CN106892572A - 一种ag玻璃抛光液及ag玻璃生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种AG玻璃抛光液,包括CeO2,La2O3,40%的氢氟酸;40%硫酸;75%硝酸。采用AG玻璃抛光液生产AG玻璃的工艺,步骤为将玻璃抛光,清洗;对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,预洗1‑5min蒙砂处理,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;对玻璃工作面进行抛光处理20‑30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。本发明通过增加一道专业物理抛光工序来提高AG玻璃表面微观颗粒度,提高均匀性,粒子凹坑直径极差由原来的40~60μm,提高到极差在10μm以内。
Description
技术领域
本发明涉及一种玻璃抛光粉,并将该抛光粉应用于AG玻璃的生产。
背景技术
目前流行的蚀刻法AG加工工艺,浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理;该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求,但针对高端领域,AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。本发明是在该AG生产工艺基础上,增加专业物理抛光工序,对玻璃AG面在蚀刻前进行一次物理抛光处理,使玻璃AG面微观颗粒形貌均匀,从而在AG工序后达到更加均匀的AG效果。
目前市面上流行的AG玻璃,主流工艺是采用腐蚀法制程生产AG玻璃;在玻璃空气面直接经过化学预处理后做蒙砂抛光工序,此工艺制备的AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差:粒子凹坑直径极差范围为40~60um。实际测试一组数据,如在370mm*470mm大小玻璃面上,做成光泽度为75%的AG玻璃,整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径(RSM)数据如下:78um;89um;125um;90um;98um;126um;89um;96um;129um;9点极差范围在51um。
目前流行的蚀刻法AG加工工艺,浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理;该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求,但针对高端领域,AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。
发明内容
一种AG玻璃抛光液,包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为20-30%,La2O3占质量比为15-35%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为20-30%;质量浓度为40%硫酸占质量比为10-20%;质量浓度为75%硝酸占质量比为5-10%。
进一步优选为包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
所述的AG玻璃抛光液生产AG玻璃的工艺,包括如下步骤:
步骤一:将玻璃按照标示角30-90°将锡面吸附在抛光设备上盘;
步骤二:启动抛光设备,进行抛光,抛光时间为3~6分钟;
步骤三:卸片,清洗刷洗机清洗;
步骤四:对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,使其在后工序中保证不受任何影响;
步骤五:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1;
步骤六:对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
步骤七:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。
所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。将基板玻璃空气面经过特殊物理抛光后,再经过预处理后做蒙砂抛光工序,AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性有很大提高,实际测试一组数据,如在370*470大小玻璃面上,做成光泽度为75%的AG玻璃,整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径(RSM)数据如下:88um;95um;92um;89um;94um;92um;94um;95um;92um;9点极差在7um;很大程度上提高了粒子凹坑直接均匀性。
本发明是在现有AG生产工艺基础上,在弱酸预处理前对玻璃基板空气面进行特殊物理抛光,抛光粉粒直径均值约为1.0~1.6um的研磨粉(主要成分为CeO2,La2O3稀土材料)。通过精抛光工艺,实现玻璃表面微观粒子形貌均匀,从而在后面AG工序中达到粒子形貌更均匀,进一步提高AG制程良率。
与现有的技术相比,本发明通过增加一道物理抛光工序来提高AG玻璃表面微观颗粒度,提高均匀性,粒子凹坑直径极差由原来的40~60um,提高到极差在10以内。同时,因为粒子凹坑均匀性提高,AG制程中的暗斑和暗点蚀刻不良减少,不良率由原来的10%以上下降到到3%以下。
附图说明
图1为用抛光粉抛光后,玻璃面的电镜结构图,其中图A为100倍放大图;图B为150倍放大图。
具体实施方式
AG玻璃抛光液生产AG玻璃的工艺,包括如下步骤:
步骤一:将玻璃按照标示角30°将锡面吸附在抛光设备上盘;
步骤二:启动抛光设备,进行抛光,抛光时间为3~6分钟;
步骤三:卸片,清洗刷洗机清洗;
步骤四:对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,使其在后工序中保证不受任何影响;
步骤五:对玻璃的工作面用的药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1;
步骤六:对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
步骤七:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。
所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。
所述的抛光液包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
本发明关键点主要为AG工艺制程前增加物理抛光工序;通过增加该物理抛光工序,使后面AG工序制程后玻璃表面微光颗粒度更均匀,降低AG工序中的蚀刻不均造成的暗点缺陷和暗斑缺陷。
Claims (4)
1.一种AG玻璃抛光液,其特征在于,包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为20-30%,La2O3占质量比为15-35%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为20-30%;质量浓度为40%硫酸占质量比为10-20%;质量浓度为75%硝酸占质量比为5-10%。
2.一种AG玻璃抛光液,其特征在于,包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
3.采用权利要求1所述的AG玻璃抛光液生产AG玻璃的工艺,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一:将玻璃按照标示角30-90°将锡面吸附在抛光设备上盘;
步骤二:启动抛光设备,进行抛光,抛光时间为3~6分钟;
步骤三:卸片,清洗刷洗机清洗;
步骤四:对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,使其在后工序中保证不受任何影响;
步骤五:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1;
步骤六:对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
步骤七:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。
4.权利要求3所述的生产AG玻璃的工艺,其特征在于,所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。
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