透射。当圆偏振光在包括基板、电极等的显示面板50中被反射，并改变圆偏振方向，且圆偏振光再次通过补偿膜120时，仅作为所述两个偏振垂直分量中的另一偏振垂直分量的第二偏振垂直分量可被透射。当第二偏振垂直分量不通过偏振器110且光不离开到外部时，可提供防止外部光反射的效果。
偏振器110可为例如偏振片或偏振膜。
参照图3，偏振器110可为由例如聚合物71和二色性染料72的熔融共混物制成的自集成(self-integrated)偏振膜。
聚合物71可为例如疏水聚合物，例如聚烯烃例如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、及其共聚物；聚酰胺例如尼龙和芳族聚酰胺；聚酯例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；聚丙烯酰基例如聚(甲基)丙烯酸甲酯；聚苯乙烯类例如聚苯乙烯(PS)和丙烯腈-苯乙烯共聚物；聚碳酸酯；氯乙烯聚合物；聚酰亚胺；砜聚合物；聚醚砜；聚醚-醚酮；聚苯硫醚；乙烯醇聚合物；偏氯乙烯聚合物；乙烯基缩丁醛聚合物；烯丙基化物聚合物；聚甲醛；环氧聚合物；其共聚物；或其组合。
在一个实施方式中，聚合物71可为例如聚烯烃、聚酰胺、聚酯、(甲基)丙烯酸类聚合物、聚苯乙烯、其共聚物、或其组合，且可为例如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、尼龙、其共聚物、或其组合。
在一个实施方式中，聚合物71可为聚烯烃。所述聚烯烃可为例如选自聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚乙烯和聚丙烯的共聚物(PE-PP)的两种或更多种的混合物，例如聚丙烯(PP)和聚乙烯-聚丙烯共聚物(PE-PP)的混合物。
聚合物71在约400nm-约780nm的波长区域内可具有大于或等于约85％的透射率。聚合物71可在单轴方向上伸长。所述单轴方向可与随后将描述的二色性染料72的长度方向相同。
二色性染料72可分散在聚合物71中，且可在聚合物71的伸长方向上定向。二色性染料72透射预定波长区域中的两个垂直偏振分量中的一个垂直偏振分量。
基于100重量份的聚合物71，可以约0.01-约5重量份或约0.1-约5重量份的量包括二色性染料72。在这些范围内，可获得充足的偏振特性而不使偏振膜的透射率恶化。在以上范围内，基于100重量份的聚合物71，可以约0.05-约1重量份或约0.5-约1重量份的量包括所述二色性染料。
偏振器110可具有小于或等于约100μm、例如约30μm-约95μm的相对低的厚度。当偏振器110具有在以上范围内的厚度时，偏振器110比需要保护层例如三乙酰基纤维素(TAC)的聚乙烯醇偏振片薄，且因此可实现薄的显示装置。
补偿膜120可与以上描述的相同。
光学膜100可进一步包括安置在补偿膜120的一侧上的校正层(未示出)。所述校正层可为例如抗颜色偏移层，但不限于此。
光学膜100可进一步包括沿着边缘延伸的光阻挡层(未示出)。所述光阻挡层可以沿着光学膜100的周围的条形成，且例如，可安置在偏振器110和补偿膜120之间。所述光阻挡层可包括不透明材料例如黑色材料。例如，所述光阻挡层可由黑色墨制成。
光学膜100可应用于多种显示装置。
根据一个实施方式的显示装置包括显示面板和安置在所述显示面板的一侧上的光学膜。所述显示面板可为液晶面板或有机发光面板，但不限于此。
在下文中，描述有机发光器件作为显示装置的一个实例。
图4为显示根据一个实施方式的有机发光器件的示意性横截面图。
参照图4，根据一个实施方式的有机发光器件包括有机发光面板400和安置在有机发光面板400的一侧上的光学膜100。
有机发光面板400可包括基础基板410、下部电极420、有机发射层430、上部电极440、和封装基板450。
基础基板410可由玻璃或塑料制成。
下部电极420和上部电极440的至少一个可为阳极，且另一个可为阴极。阳极为注入有空穴的电极，且可由具有高的功函的透明导电材料制成以将发射的光透射到外部，例如ITO或IZO。阴极是注入有电子的电极，且可由具有低的功函且不影响有机材料的导电材料制成。阴极可选自例如铝(Al)、钙(Ca)、和钡(Ba)。
有机发射层430包括当向下部电极420和上部电极440施加电压时可发射光的有机材料。
可进一步在下部电极420和有机发射层430之间以及在上部电极440和有机发射层430之间设置辅助层(未示出)。所述辅助层用于平衡电子和空穴，且可包括空穴传输层、空穴注入层(HIL)、电子注入层(EIL)、和电子传输层。
封装基板450可由玻璃、金属、或聚合物制成，且可密封下部电极420、有机发射层430、和上部电极440以防止水分和/或氧气从外部流入。
光学膜100可设置在发光侧上。例如，当底发射结构在基础基板410侧发射光时，光学膜100可设置在基础基板410的外部侧上。另一方面，当顶发射结构在封装基板450侧发射光时，光学膜100可设置在封装基板450的外部侧上。
光学膜100包括自集成偏振器110和自集成补偿膜120。偏振器110和补偿膜120分别与以上描述的相同，且可防止显示装置具有由从外部流入的光在通过偏振器110且被有机发光面板400中的金属例如电极等反射之后引起的可视性恶化。因此，所述有机发光器件的显示特性可改善。
在下文中，描述液晶显示器(LCD)作为显示装置的一个实例。
图5为显示根据一个实施方式的液晶显示器的示意性横截面图。
参照图5，根据一个实施方式的液晶显示器(LCD)包括液晶显示器面板500、和安置在液晶面板500的一侧或两侧上的光学膜100。
液晶面板500可为扭曲向列(TN)模式面板、垂直定向(PVA)模式面板、面内切换(IPS)模式面板、光学补偿弯曲(OCB)模式面板等。
液晶面板500可包括第一显示面板510、第二显示面板520、以及介于第一显示面板510和第二显示面板520之间的液晶层530。
第一显示面板510可包括例如形成于基板(未示出)上的薄膜晶体管(未示出)和连接至其的第一电场产生电极(未示出)，且第二显示面板520可包括例如形成于基板(未示出)上的滤色器(未示出)和第二电场产生电极(未示出)。然而，其不限于此，且所述滤色器可被包括在第一显示面板510中，而所述第一电场产生电极和第二电场产生电极可与其一起设置在第一显示面板510上。
液晶层530可包括多个液晶分子。所述液晶分子可具有正的或负的介电各向异性。当所述液晶分子具有正的介电各向异性时，在未施加电场时其主轴可基本上平行于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向，且当施加电场时所述主轴可基本上垂直于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向。另一方面，当所述液晶分子具有负的介电各向异性时，在未施加电场时其主轴可基本上垂直于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向，且在施加电场时所述主轴可基本上平行于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向。
光学膜100可设置在液晶面板500的外侧上。尽管在图中光学膜100被显示成设置于液晶面板500的下部部分和上部部分两者上，但是其不限于此，且其可在液晶面板500的下部部分和上部部分的仅一个上形成。
在下文中，参照实施例更详细地说明本公开内容。然而，这些实施例是示例性的，且本公开内容不限于此。
实施例
聚合物的合成
合成实施例1
(1)步骤1
反应方案1
将141克(g)1-溴-4-碘苯、50.9g苯基乙炔、700毫升(ml)三乙胺、和700ml四氢呋喃放置于充满氮气的2升(L)烧瓶中。随后，向其添加0.882g氯化钯(II)(PdCl2)、1.91g碘化亚铜(I)(CuI)、和5.21g三苯基膦(PPh3)，且将混合物在氮气气氛中在室温下搅拌8小时。在将所得物在60℃下搅拌12小时之后，向其添加50.6g 2-甲基-3-丁炔-2-醇、0.435g氯化钯(II)、0.956g碘化亚铜(I)、和2.66g三苯基膦，并且将混合物回流48小时。随后，将不溶性物质过滤和分离，并将剩余的溶剂在减压下蒸馏且将残余物用乙酸乙酯重结晶，以获得104g2-甲基-4-(4-(苯基乙炔基)苯基)丁-3-炔-2-醇。
随后，将61.8g 2-甲基-4-(4-(苯基乙炔基)苯基)丁-3-炔-2-醇、74.1ml氢氧化四甲基铵(10％甲醇溶液)、和1,160ml甲苯放置于2L烧瓶中并且在75℃下在0.3个大气压(atm)的压力下搅拌1小时。随后，通过如下获得47.0g1-乙炔基-4-(苯基乙炔基)苯：将反应溶液用水洗涤，将其中的溶剂在减压下蒸馏，且将所得物通过柱色谱法纯化。
(2)步骤2
反应方案2
将14.9g 1-乙炔基-4-(苯基乙炔基)苯、20.1g 5-溴-1,3-苯二酚二乙酸酯、和350ml三乙胺放置在充满氮气的1L烧瓶中。随后，向其添加0.130g氯化钯(II)、0.274g碘化亚铜(I)、和0.766g三苯基膦，且将混合物在氮气气氛中在回流下搅拌48小时。随后，将所得物冷却至室温，并且将不溶性物质过滤和分离。将溶剂在减压下蒸馏，并且将残余物通过柱色谱法纯化，以获得28.0g 5-((4-苯基乙炔基)苯基)乙炔基)1,3-苯二酚二乙酸酯。
然后，将28.0g 5-((4-苯基乙炔基)苯基)乙炔基)1,3-苯二酚二乙酸酯、15.9g氢氧化钾、1,120ml甲醇、和28ml水放置在2L烧瓶中并且搅拌和回流1小时。将所得物冷却至室温并且用1当量浓度(N)HCl中和。随后，将溶剂在减压下蒸馏至初始量的约1/3，并且将其中沉积的固体物过滤和分离。将所述固体物用水洗涤并且在60℃下真空干燥。将所获得的产物通过柱色谱法纯化，以获得5.66g 5-((4-(苯基乙炔基)苯基)乙炔基)苯-1,3-二酚。
(3)步骤3
反应方案3
将1.94g氢氧化钠、29ml水、0.302g 5-((4-(苯基乙炔基)苯基)乙炔基)苯-1,3-二酚、和2.00g 2,2-双(4-羟基苯基)丙烷放置在装备有机械搅拌器的200mL烧瓶中。随后，向其添加溶解在32ml二氯甲烷中的1.44g三光气，并且将混合物搅拌15分钟。然后，向其添加9mg三乙胺，并将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％盐酸水溶液和水洗涤，通过使用甲醇进行再沉淀，且在60℃下真空干燥12小时，以获得2.10g聚碳酸酯。
在反应方案3中，x:y为约9:1。
合成实施例2
步骤1和2与合成实施例1中相同。
步骤3：
将1.64g氢氧化钠、24ml水、0.509g 5-((4-(苯基乙炔基)苯基)乙炔基)苯-1,3-二酚、和1.50g 2,2-双(4-羟基苯基)丙烷放置在装备有机械搅拌器的200mL烧瓶中。随后，向其添加溶解在27ml二氯甲烷中的0.866g三光气，并且将混合物搅拌15分钟。然后，向其添加6mg三乙胺，并将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％盐酸水溶液和水洗涤，通过使用甲醇进行再沉淀，且在60℃下真空干燥12小时，以获得聚碳酸酯。
在反应方案3中，x:y为约8:2。
合成实施例3
步骤1和2与合成实施例1中相同。
步骤3：
将1.50g氢氧化钠、22ml水、0.699g 5-((4-(苯基乙炔基)苯基)乙炔基)苯-1,3-二酚、和1.20g 2,2-双(4-羟基苯基)丙烷放置在装备有机械搅拌器的200mL烧瓶中。随后，向其添加溶解在48ml二氯甲烷中的1.11g三光气，并且将混合物搅拌15分钟。然后，向其添加7mg三乙胺，并且将混合物在室温下搅拌90分钟。然后，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％盐酸水溶液和水洗涤，通过使用甲醇进行再沉淀，且在60℃下真空干燥12小时，以获得聚碳酸酯。
在反应方案3中，x:y为约7:3。
合成实施例4
步骤1和2与合成实施例1中相同。
步骤3：
将1.61g氢氧化钠、24ml水、0.997g 5-((4-(苯基乙炔基)苯基)乙炔基)苯-1,3-二酚、和1.10g 2,2-双(4-羟基苯基)丙烷放置在装备有机械搅拌器的200mL烧瓶中。随后，向其添加溶解于52ml二氯甲烷中的0.975g三光气，并且将混合物搅拌15分钟。接着，向其添加6mg三乙胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％盐酸水溶液和水洗涤，通过使用甲醇进行再沉淀，且在60℃下真空干燥12小时，以获得聚碳酸酯。
在反应方案3中，x:y为约6:4。
膜的制造
通过如下制备20重量％(wt％)聚碳酸酯溶液：将根据合成实施例1-4的各聚碳酸酯溶解在四氢呋喃和二氧六环(1/1，体积对体积(v/v))的混合溶剂中。随后，将所述聚碳酸酯溶液涂覆在玻璃基板上并且在40℃下干燥1小时，然后在80℃下干燥1小时，以形成薄膜。从所述玻璃基板取下所述薄膜，以制得100μm厚的聚碳酸酯膜。
评价1
测量所述聚碳酸酯膜的黄色指数和光透射率。
所述黄色指数和光透射率是通过使用光谱色度计MC-3600d(Konica MinoltaInc.)根据ASTMD1925利用透射的光测量的，且通过使用MC-3600d(Konica Minolta Inc.)测量光透射率至少两次，然后对其求平均值。
结果提供于表1中。
表1
黄色指数(YI，％) 光透射率(％)
合成实施例1 1.33 88.4
合成实施例2 2.83 87.0
合成实施例3 3.64 87.9
合成实施例4 4.30 86.9
参照表1，分别由根据合成实施例1-4的各聚碳酸酯形成的聚碳酸酯膜具有令人满意的黄色指数和光透射率。
补偿膜的制造
实施例1
通过如下制造具有46微米(μm)的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例1的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以240％的伸长率伸长。
实施例2
通过如下制造具有56μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例1的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在230℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例3
通过如下制造具有56μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例2的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例4
通过如下制造具有52μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例2的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以200％的伸长率伸长。
实施例5
通过如下制造具有45μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例2的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以240％的伸长率伸长。
实施例6
通过如下制造具有54μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例2的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在210℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例7
通过如下制造具有54μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例2的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在230℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例8
通过如下制造具有51μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例3的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例9
通过如下制造具有46μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例3的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以200％的伸长率伸长。
实施例10
通过如下制造具有40μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例3的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以240％的伸长率伸长。
实施例11
通过如下制造具有49μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例3的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在210℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例12
通过如下制造具有51μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例3的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在230℃下在单轴方向上以180％的伸长率伸长。
实施例13
通过如下制造具有48μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例4的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以200％的伸长率伸长。
实施例14
通过如下制造具有46μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例4的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在180℃下在单轴方向上以240％的伸长率伸长。
实施例15
通过如下制造具有51μm的厚度的补偿膜：使由根据合成实施例4的聚碳酸酯制成的聚碳酸酯膜在230℃下在单轴方向上以200％的伸长率伸长。
评价2
评价根据实施例1-15的补偿膜的面内延迟值、厚度方向延迟值、和波长色散。
所述面内延迟值和厚度方向延迟值是使用Axoscan设备(Axometrics,Inc.)测量的。
面内延迟值和面内延迟值的波长色散示于表2中。
表2
参照表2，根据实施例1-15的补偿膜具有其中在较短波长处的光的延迟大于在较长波长处的光的延迟的正波长色散相位延迟、或其中在较长波长处的光的延迟大于在较短波长处的光的延迟的反波长色散相位延迟。具体地，根据实施例1-7的补偿膜具有正波长色散相位延迟且根据实施例8-15的补偿膜具有反波长色散相位延迟。由这些结果，发现，通过控制多种因素例如聚合物的结构单元的含量比率、以及膜的伸长温度和伸长率，可制造具有合乎需要的延迟值和波长色散的补偿膜。
尽管已经关于目前被认为是实践性的示例性实施方式的内容描述了本公开内容，但是将理解，本公开内容不限于本实施方式，而是相反，意图涵盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种变型和等同布置。

Claims (16)

1.聚合物，其包括由化学式1表示的第一结构单元：
化学式1
其中，在化学式1中，
L1为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa，
R1-R5和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
2.如权利要求1所述的聚合物，其中所述第一结构单元由化学式1-1表示：
化学式1-1
其中，在化学式1-1中，
R1-R5独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
n1为1-5。
3.如权利要求1所述的聚合物，其中所述聚合物进一步包括由化学式2表示的第二结构单元：
化学式2
其中，在化学式2中，
L2为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，
化学式A
其中，在化学式A中，
L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiRbRc、S、SO2、或其组合，和
R6、R7、Rb、和Rc独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。
4.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第二结构单元由化学式2-1到2-10之一表示：
其中，在化学式2-1到2-10中，
R6-R12和R14-R19独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和
R13为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。
5.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比为1:99-99:1。
6.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比为1:99-50:50。
7.补偿膜，其包括如权利要求1-6任一项所述的聚合物作为第一聚合物。
8.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜进一步包括不同于所述第一聚合物的第二聚合物。
9.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜为单轴或双轴伸长的。
10.如权利要求9所述的补偿膜，其中所述补偿膜被伸长1.1倍-5.0倍。
11.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜的在550纳米波长处的面内延迟为10纳米-300纳米。
12.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值满足关系方程1到5之一：
关系方程1
R(450nm)≥R(550nm)>R(650nm)
关系方程2
R(450nm)>R(550nm)≥R(650nm)
关系方程3
R(450nm)＝R(550nm)＝R(650nm)
关系方程4
R(450nm)≤R(550nm)<R(650nm)
关系方程5
R(450nm)<R(550nm)≤R(650nm)
其中，在关系方程1到5中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
13.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述第一聚合物为如权利要求3中定义的聚合物，且所述第一聚合物以10:90-20:80的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元，和
所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值满足关系方程1到3之一：
关系方程1
R(450nm)≥R(550nm)>R(650nm)
关系方程2
R(450nm)>R(550nm)≥R(650nm)
关系方程3
R(450nm)＝R(550nm)＝R(650nm)
其中，在关系方程1到3中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
14.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述第一聚合物为如权利要求3中定义的聚合物，且所述第一聚合物以30:70-40:60的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元，和
所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值满足关系方程4或5：
关系方程4
R(450nm)≤R(550nm)<R(650nm)
关系方程5
R(450nm)<R(550nm)≤R(650nm)
其中，在关系方程4和5中，
R(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，
R(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和
R(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。
15.光学膜，包括
如权利要求7-14任一项所述的补偿膜，和
偏振器。
16.显示装置，其包括如权利要求7-14任一项所述的补偿膜或如权利要求15所述的光学膜。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7121884B1 (ja) 2021-03-29 2022-08-19 三菱マテリアル株式会社 銅粒子及びその製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103703060A (zh) * 2011-06-20 2014-04-02 Sk新技术株式会社 光学膜
CN105153442A (zh) * 2014-06-10 2015-12-16 Sk新技术株式会社 光学补偿膜

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3500485B2 (ja) * 1996-06-10 2004-02-23 株式会社リコー 芳香族ポリカーボネート樹脂
US5807912A (en) 1996-10-03 1998-09-15 General Electric Company Ortho esters as BPA scavenger in polycarbonate product
EP1457792A1 (en) * 1998-10-30 2004-09-15 Teijin Limited Retardation film and optical device employing it
JP2001318233A (ja) 2000-02-28 2001-11-16 Teijin Ltd 位相差フィルム
TW533323B (en) * 2000-04-24 2003-05-21 Teijin Ltd Process for producing retardation film
JP4264307B2 (ja) 2003-07-17 2009-05-13 富士フイルム株式会社 液晶性化合物、液晶性組成物および位相差板
JP2005156685A (ja) 2003-11-21 2005-06-16 Teijin Ltd ポリカーボネート系配向フィルム
JP2005234385A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及び平版印刷版原版
JP2005272735A (ja) 2004-03-25 2005-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd ポリカーボネート重合体、該重合体の製造方法及び該重合体よりなる光学成形品
JP4486854B2 (ja) 2004-06-18 2010-06-23 日東電工株式会社 位相差フィルムの製造方法
JP5252611B2 (ja) * 2006-09-15 2013-07-31 日東電工株式会社 位相差フィルム、光学積層体、液晶パネル、及び液晶表示装置
KR101095695B1 (ko) 2007-05-22 2011-12-20 주식회사 엘지화학 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 이 액정 조성물을 사용한 광학 필름
KR101000784B1 (ko) * 2008-07-30 2010-12-13 한국화학연구원 덴드론구조가 치환된 폴리아센계 유기 화합물 및 이를이용한 유기박막트랜지스터
JP2011154367A (ja) * 2009-12-28 2011-08-11 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
KR20150003653A (ko) * 2013-07-01 2015-01-09 주식회사 엘지화학 신규한 디히드록시폴리아릴아세테이트, 고경도 폴리카보네이트 공중합체 및 그 제조방법
JP2015060173A (ja) 2013-09-20 2015-03-30 大日本印刷株式会社 プリズムシート、面光源装置、映像源ユニット、及び液晶表示装置
KR101628288B1 (ko) * 2013-09-30 2016-06-08 주식회사 엘지화학 음성 광학 분산도를 갖는 광학 소자 제조용 조성물 및 이로부터 제조된 광학 이방체

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103703060A (zh) * 2011-06-20 2014-04-02 Sk新技术株式会社 光学膜
CN105153442A (zh) * 2014-06-10 2015-12-16 Sk新技术株式会社 光学补偿膜

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