CN106887253B - 一种采用测试针卡进行dram晶圆测试的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出一种采用测试针卡进行DRAM晶圆测试的方法,避免了由于测试针卡异常造成的量产滞后问题,并同时降低了量产的成本。本发明的测试方案包括以下步骤:1)晶圆起测;2)确定测试针卡中需要保护的关键探针,依次单独进行有关所述关键探针的测试项;若某一测试项未通过,则关断相应的失效芯片电源,然后对其他芯片继续进行下一测试项,直至完成所有的测试项;3)功能测试,即执行DRAM的各种功能测试项;4)测试结束。
Description
技术领域
本发明涉及一种采用测试针卡进行DRAM晶圆测试的方法。
背景技术
DRAM在测试过程中有降低测试成本的需求,因此测试针卡的同测数越来越高,随之而引起的测试针卡的制造成本和维修成本也相应增高。以256芯片同测的测试针卡为例,一张针卡的价格为20万美金,一根测试探针的维修费用为1000美金。
传统的DRAM晶圆测试方法如图1所示,测试分三步执行:
步骤1:晶圆起测;
步骤2:功能测试,即执行DRAM的各种功能测试项;
步骤3:测试结束。
传统的DRAM晶圆测试中没有考虑到测试针卡探针的保护。按照以上测试流程,当测试异常发生时,极易造成测试探针的损毁,探针的损毁将进一步导致量产的滞后以及芯片成本的提升。
发明内容
本发明对传统的采用测试针卡进行DRAM晶圆测试的流程进行了改进,提出一种新的测试方法,能够尽可能避免芯片量产滞后同时降低芯片成本。
本发明的测试方案如下:
步骤1:晶圆起测;
步骤2:确定测试针卡中需要保护的关键探针,依次单独进行有关所述关键探针的测试项;若某一测试项未通过,则关断相应的失效芯片电源,然后对其他芯片继续进行下一测试项,直至完成所有的测试项;
步骤3:功能测试,即执行DRAM的各种功能测试项;
步骤4:测试结束。
目前,DRAM量产测试针卡的关键探针主要有两类,即电源探针(VDD和GND)以及控制芯片特性电压(VPP、VNWLL等)的探针,由于这两类探针在测试过程中,会有高电压或大电流的流过,因此这两类探针芯片间不能共享,保护这两类探针很重要。
所以,通常需要保护的关键探针包括电源探针和控制芯片特性电压的探针;有关关键探针的测试项依次包括:VDD和GND短路测试、VDD电流钳位下的IDD1测试、特性电压高电压下的DC测试。
本发明的有益效果如下:
有效地保护了DRAM测试针卡的关键探针,避免了由于测试针卡异常造成的量产滞后问题,并同时降低了量产的成本。
附图说明
图1为传统的DRAM晶圆测试的流程图。
图2为4芯片同测的测试针卡和芯片连接示意图。
图3为本实施例的DRAM晶圆测试的流程图。
具体实施方式
如图3所示,本实施例的DRAM晶圆测试分为六步:
步骤1:晶圆起测;
步骤2-4:三组测试项,保护测试针卡的关键探针;
步骤5:功能测试,即执行DRAM的各种功能测试项;
步骤6:测试结束。
与传统的DRAM晶圆测试流程图相比,步骤2-4为新增的测试流程,即在晶圆起测与功能测试之间,加入了三组测试项,并且在每一组测试项执行完毕后,均会对测试结果进行判断,只有测试通过的芯片才能进入接下来的测试流程,失效的芯片会关断测试机台对测试针卡的供电,以达到保护测试针卡关键探针的目的。这三组测试项为:
第一组:VDD和GND短路测试;
第二组:VDD电流钳位下的IDD1测试;
第三组:特性电压高电压下的DC测试。
下面,分别对新加入的三组测试项及控制方法进行详细的说明。
第一组测试项为VDD和GND短路测试,目的是保护针卡的电源探针VDD和GND。
针卡的电源(VDD和GND)探针负责连接测试机台和DRAM的电源和地,是保证DRAM工作的最基本的探针。VDD和GND短路测试时晶圆起测后的第一个测试项,在该测试项中,我们将会试探性的加VDD,即不能将芯片正常工作时所需的VDD直接加到针卡的VDD探针上,以防止一旦芯片存在VDD和GND的短路,那么大电流直接通过VDD流到GND上,VDD和GND探针有损坏的风险。以DDR3芯片为例,正常工作的VDD是1.5V,那么在侦测VDD是否短路的测试项中,我们将会在VDD上加0.3V的电压,并量测VDD探针上的电流,如果VDD和GND无短路现象,那么VDD探针上的电流值在十微安量级,如果VDD和GND有短路现象,那么VDD探针上的电流值会在百微安量级。针对百微安测量值的芯片,我们将会在整个测试流程中,关断测试机台对针卡的VDD的供电,以达到保护VDD和GND的目的。
第二组测试项为VDD电流钳位下的IDD1测试,该测试项可以进一步的保护VDD探针。IDD1是DRAM芯片正常工作状态下的电流,以DDR3芯片为例,通常情况下,IDD1的电流在30mA左右。针对该测试项,我们会进行双重控制以保护针卡。第一重控制,针对IDD1的实测值进行判断,如果当IDD1大于50mA时,通常芯片的功能或后续的可靠性也会异常,这部分芯片不需要封装。因此当IDD1大于50mA时,将关断测试机台对芯片VDD上的供电,保证芯片在接下来的功能测试项中不会处于异常工作状态,进一步保证VDD甚至与该芯片相连接的所有探针;第二重控制,针对VDD进行电流钳位。IDD1异常的芯片,虽然量测值可能只有50mA,但某些时间点的瞬态IDD1存在百微安量级的可能性,而测试针卡本身的VDD承受电流是有上限的,如果超过上限,短时间内不会发现VDD探针的异常,但是随着晶圆测试量的增加,VDD上的累积效应会逐渐明显,最终影响量产,因此,在量测IDD1时,一定要根据针卡的设计规格进行电流钳位。例如,针卡的设计规格要求VDD探针上的电流上限是300mA,那么,在测量IDD1时,我们会给+/-250mA的电流钳位,进一步保证VDD探针的安全。
第三组测试项为特性电压高电压下的DC测试,目的是保护测试针卡的特性电压探针。
DRAM晶圆级测试中,芯片的特性电压会通过探针和测试机台相连接,达到灵活控制测试条件的目的。当某个功能测试项中,如果芯片的特性电压有高电压输入的需求时,则必须进行探针的保护。假设在一个功能测试项中,某特性电压需要高电压输入,那么会在该功能测试项执行前,引入一个测试时间很短的DC测试项,该DC测试项采用和功能测试项相同的电压输入条件,在该条件下,量测特性电压探针上的电流值,如果某些芯片的电流值过大,则这些芯片工作异常,不但不能通过同条件的功能测试,并且还有损坏与之相连的特性探针的风险,因此必须切断这些芯片的供电电源,在接下来的同条件的长时间的功能测试项中,这些芯片不工作,与这些芯片相连的特性探针才能得以保护。例如,在晶圆测试中,会有晶圆级的老化测试项,这些测试项需要长时间的加高电压VPP(DDR3芯片VPP为2.85V,老化测试项VPP需加4V,并且老化测试时间均在分钟的量级上),那么会在这些老化测试项执行前,引入一个4V VPP电压输入的DC测试项(DC测试项的测试时间是毫秒量级),量测VPP探针上的电流,电流值在20mA以内,VPP探针没有损坏的风险,这些芯片可以继续进行长时间的老化测试;电流值超过20mA的芯片,如果进行长时间的老化测试,这些芯片的VPP探针被损坏的风险极大,因此必须对这些芯片进行断电处理,进而达到保护这些芯片VPP探针的目的。
Claims (1)
1.一种采用测试针卡进行DRAM晶圆测试的方法,包括:
步骤1:晶圆起测;
步骤2:确定测试针卡中需要保护的关键探针,依次单独进行有关所述关键探针的测试项;在每一组测试项执行完毕后,均会对测试结果进行判断,只有测试通过的芯片才能进入接下来的测试流程;若某一组测试项未通过,则关断相应的失效芯片电源,失效的芯片会关断测试机台对测试针卡的供电,以保护测试针卡关键探针;然后对其他芯片继续进行下一测试项,直至完成所有的测试项;
所述关键探针为电源探针和控制芯片特性电压的探针;有关所述关键探针的测试项依次包括:VDD和GND短路测试、VDD电流钳位下的IDD1测试、特性电压高电压下的DC测试;
所述VDD电流钳位下的IDD1测试为双重控制:
第一重控制为针对IDD1的实测值进行判断;
第二重控制为针对VDD进行电流钳位;
步骤3:功能测试,即执行DRAM的各种功能测试项;
步骤4:测试结束。
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